镀液成分对Fe-Co-W薄膜结构和磁性能的影响

采用电沉积法在铜电极上进行了Fe-Co-W磁性薄膜的制备,并研究了镀液中钨盐(Na2WO4·2H2O)含量对Fe-Co-W薄膜形貌、结构和磁性能的影响。镀液组分浓度为Fe SO4·7H2O 0.08 mol/L,Co SO4·7H2O 0.05 mol/L,Na2WO4·2H2O 0.01-0.015 mol/L,H3BO30.2 mol/L,Na3C6H5O7·2H2O 0.2mol/L。结果表明,Na2WO4·2H2O含量对薄膜的表面形貌影响较大。随着溶液中Na2WO4·2H2O含量的增加,薄膜中W含量增加,纳米晶晶粒尺寸减小,薄膜矫顽力减小,在Na2WO4·2H2O为19.8 wt.%时薄膜为非晶态,Co含量反常增加,导致矫顽力反常增加。在Na2WO4·2H2O含量为27.3 wt.%时,其薄膜矫顽力为2.74 Oe,软磁性能最佳。

钼酸钠对电沉积Co-Pt-Mo磁性薄膜性能的影响

在纯铜表面制备了Co-Pt-Mo磁性薄膜,并研究了钼酸钠的质量浓度对Co-Pt-Mo磁性薄膜性能的影响。结果表明:随着钼酸钠的质量浓度的增加,Co-Pt-Mo磁性薄膜的厚度和电流效率显著提高,钴和钼的质量分数逐渐增大,使得比饱和磁化强度增大。然而,当钼酸钠的质量浓度为10 g/L时,由于剧烈的析氢和金属氢氧化物胶体的阻碍作用,使得电流效率下降,Co-Pt-Mo磁性薄膜表面的颗粒发生团聚现象,孔隙率增大,矫顽力降低。当钼酸钠的质量浓度为8 g/L时, Co-Pt-Mo磁性薄膜具有致密的结构和最大的矫顽力。

电沉积Co-Pt-W磁性薄膜及其性能的研究

使用电沉积技术制备了磁性能较好的Co-Pt-W薄膜,并研究了pH值对薄膜的成分、结构、表面形貌和磁性能的影响。研究发现:Co-Pt-W薄膜是一种具有fct四方结构的晶态颗粒膜。随着pH值的升高,Co-Pt-W薄膜中Co和W的质量分数下降,而Pt的质量分数增大。pH值过低,析氢作用明显,Co-Pt-W薄膜表面颗粒较大,并且孔隙率高。增大pH值,有利于细化Co-Pt-W薄膜表面颗粒并降低孔隙率,从而提高矫顽力。

电沉积钴-钨合金薄膜的磁性能及其测量方法

采用电沉积技术在纯铜片上制备了钴-钨合金薄膜,并研究了钴-钨合金薄膜的磁性能与其厚度、结构及表面形貌等的关系。结果表明:钻鹄电沉积属于诱导共沉积,铸在鉛表面氢原子的催化作用下与钴发生共沉积。钴-钨合金薄膜的厚度约为6um,属于Co3W四面体结构,其表面由典型瘤状颗粒构成。钴-钨合金薄膜垂直方向的磁性能优于平行方向的磁性能,最大矫顽力为74.42 kA/m.

用于磁记录磁头的镍-铁-钨合金薄膜的制备及其性能

采用电沉积方法制备了用于磁记录磁头的镍-铁-钨合金薄膜,并研究了钨酸钠的质量浓度对镍-铁-钨合金薄膜的成分、硬度、表面形貌及磁性能的影响。研究发现:随着钨酸钠的质量浓度的增加,镍-铁-钨合金薄膜中镍和钨的质量分数逐渐提高,而铁的质量分数有所下降。镍-铁-钨合金薄膜是一种典型的晶态颗粒膜。增加钨酸钠的质量浓度,有利于提高镍-铁-钨合金薄膜的硬度和比饱和磁化强度。当钨酸钠的质量浓度为2 g/L时,镍-铁-钨合金薄膜的矫顽力最小,约为1.96 kA/m。

用于微电机系统的Co-Pt-P磁性薄膜的制备

使用电沉积方法制备了用于微电机系统的Co-Pt-P磁性薄膜。研究了次磷酸钠的浓度对薄膜的沉积速率、厚度、成分、表面形貌及磁性能的影响。结果表明:提高次磷酸钠的浓度,有利于加快沉积速率,提高薄膜中钴和磷的质量分数。Co-Pt-P磁性薄膜是一种典型的瘤状颗粒膜。磷的析出有利于细化薄膜表面颗粒,限制畴壁位移,从而大大提高薄膜的矫顽力。然而,高浓度的次磷酸钠会破坏镀液的稳定性,使薄膜的磁性能下降。

复合电沉积CoNiP-BaFe_(12)O_(19)磁性薄膜

采用复合电沉积技术制备了磁性CoNiP-BaFe_(12)O_(19)复合薄膜,分别用SEM、EDS、XRD、VSM对复合薄膜进行了表征.SEM、EDS、XRD测试表明BaFe_(12)O_(19)粒子被成功地掺入CoNiP硬磁薄膜中.考察了基础电解液和复合电解液的电化学行为,并探讨了BaFe_(12)O_(19)粒子和表面活性剂CTAB的加入对薄膜中各成分相对含量的影响.结果表明,当表面活性剂CTAB加入量为0.6g·L^(-1)时,复合膜中BaFe_(12)O_(19)相对含量最高达20%.VSM测试表明BaFe_(12)O_(19)粒子的掺入显著地增加了薄膜的矫顽力和剩磁比.

电沉积制备Co-Pt-Mo磁性薄膜

通过电沉积方法在铜基底上制得Co-Pt-Mo磁性薄膜。通过对镀液的循环伏安分析,确定了合适的沉积电位。研究了pH值对薄膜的成分、表面形貌、结构以及磁性能的影响。结果表明:随着pH值的增大,薄膜中Co的质量分数从26.9%逐渐增加到63.8%,矫顽力与比饱和磁化强度分别从0.3kA/m和189kA/m增加到24.1kA/m和1 283kA/m。

高频脉冲电沉积Fe-Co合金组织和磁性能研究

用纯Fe片做阳极,研究在纯Cu基体上采用高频(20-140kHz)脉冲电流获得的Fe-Co合金薄膜组织和性能与沉积参数的关系,分析了阳极在沉积过程中对镀层组织和性能的作用机理。电子探针(EPMA)照片表明,提高占空比,镀层粗糙度增加。扫描电镜(SEM)结果进一步表明,提高脉冲频率可以显著增加沉积速率,使镀层变厚,因此可采用高频脉冲来探索高速电镀技术。采用X射线衍射仪(XRD)分析了镀层结构,发现提高脉冲频率,fcc(111)与bcc(110)相对强度先减小后增大。振动样品磁强计(VSM)测试结果表明,140 kHz沉积的镀层矫顽力均低于20和80 kHz,即高频可以降低镀层矫顽力。虽然沉积的Fe65Co35合金薄膜饱和磁化强度高达2.12 T,但矫顽力较高。比较其它阳极沉积的FeCo合金薄膜,发现选用可溶性Co阳极比较适合。