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退火温度对Fe-Cu颗粒膜巨磁阻以及磁性能的影响 被引量:1
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作者 汪元亮 成刚 +2 位作者 顾正飞 成均 江民红 《电工材料》 CAS 2006年第4期43-46,共4页
利用直流磁控溅射法制备Fe28Cu72(体积分数比)颗粒膜,在不同温度下进行高真空退火,用X射线衍射仪(XRD)对样品进行结构分析,用四探针测量样品的巨磁阻效应,对测量结果进行分析,探讨了不同热处理温度对Fe_Cu颗粒膜巨磁阻的影响。结果表明... 利用直流磁控溅射法制备Fe28Cu72(体积分数比)颗粒膜,在不同温度下进行高真空退火,用X射线衍射仪(XRD)对样品进行结构分析,用四探针测量样品的巨磁阻效应,对测量结果进行分析,探讨了不同热处理温度对Fe_Cu颗粒膜巨磁阻的影响。结果表明:退火温度对Fe_Cu颗粒膜的影响至关重要,Fe_Cu颗粒膜经不同温度相同时间热处理后,Fe、Cu分离越来越明显,且磁电阻效应随着温度的升高而增强,Fe_Cu颗粒膜的磁性为硬磁性。 展开更多
关键词 fe—cu颗粒膜 巨磁阻 GMR 磁控溅射 硬磁
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