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用质子激发X射线能谱分析技术测量FVAPD装置合成薄膜均匀性
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作者 王广甫 张荟星 《北京师范大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2004年第6期765-768,共4页
采用质子激发的X射线能谱分析 (PIXE)方法对磁过滤阴极真空弧沉积 (FVAPD)装置在Al板上合成Ti膜相对厚度进行了测量 ,给出了沉积靶室中不同位置大面积合成薄膜的均匀性 .通过同背散射分析 (RBS)测量结果的比较表明 :利用在轻衬底上合成... 采用质子激发的X射线能谱分析 (PIXE)方法对磁过滤阴极真空弧沉积 (FVAPD)装置在Al板上合成Ti膜相对厚度进行了测量 ,给出了沉积靶室中不同位置大面积合成薄膜的均匀性 .通过同背散射分析 (RBS)测量结果的比较表明 :利用在轻衬底上合成重元素薄膜的PIXE分析可以快速、无损和精确地测量FVAPD装置合成薄膜的均匀性 . 展开更多
关键词 磁过滤阴极真空弧沉积(fvapd) 均匀性 质子激发的X射线能谱分析(PIXE)
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