Fe-Ni-N薄膜的结构及磁性

用双离子束溅射法在玻璃基片上制得了Fe-Ni-N薄膜,研究了Ni含量、主源气氛及退火温度对Fe-Ni-N薄膜的结构、磁性及热稳定性的影响,选择合适的工艺条件,可制得在(100)面方向有100％晶粒取向度的单-γ'-(Fe,Ni)4N相. Ni含量为6.7％(摩尔分数)的Fe-Ni-N薄膜具有较好的软磁性能,其饱和磁化强度Ms为2.04T,矫顽力Hc为0.68 kA/m.但是随着Ni含量的提高,Fe-Ni-N薄膜的热稳定性下降.在主源气压比PN2/PAr较低时,有利于氮含量较低的γ'相的形成,在较高的PN2/PAr条件下,则形成氮含量较高的ε-(Fe,Ni)2～3N相和ξ-(Fe,Ni)2N相.

FeNiN薄膜的制备及结构与磁性分析

为了提高 Fe Ni化合物的饱和磁化强度 ,采用离子束辅助溅射沉积的方法对 Fe Ni薄膜进行掺氮 (N)的研究。实验中发现 ,掺氮后所生成的 Fe Ni N薄膜在结构上同 Fe Ni合金有相似之处 :N不与 Ni化合 ;在小掺镍量下 Ni以替代方式存在于薄膜中 ,在大的掺镍量下 Fe Ni N薄膜将有特定的相变发生。在磁性方面 ,得到了饱和磁化强度为 2 .0 T的Fe Ni N薄膜。