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索末菲展开对二维电子气体费米能级求解的有效性分析
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作者 江翠 张莲莲 《高师理科学刊》 2024年第2期88-91,共4页
索末菲展开是固体物理学中讨论自由电子气体性质的重要方法,二维电子气体是金属自由电子气体的一个特例,目前受到了科研工作者的广泛关注.利用严格求解和索末菲展开近似求解两种不同方法对二维电子气体的费米能级进行了计算,同时对两种... 索末菲展开是固体物理学中讨论自由电子气体性质的重要方法,二维电子气体是金属自由电子气体的一个特例,目前受到了科研工作者的广泛关注.利用严格求解和索末菲展开近似求解两种不同方法对二维电子气体的费米能级进行了计算,同时对两种方法进行比对.分析发现,如果气体温度较低,索末菲展开近似引起的误差较小,阐述了索末菲展开方法的有效性和使用条件.该研究将对学生深入理解固体物理学中相关知识内容有所帮助. 展开更多
关键词 索末菲展开 二维电子气体 费米能级
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Quantum-dot light-emitting diodes with Fermi-level pinning at the hole-injection/hole-transporting interfaces
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作者 Maopeng Xu Desui Chen +6 位作者 Jian Lin Xiuyuan Lu Yunzhou Deng Siyu He Xitong Zhu Wangxiao Jin Yizheng Jin 《Nano Research》 SCIE EI CSCD 2022年第8期7453-7459,共7页
Quantum-dot light-emitting diodes(QLEDs)are multilayer electroluminescent devices promising for next-generation display and solid-state-lighting technologies.In the state-of-the-art QLEDs,hole-injection layers(HILs)wi... Quantum-dot light-emitting diodes(QLEDs)are multilayer electroluminescent devices promising for next-generation display and solid-state-lighting technologies.In the state-of-the-art QLEDs,hole-injection layers(HILs)with high work functions are generally used to achieve efficient hole injection.In these devices,Fermi-level pinning,a phenomenon often observed in heterojunctions involving organic semiconductors,can take place in the hole-injection/hole-transporting interfaces.However,an in-depth understanding of the impacts of Fermi-level pinning at the hole-injection/hole-transporting interfaces on the operation and performance of QLEDs is still lacking.Here,we develop a set of NiOx HILs with controlled work functions of 5.2–5.9 eV to investigate QLEDs with Fermi-level pinning at the hole-injection/hole-transporting interfaces.The results show that despite that Fermi-level pinning induces identical apparent hole-injection barriers,the red QLEDs using HILs with higher work functions show improved efficiency roll-off and better operational stability.Remarkably,the devices using the NiOx HILs with a work function of 5.9 eV demonstrate a peak external quantum efficiency of~18.0%and a long T95 operational lifetime of 8,800 h at 1,000 cd·m^(−2),representing the best-performing QLEDs with inorganic HILs.Our work provides a key design principle for future developments of the hole-injection/hole-transporting interfaces of QLEDs. 展开更多
关键词 quantum-dot light-emitting diodes fermi-level pinning hole-injection/hole-transporting interfaces work function PERFORMANCE
原文传递
引入Si掺杂层调控InGaAs/GaAs表面量子点的光学特性
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作者 刘晓辉 刘景涛 +5 位作者 郭颖楠 王颖 郭庆林 梁宝来 王淑芳 傅广生 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第1期73-82,共10页
在InGaAs/GaAs表面量子点(SQDs)的GaAs势垒层中引入Si掺杂层,以研究Si掺杂对InGaAs/GaAs SQDs光学特性的影响。荧光发光谱(PL)测量结果显示,InGaAs/GaAs SQDs的发光强烈依赖于Si掺杂浓度。随着掺杂浓度的增加,SQDs的PL峰值位置先红移后... 在InGaAs/GaAs表面量子点(SQDs)的GaAs势垒层中引入Si掺杂层,以研究Si掺杂对InGaAs/GaAs SQDs光学特性的影响。荧光发光谱(PL)测量结果显示,InGaAs/GaAs SQDs的发光强烈依赖于Si掺杂浓度。随着掺杂浓度的增加,SQDs的PL峰值位置先红移后蓝移;PL峰值能量与激光激发强度的立方根依赖关系由线性向非线性转变;通过组态交互作用方法发现SQDs的PL峰位蓝移减弱;时间分辨荧光光谱显示了从非线性衰减到线性衰减的转变。以上结果说明Si掺杂能够填充InGaAs SQDs的表面态,并且改变表面费米能级钉扎效应和SQDs的荧光辐射特性。本研究为深入理解与InGaAs SQDs的表面敏感特性关联的物理机制和载流子动力学过程,以及扩大InGaAs/GaAs SQDs传感器的应用提供了实验依据。 展开更多
关键词 InGaAs量子点 Si掺杂 表面费米能级 荧光发光谱 间接跃迁辐射 时间分辨荧光光谱
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Ti-Al共掺杂Si薄膜的光电性能增强机理研究
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作者 陈玉杰 杨洪旺 +2 位作者 林宇蓓 邝向军 温才 《功能材料》 CAS CSCD 北大核心 2023年第10期10021-10029,10038,共10页
Ti超掺杂Si(Si:Ti)薄膜是通过脉冲激光的非平衡作用,在Si中掺入超固溶度3个数量级以上的高浓度Ti杂质形成。它摆脱了Si禁带宽度的限制,具有优异的亚带隙近红外(λ=1100~2500 nm)光吸收性能。通过真空电子束蒸发结合紫外纳秒激光熔融的方... Ti超掺杂Si(Si:Ti)薄膜是通过脉冲激光的非平衡作用,在Si中掺入超固溶度3个数量级以上的高浓度Ti杂质形成。它摆脱了Si禁带宽度的限制,具有优异的亚带隙近红外(λ=1100~2500 nm)光吸收性能。通过真空电子束蒸发结合紫外纳秒激光熔融的方式,制备了Ti-Al共掺杂Si(Si:(Ti-Al))薄膜,以进一步提高薄膜的亚带隙近红外光吸收性能,更好地满足近红外器件的需求。研究结果表明,Si:(Ti-Al)薄膜的薄层电阻,由本征单晶Si衬底的10^(4)Ω/square量级降低至10^(2)Ω/square量级,与Si:Ti薄膜一致。但是,Si:(Ti-Al)薄膜在亚带隙近红外波段的吸光度,较本征单晶Si衬底平均提高了7倍,最大提高了一个数量级(λ=1800 nm处);较Si:Ti薄膜平均提高了33%,最大提高了57.2%(λ=1200 nm处)。表面形貌分析表明,Si:(Ti-Al)薄膜的二次激光加工降低了表面光反射。薄膜成分分析表明,Si:(Ti-Al)薄膜中存在TiSi_(2)和AlTi。TiSi_(2)的存在表明,Ti杂质被激活后与Si原子键合。AlTi的存在并结合能带结构分析表明,Si:(Ti-Al)薄膜中通过改变Al补偿杂质浓度,调节费米能级位置,从而增强了亚带隙近红外光吸收性能。 展开更多
关键词 纳秒激光 共掺杂 Si 电学性能 光吸收性能 费米能级
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金属钨电子逸出功的实验测定与第一性原理计算
5
作者 刘凯斐 孙大中 +2 位作者 牛相宏 张红光 陈伟 《大学物理实验》 2023年第2期15-20,30,共7页
金属电子逸出功的测定,等效于对电子势能的测定,其对于了解微观原子结构,特别是修正相关原子结构理论和计算方法有较为重要的意义[1]。逸出功实验过程巧妙结合金属钨晶胞各个能级之间的关系,灵活利用线性拟合特性简化数据关系,在近代物... 金属电子逸出功的测定,等效于对电子势能的测定,其对于了解微观原子结构,特别是修正相关原子结构理论和计算方法有较为重要的意义[1]。逸出功实验过程巧妙结合金属钨晶胞各个能级之间的关系,灵活利用线性拟合特性简化数据关系,在近代物理实验的学习中有着指导性作用。由于不同实验者所测的逸出功之间存在差异,可以合理猜测逸出功的值与实验所用金属钨的晶面有关。因此基于第一性原理,也可直接对不同晶面的金属钨电子逸出功进行理论计算。将实验操作和第一性原理计算所得的金属电子逸出功进行对比,直观地分析不同晶面对金属电子逸出功的影响,为物理实验的学习提供新的思路和方式。 展开更多
关键词 金属电子逸出功 第一性原理 费米能级 真空能级
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金属元素共掺杂对AgSnO_(2)触头材料性能的影响研究
6
作者 陈曦 徐雄军 程思远 《电工材料》 CAS 2023年第2期27-31,35,共6页
AgSnO_(2)触头材料环保无毒且具备良好的耐电弧以及抗熔焊能力,所以目前已经广泛作为低压开关触头材料,但是自身的导电性能还有待提高。采用金属共掺杂的方式对SnO_(2)的导电性能进行改良。运用CASTEP软件对元素掺杂前后SnO_(2)的各项... AgSnO_(2)触头材料环保无毒且具备良好的耐电弧以及抗熔焊能力,所以目前已经广泛作为低压开关触头材料,但是自身的导电性能还有待提高。采用金属共掺杂的方式对SnO_(2)的导电性能进行改良。运用CASTEP软件对元素掺杂前后SnO_(2)的各项性能进行了仿真试验。结果表明:当进行Cu元素单掺杂时,晶胞体积有小幅度增加;进行Ge元素单掺杂时,晶胞体积小幅度缩减;但当把两种金属元素掺杂到一起时,晶胞体积会处于本征SnO_(2)与Ge元素两种元素单独掺杂之间;金属元素掺杂时其形成能均为负值且其绝对值均大于本征SnO_(2),证明在SnO_(2)材料中加入金属元素能够有效地提高其稳定性;通能带图显示,金属元素掺杂后,晶胞的禁带宽度有不同程度的减小,其中Cu-Ge共掺杂的晶胞禁带宽度值最小,仅为0.268 eV,这意味着电子更容易从价带迁移到导带,此时导电性也最好。共掺杂降低了费米能级附近的峰值和局域性,并且由于原子之间更强的成键结合力而使SnO_(2)材料更稳定。 展开更多
关键词 AgSnO_(2)电触头材料 形成能 元素掺杂 费米能级 导电性
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Ni-Se共掺杂下对AgSnO_(2)触头材料电性能的影响研究
7
作者 程思远 朱建国 刘文涛 《电工材料》 CAS 2023年第3期13-18,共6页
AgSnO_(2)触头材料是一种环保型低压触头材料,具备良好的耐电弧以及抗熔焊能力,所以目前已经逐渐代替银氧化镉材料。采用金属元素与非金属元素共掺杂的方式对SnO_(2)的导电性能进行改良。运用CASTEP软件对元素掺杂前后的各项性能进行了... AgSnO_(2)触头材料是一种环保型低压触头材料,具备良好的耐电弧以及抗熔焊能力,所以目前已经逐渐代替银氧化镉材料。采用金属元素与非金属元素共掺杂的方式对SnO_(2)的导电性能进行改良。运用CASTEP软件对元素掺杂前后的各项性能进行了仿真试验。结果表明:当以Se元素单掺杂时,晶胞体积有小幅度增加;以Ni元素单掺杂时,晶胞体积小幅度缩减;而以Ni-Se两种元素共掺杂时,晶胞体积虽然略微增加但是整体介于Se元素和Ni元素单掺杂时的晶胞体积之间。与未掺杂元素时的SnO_(2)不同,元素掺杂后晶胞禁带宽度明显变小,其中Ni-Se两种元素共掺杂时的禁带宽度最小,表明电子可以更加容易跃迁,AgSnO_(2)的导电性也最好;共掺杂时费米能级附近的峰值与局域性下降,原子间的成键结合力更强,AgSnO_(2)材料也更加稳定。 展开更多
关键词 AgSnO_(2)电触头材料 第一性原理分析 元素掺杂 费米能级 导电性
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吖啶类衍生物的热电材料性能研究
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作者 曾凯 陈志生 +2 位作者 林平东 于毅鹏 郑玉玲 《唐山师范学院学报》 2023年第3期27-30,共4页
利用背栅调控技术实现了单分子尺度下感应热电势的直接测量。实验观测到吖啶类衍生物自由基分子在费米能级处热电势的变化,在栅极电压从-2 V变化到+2 V的过程中,分子热电势逐渐从正值变为了负值,表明主导分子电输运的轨道由已占有电子... 利用背栅调控技术实现了单分子尺度下感应热电势的直接测量。实验观测到吖啶类衍生物自由基分子在费米能级处热电势的变化,在栅极电压从-2 V变化到+2 V的过程中,分子热电势逐渐从正值变为了负值,表明主导分子电输运的轨道由已占有电子的能级最高的轨道HOMO转化为未占有电子的能级最低的轨道LUMO。 展开更多
关键词 热电材料 热电势 热电器件 费米能级 栅极电压
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WO_x/TiO_2光催化剂的可见光催化活性机理探讨 被引量:25
9
作者 张琦 李新军 +1 位作者 李芳柏 常杰 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2004年第5期507-511,共5页
采用磁控溅射技术在用浸渍提拉法制得的TiO2薄膜上,溅射氧化钨层,通过气相反应中光催化降解二甲苯的实验表明,WOx/TiO2薄膜具有可见光活性.通过UV-Vis吸收光谱、X射线光电子能谱(XPS)等方法对其可见光活性的机理进行探索.UV-Vis吸收光... 采用磁控溅射技术在用浸渍提拉法制得的TiO2薄膜上,溅射氧化钨层,通过气相反应中光催化降解二甲苯的实验表明,WOx/TiO2薄膜具有可见光活性.通过UV-Vis吸收光谱、X射线光电子能谱(XPS)等方法对其可见光活性的机理进行探索.UV-Vis吸收光谱表明WOx,TiO2对可见光响应的范围有一定的扩展,吸收强度增加.XPS表明WOx/TiO2薄膜表面形成了明显的W杂质能级和Ti缺陷能级,这是WOx/TiO2在可见光范围有一吸收的主要原因,也是光催化剂具有可见光活性的必要条件之一,同时杂质能级的存在使半导体费米能级上移,载流子增加,光催化效率提高. 展开更多
关键词 光催化剂 可见光 催化活性 费米能级 二氧化钛 XPS 磁控溅射技术 氧化钨 TiO2
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Ag_n(n=2~10)团簇的几何结构和电子特性 被引量:18
10
作者 李喜波 王红艳 +4 位作者 唐永建 徐国亮 毛华平 李朝阳 朱正和 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2004年第3期388-394,共7页
应用密度泛函理论中B3LYP/LANL2DZ方法优化计算并分析了Agn(n=2~10)团簇的基态几何结构及电子性质。同时计算和讨论了银团簇的原子化能、能级分布、能级间隙、电子亲和能和电离势,所得理论计算值与实验值符合较好。研究结果表明:银小... 应用密度泛函理论中B3LYP/LANL2DZ方法优化计算并分析了Agn(n=2~10)团簇的基态几何结构及电子性质。同时计算和讨论了银团簇的原子化能、能级分布、能级间隙、电子亲和能和电离势,所得理论计算值与实验值符合较好。研究结果表明:银小团簇的结构不同于块体,且随团簇尺寸大小而相应变化,原子化能和电子亲和势随原子尺寸的增加而增加,团簇的费米能级、电子亲和势和电离势随团簇大小变化具有明显的奇偶振荡特性,并对此作了分析。团簇的电子性质和几何结构之间的密切关系及其随团簇尺寸大小变化的规律,可以从理论上确定团簇的最稳定结构,并可对实验观测结果做出解释。 展开更多
关键词 Ag团簇 密度泛函理论 几何结构 原子化能 电子亲和能 电离势 费米能级
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金属电极电位与费米能级的对应关系 被引量:15
11
作者 李昱材 张国英 +1 位作者 魏丹 何君琦 《沈阳师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2007年第1期25-28,共4页
通过计算机编程,建立了几种典型金属的原子团晶体模型.应用实空间Recursion方法,计算了这几种金属在纯净状态下的费米能级与电子态密度.由此得出随着金属的费米能级的升高,其电极电位会随之下降.而电子局域态密度分布在高能区的金属易... 通过计算机编程,建立了几种典型金属的原子团晶体模型.应用实空间Recursion方法,计算了这几种金属在纯净状态下的费米能级与电子态密度.由此得出随着金属的费米能级的升高,其电极电位会随之下降.而电子局域态密度分布在高能区的金属易失去电子,进行氧化反应. 展开更多
关键词 电极电位 费米能级 局域态密度 Recursion方法
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深能级杂质Zn对n型硅半导体的补偿特性 被引量:5
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作者 蔡志军 巴维真 +2 位作者 陈朝阳 崔志明 丛秀云 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期1140-1143,共4页
为得到高B值(材料常数)的单晶热敏材料,采用高温气相扩散的方法在n型硅中掺杂深能级杂质Zn,得到高补偿的硅材料,并对该材料特性进行了测试和分析.结果表明:这种补偿硅具有热敏特性,该材料的B值为6300K左右,其阻值对温度的依赖关系与杂... 为得到高B值(材料常数)的单晶热敏材料,采用高温气相扩散的方法在n型硅中掺杂深能级杂质Zn,得到高补偿的硅材料,并对该材料特性进行了测试和分析.结果表明:这种补偿硅具有热敏特性,该材料的B值为6300K左右,其阻值对温度的依赖关系与杂质的补偿程度有关. 展开更多
关键词 深能级杂质 费米能级 多数载流子 补偿度
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线性化AlGaN/GaN HEMT费米能级与二维电子气密度关系的解析模型 被引量:7
13
作者 卢盛辉 杜江锋 +1 位作者 周伟 夏建新 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期225-228,共4页
通过化简复杂非线性的费米能级EF与二维电子气密度ns关系,并利用化简后函数的一阶泰勒多项式建立了线性化AlGaN/GaN HEMT中EF与ns关系的解析模型。该模型可以根据二维电子气密度ns的范围及温度计算EF与ns非线性关系之线性近似的参数斜率... 通过化简复杂非线性的费米能级EF与二维电子气密度ns关系,并利用化简后函数的一阶泰勒多项式建立了线性化AlGaN/GaN HEMT中EF与ns关系的解析模型。该模型可以根据二维电子气密度ns的范围及温度计算EF与ns非线性关系之线性近似的参数斜率a和截距EF0。计算结果表明,所述模型的线性EF-ns计算结果对非线性精确解近似效果较好,且基于该模型计算的ns-VG曲线与实验数据符合良好。 展开更多
关键词 铝镓氮/氮化镓高电子迁移率晶体管 费米能级 线性近似 二维电子气
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贵金属修饰型TiO_2的催化活性及Fermi能级对其光催化性能的影响 被引量:16
14
作者 鄂磊 徐明霞 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第12期1538-1541,共4页
采用自制纳米TiO_2粉末,以磷酸铝为粘结剂,制备了负载型TiO_2光催化剂。将Ag,Pt或Pd 3种金属的盐溶液滴涂在负载TiO_2的表面,从而得到修饰型负载光催化剂(M/TiO_2)。通过甲基橙溶液降解实验研究了贵金属的掺杂种类和含量对TiO_2光... 采用自制纳米TiO_2粉末,以磷酸铝为粘结剂,制备了负载型TiO_2光催化剂。将Ag,Pt或Pd 3种金属的盐溶液滴涂在负载TiO_2的表面,从而得到修饰型负载光催化剂(M/TiO_2)。通过甲基橙溶液降解实验研究了贵金属的掺杂种类和含量对TiO_2光催化性能的影响。实验结果表明:适量掺杂Ag,Pt或Pd 3种金属粒子均可提高TiO_2的光催化活性,且3种金属粒子的最佳掺杂质量分数分别为0.5%,1.0%和1.0%。在最佳掺杂量时,Ag/TiO_2[ω(Ag)=0.5%]的光催化活性要高于Pt/TiO_2[ω(Pt)=1.0%]或Pd/TiO_2[ω(Pd)=1.0%]。另外,通过金属一半导体接触理论阐述了M/TiO_2的光催化机理,并通过Ag,Pt,Pd金属的Fermi能级的不同,解释了Ag/TiO_2,Pt/TiO_2和Pd/TiO_2 3种光催化剂催化性能的差别。 展开更多
关键词 贵金属掺杂 金属-牙半导体 Fermi能级 光催化氧化
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Al_n(n=2~7)团簇的结构和能级分布 被引量:6
15
作者 李朝阳 王红艳 +2 位作者 韦建军 唐永建 朱正和 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期177-181,共5页
采用密度泛函B3LYP的方法研究了小原子团簇Al2~ 7的几何结构和能级分布 ,分析了随团簇原子数的增加 ,团簇的几何结构和费米能级的变化情况。研究结果表明 :Al2~ 7的团簇的几何结构在 5个原子以前为平面结构 ,而从六个原子开始为空间... 采用密度泛函B3LYP的方法研究了小原子团簇Al2~ 7的几何结构和能级分布 ,分析了随团簇原子数的增加 ,团簇的几何结构和费米能级的变化情况。研究结果表明 :Al2~ 7的团簇的几何结构在 5个原子以前为平面结构 ,而从六个原子开始为空间立体的稳定结构。电子壳层结构表明 ,在铝团簇中没有出现非常明显的象碱金属那样的稳定幻数结构。在Al2 ~Al7团簇中 ,能级结构呈现明显的分立特征 ,费米能级随着原子个数的增加而减小 ,到Al7时又有所增加 ,且团簇的能量间隙最小。 展开更多
关键词 原子团簇 密度泛函 几何结构 费米能级 能级分布 分立特征
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Mg_n(n=2~7)团簇的几何结构研究 被引量:7
16
作者 附青山 盛勇 涂铭旌 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期1056-1060,共5页
采用密度泛函DFT中的B3LYP方法,选择sdd和6—311+g基组,对Mgn(n=2~7)小团簇的各种可能结构进行优化,得到了它们的基态平衡结构并计算出其原子化能.研究表明:随着团簇尺寸的增大,单个原子的平均原子化能逐渐增大.同时分析了... 采用密度泛函DFT中的B3LYP方法,选择sdd和6—311+g基组,对Mgn(n=2~7)小团簇的各种可能结构进行优化,得到了它们的基态平衡结构并计算出其原子化能.研究表明:随着团簇尺寸的增大,单个原子的平均原子化能逐渐增大.同时分析了团簇的最高占据轨道与最低空轨道之间形成的能级间隙.计算出了电子亲和能和电离势、最后分析了费米能级、电子亲和能和电离势的变化规律及其原因。 展开更多
关键词 Mg团簇 势能函数 密度泛函理论 费米能级
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MOS器件辐照引入的界面态陷阱性质 被引量:3
17
作者 郭红霞 张义门 +6 位作者 陈雨生 周辉 龚仁喜 何宝平 关颖 韩福斌 龚建成 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期170-174,共5页
通过分析总剂量辐照产生的界面陷阱的施主和受主性质 ,用半导体器件模拟软件 Medici模拟了NMOS、PMOS器件加电下辐照后的特性。结果表明 ,对于 NMOSFET,费米能级临近导带 (N沟晶体管反型 )时 ,受主型界面态为负电荷 ,施主型界面态陷阱... 通过分析总剂量辐照产生的界面陷阱的施主和受主性质 ,用半导体器件模拟软件 Medici模拟了NMOS、PMOS器件加电下辐照后的特性。结果表明 ,对于 NMOSFET,费米能级临近导带 (N沟晶体管反型 )时 ,受主型界面态为负电荷 ,施主型界面态陷阱为中性 ,使界面态陷阱将引起的阈值电压漂移 ;而对 PMOSFET,当费米能级临近价带 (P沟晶体管反型 )时 ,施主型界面态陷阱带正电荷 ,受主型界面态陷阱为中性 ,界面态陷阱将引起负的阈值电压漂移。理论模拟的转移特性与测试结果吻合。文中从器件工艺参数出发 ,初步建立了总剂量电离辐照模型 。 展开更多
关键词 MOS器件 界面陷阱 费米能级 氮化物陷阱电荷 辐照 阈值电压漂移
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聚乙烯载流子迁移率与空间电荷包形成机理 被引量:9
18
作者 田冀焕 周远翔 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第12期2882-2888,共7页
空间电荷包现象是电介质绝缘材料即将发生击穿破坏的重要标志。现有理论分析与仿真结果表明,电介质中载流子迁移率与场强的非线性关系是电荷包形成的重要条件。然而,此非线性关系的物理机制尚不清楚。为此,针对迁移率与场强的非线性关... 空间电荷包现象是电介质绝缘材料即将发生击穿破坏的重要标志。现有理论分析与仿真结果表明,电介质中载流子迁移率与场强的非线性关系是电荷包形成的重要条件。然而,此非线性关系的物理机制尚不清楚。为此,针对迁移率与场强的非线性关系展开研究,旨在解释聚乙烯材料中空间电荷包的形成机理。基于聚乙烯材料的定域态密度分布函数,利用以跳跃电导方式运动的电子性载流子迁移率公式,计算得到并分析了不同场强、最深陷阱中心能级与陷阱浓度等条件下的迁移率-载流子浓度关系。在迁移率的计算中,采用数值方法计算了Fermi能级,相对于解析近似方法具有更高的精度。迁移率的计算结果印证了陷阱填充效应的存在:随着陷阱不断被填充,新注入的载流子将受陷于较浅的陷阱,从而导致载流子的平均迁移率有较大提高。基于这种陷阱对载流子迁移率的调制作用,通过定性分析得出结论:电荷包运动方向后方的载流子对陷阱的填充效应可以使电荷包前后沿载流子的速度基本一致,从而为空间电荷包的形成和维持提供了一种可能的解释。 展开更多
关键词 聚乙烯 迁移率 定域态密度(DOLS) 费米能级 空间电荷包 陷阱填充效应
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金属-半导体接触势垒高度的理论计算 被引量:3
19
作者 李书平 王仁智 蔡淑惠 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期412-415,453,共5页
采用平均键能作为参考能级计算了十种金属 -半导体接触势垒高度 ,其计算结果与实验值的符合程度不亚于 Tersoff和 M o¨ nch所采用的电中性能级方法 ,计算结果表明平均键能方法和 Tersoff提出的电中性能级方法一样 ,可作为金属
关键词 金属-半导体 势垒高度 平均键能 电中性能级 费米能级 接触势垒
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金钯二元小团簇的几何结构与电子性质 被引量:6
20
作者 唐典勇 黄雪娜 +3 位作者 邹婷 金诚 胡建平 伏秦超 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2010年第2期453-460,共8页
在UBP86/LANL2DZ和UB3LYP/def2-TZVP水平下详细研究了AumPdn(m+n≤6)团簇的几何结构和电子性质.阐明了团簇的结构特征、平均结合能、垂直电离势、垂直电子亲和能、电荷转移以及成键特征.除单取代混合团簇(AunPd和AuPdn,n=5或6)外,五和... 在UBP86/LANL2DZ和UB3LYP/def2-TZVP水平下详细研究了AumPdn(m+n≤6)团簇的几何结构和电子性质.阐明了团簇的结构特征、平均结合能、垂直电离势、垂直电子亲和能、电荷转移以及成键特征.除单取代混合团簇(AunPd和AuPdn,n=5或6)外,五和六原子混合团簇中钯原子趋于聚集到一起形成Pdcore,金原子分布在Pdcore周围形成PdcoreAushell结构.含一个和两个钯原子团簇的电子性质与纯金团簇类似,呈现一定奇偶振荡.混合团簇的电子性质,如最高占据分子轨道(HOMO),最低未占据分子轨道(LUMO),垂直电离势,垂直电子亲和能,Fermi能级和化学硬度等均与团簇空间结构和金、钯原子数之比直接相关.混合团簇中存在钯原子到金原子间的电荷转移,表明团簇中存在明显金钯间成键作用.分析团簇的电荷分布、前线轨道和化学硬度表明,金钯混合团簇对小分子如O2、H2和CO等的反应活性要强于纯金团簇. 展开更多
关键词 密度泛函理论 金钯二元团簇 垂直电离势 垂直电子亲和能 Fermi能级
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