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Test research on IR radiation characteristics control of space target using cryogenic vacuum multilayer insulation film structure 被引量:1
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作者 卢春莲 周彦平 付森 《Journal of Harbin Institute of Technology(New Series)》 EI CAS 2011年第4期119-122,共4页
In order to achieve the objective of controlling IR radiation characteristics of space target,we design multilayer insulation film structure to cover the target.In space environment the structure comes to cryogenic va... In order to achieve the objective of controlling IR radiation characteristics of space target,we design multilayer insulation film structure to cover the target.In space environment the structure comes to cryogenic vacuum multilayer insulation film structure.It can quickly lower the surface temperature of space target,approaching to the ultra-low temperature of the space environment.A vacuum simulation verification test was designed and performed.Through the analysis of test results,we can see that the surface temperature of space target covered by the structure changes with the ambient temperature,having no direct relationship with internal temperature of the target.Therefore,the designed cryogenic vacuum multilayer insulation film structure has excellent IR radiation control performance.It can reduce the target’s IR radiation intensity so as to reduce the probability of detection by IR detectors. 展开更多
关键词 IR radiation CRYOGENIC VACUUM insulation film space target
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Fabrication and properties of ZAO powder,sputtering target materials and the related films 被引量:6
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作者 Wei Shao Ruixin Ma Bin Liu 《Journal of University of Science and Technology Beijing》 CSCD 2006年第4期346-349,共4页
Aluminum-doped zinc oxide (ZnO:Al), abbreviated as ZAO, is a novel and widely used transparent conductive material. The ZAO powder was synthesized by chemical coprecipitation. The ZAO ceramic sputtering target mate... Aluminum-doped zinc oxide (ZnO:Al), abbreviated as ZAO, is a novel and widely used transparent conductive material. The ZAO powder was synthesized by chemical coprecipitation. The ZAO ceramic sputtering target materials were fabricated by sintering in air, and ZAO transparent conductive films were prepared by RF magnetron sputtering on glass substrates. XRD proved that such films had an orientation of (002) crystal panel paralleled to the surface of the glass substrate. The average transmittance of the films in the visible region exceeded 80%. 展开更多
关键词 transparent conductive film Al-doped zinc oxide chemical coprecipitation sputtering target materials
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Preparation of PZT Thin Films by Magnetron Sputtering With Metal and Metal Oxide Composite Target
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作者 Zhou Zhengguo Tang Xianmin +1 位作者 Li Jiangpeng Zhang Yu (Department of Physics, Wuhan University,Wuhan 430072,China) 《Wuhan University Journal of Natural Sciences》 CAS 1996年第1期49-52,共4页
This article mainly deals with the preparation and properties of PZTthin films. A new type of Metal-Me tal Oxide composite target was developed. Relating factors have been discussed. The electrical and optical propert... This article mainly deals with the preparation and properties of PZTthin films. A new type of Metal-Me tal Oxide composite target was developed. Relating factors have been discussed. The electrical and optical properties of PZT thin films have also been studied. 展开更多
关键词 composite target PZT thin film magnetron sputtering
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模压成型压力对氧化铟锡(ITO)靶材性能影响研究
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作者 姜峰 谭泽旦 +5 位作者 黄誓成 方志杰 陆映东 覃立仁 王永清 曾纪术 《矿冶工程》 CAS 北大核心 2024年第1期134-137,142,共5页
以化学共沉淀-煅烧法制备的纳米ITO粉体为原料,通过模压、冷等静压成型,采用常压烧结法制备了ITO靶材,研究了模压成型压力对ITO靶材相对密度、电阻率和晶粒尺寸的影响。结果表明,模压成型压力60 MPa且烧结条件适宜时,制得的ITO靶材相对... 以化学共沉淀-煅烧法制备的纳米ITO粉体为原料,通过模压、冷等静压成型,采用常压烧结法制备了ITO靶材,研究了模压成型压力对ITO靶材相对密度、电阻率和晶粒尺寸的影响。结果表明,模压成型压力60 MPa且烧结条件适宜时,制得的ITO靶材相对密度为99.81%、电阻率为1.707×10^(-4)Ω·cm、平均晶粒尺寸为7.62μm。研究结果可为ITO靶材的致密化与大型化生产提供借鉴。 展开更多
关键词 模压成型 氧化铟锡 导电薄膜 靶材 常压烧结 电阻率 致密化
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液态靶材磁控溅射技术研究进展
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作者 王浪平 孙田玮 《真空与低温》 2024年第5期496-503,共8页
随着先进制造业的迅猛发展,对高性能涂层的需求日益增长。以经济高效的方式沉积高性能涂层成为了科学界研究的热点。液态靶材磁控溅射技术因兼备磁控溅射与蒸镀的优点,受到了研究者的广泛关注。从液态靶材磁控溅射技术的基本原理出发,... 随着先进制造业的迅猛发展,对高性能涂层的需求日益增长。以经济高效的方式沉积高性能涂层成为了科学界研究的热点。液态靶材磁控溅射技术因兼备磁控溅射与蒸镀的优点,受到了研究者的广泛关注。从液态靶材磁控溅射技术的基本原理出发,深入分析了放电过程中的特点与等离子体特性,总结了其特点与优势以及在涂层沉积领域的具体应用,最后指出了该技术当前存在的不足之处,并对其未来的发展趋势进行了展望。 展开更多
关键词 磁控溅射 液态靶材 薄膜制备 等离子体特性 放电特性 蒸发 高沉积速率
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氮流量对六方氮化硼(hBN)薄膜结构和力学性能的影响
6
作者 张丽红 张斌 +3 位作者 高凯雄 于元烈 唐宏亮 张俊彦 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期52-59,共8页
目的研究磁控溅射过程氮气(N_(2))流量对六方氮化硼(hBN)薄膜结构和力学性能的影响,为设计新型结构hBN薄膜提供新思路。方法利用中频电源磁控溅射硼靶,调节不同N_(2)流量(6、12、18、24、30、36 mL/min),沉积4 h后得到hBN薄膜,使用表征... 目的研究磁控溅射过程氮气(N_(2))流量对六方氮化硼(hBN)薄膜结构和力学性能的影响,为设计新型结构hBN薄膜提供新思路。方法利用中频电源磁控溅射硼靶,调节不同N_(2)流量(6、12、18、24、30、36 mL/min),沉积4 h后得到hBN薄膜,使用表征工具分析N_(2)流量对hBN薄膜的组成、微观结构、表面形貌以及力学性能的影响。最后使用透射电子显微镜和选区电子衍射对所制备薄膜的纳米晶粒尺寸和晶体点阵结构进行分析。结果XRD结果显示,薄膜物相主要为hBN。XPS结果说明,所制备薄膜为富硼hBN薄膜。薄膜的硬度和弹性模量随N_(2)引入量的增加呈现先下降、后上升的趋势,最大硬度可达7.21 GPa,对应弹性模量为116.78 GPa。薄膜最低的硬度值为1.2 GPa,弹性模量为32.68 GPa。薄膜弹性破坏应变(H/E*)和塑性变形抗力(H3/E*2)随N_(2)引入量的增加也呈现先上升、后下降的趋势,硬度最高薄膜对应的H/E*值为6.414×10^(-2),H3/E*2值为29.27×10^(-3)GPa,最低硬度值对应的H/E*值为3.819×10^(-2),H3/E*2值为1.77×10^(-3)GPa。透射结果显示,当N_(2)引入量从6 mL/min逐渐增加到36 mL/min时,薄膜微观结构由结晶较差的卷曲结构过渡到局部纳米晶结构,最后形成结晶性较好的卷曲结构,并再次证明所制备薄膜为hBN。结论在中频磁控溅射沉积hBN薄膜时,通过调整N_(2)流量可以有效调节薄膜的特殊组成,使结构发生转变,进而影响薄膜的力学性能。 展开更多
关键词 hBN薄膜 B靶 N_(2)流量 力学性能 卷曲结构
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倒U型负压真空垫联合热塑膜固定技术在直肠癌放疗中的临床应用
7
作者 庞克华 杨军 李小瑞 《黑龙江医学》 2024年第17期2098-2100,共3页
目的:探讨倒U型负压真空垫联合热塑膜固定技术在直肠癌放疗过程中的临床应用价值及误差分析。方法:回顾性分析2017年1月—2022年10月在新乡医学院第一附属医院进行放疗的48例直肠癌患者的临床资料,按倒U型负压真空垫联合热塑膜固定和常... 目的:探讨倒U型负压真空垫联合热塑膜固定技术在直肠癌放疗过程中的临床应用价值及误差分析。方法:回顾性分析2017年1月—2022年10月在新乡医学院第一附属医院进行放疗的48例直肠癌患者的临床资料,按倒U型负压真空垫联合热塑膜固定和常规热塑膜固定两种方法进行分组,每组各24例。观察组患者选择倒U型负压真空垫联合热塑膜固定,采用俯卧位;对照组患者选择常规热塑膜固定,采取仰卧位。应用放疗计划系统比较两组患者计划靶区,对危及器官膀胱、小肠、股骨头、脊髓剂量学进行分析,比较两组患者的摆位误差及随诊复发率。结果:两组患者靶区的Dmean、D95、照射体积、均匀性指数(HI)、适形性指数(CI)及危及器官的脊髓与股骨头的剂量比较,差异无统计学意义(t=0.167、0.967、1.196、1.169、0.411,P>0.05);观察组小肠、膀胱的接受照射体积、Dmean、V40明显低于对照组,差异有统计学意义(t=-5.387、-10.910、-19.850、-23.140、-17.730、-18.220,P<0.05);观察组Y轴(头—脚)的摆位误差明显小于对照组,差异有统计学意义(t=-8.634,P<0.05);对两组患者术后1、2、3年进行随访,复发率比较,差异无统计学意义(χ^(2)=1.021、0.167、0.137,P>0.05)。结论:在直肠癌的放疗过程中,倒U型负压真空垫联合热塑膜固定技术能保证放疗疗效,还可降低小肠、膀胱的受量,同时能减小Y轴(头—脚)方向摆位误差。 展开更多
关键词 直肠癌 倒U型负压真空垫 热塑膜 靶区 危及器官 摆位误差
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Influence of Ti on Microstructure and Magnetic Properties of FePt Granular Films
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作者 许佳玲 孙会元 +4 位作者 杨素娟 封顺珍 苏振访 胡骏 于红云 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第A02期137-140,共4页
在室温下,应用对靶直流磁控溅射设备在普通玻璃基片上制备了FePt(30 nm)/Ti(t nm)颗粒膜样品,随后,在真空中进行了原位退火。详细研究了Ti衬底层对FePt颗粒膜的微结构和磁特性的影响。X射线衍射图谱表明样品形成了较有序的L10织构,Ti和... 在室温下,应用对靶直流磁控溅射设备在普通玻璃基片上制备了FePt(30 nm)/Ti(t nm)颗粒膜样品,随后,在真空中进行了原位退火。详细研究了Ti衬底层对FePt颗粒膜的微结构和磁特性的影响。X射线衍射图谱表明样品形成了较有序的L10织构,Ti和FePt形成了三元FePtTi合金。当Ti层厚度t=5 nm、退火温度Ta=500℃时,样品具有高度有序的L10织构、小的颗粒尺寸和优异的磁特性。矫顽力超过了6.7 kOe,饱和磁化强度为620emu/cc。并且具有较小的开关场分布。结果表明FePt/Ti颗粒膜系统可作为超高密度磁记录介质的候选者。 展开更多
关键词 FePt/Ti颗粒膜 对靶磁控溅射系统 磁记录介质
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同位靶磁控溅射法制备Al掺杂CdSe薄膜
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作者 何惠江 宣乐 +2 位作者 毛高翔 刘辉 王春海 《热加工工艺》 北大核心 2024年第16期159-162,共4页
为增加掺杂薄膜的元素均匀性,基于磁控溅射技术,设计了靶材同位共溅射制备掺杂薄膜的方法,并用于制备Al掺杂CdSe薄膜,获得了Al均匀掺杂的CdSe薄膜。结果表明:制备的薄膜为富Se状态,呈现明显的(111)择优取向。Al掺杂后的CdSe薄膜方块电阻... 为增加掺杂薄膜的元素均匀性,基于磁控溅射技术,设计了靶材同位共溅射制备掺杂薄膜的方法,并用于制备Al掺杂CdSe薄膜,获得了Al均匀掺杂的CdSe薄膜。结果表明:制备的薄膜为富Se状态,呈现明显的(111)择优取向。Al掺杂后的CdSe薄膜方块电阻由5.2 kΩ/□升高至544.5 kΩ/□。随着Al掺杂量的增加,薄膜的方块电阻下降。当共溅射Al片为6片时,薄膜方块电阻为7.7 kΩ/□,薄膜半导体类型由p型转变为n型。掺杂薄膜体电导率分别为192.4(未掺杂)、2.01×10^(4)(Al片数1)、506.9(Al片数2)、384.8(Al片数4)、284.9 mΩ·cm(Al片数6)。掺杂薄膜样品的禁带宽度Eg分别为1.82(未掺杂)、1.97(Al片数1)、1.75(Al片数2)、1.78(Al片数4)、1.82 eV(Al片数6)。 展开更多
关键词 同位靶磁控溅射 Al掺杂CdSe薄膜 电学行为
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紧凑型氘氘中子发生器中钛自成靶实验研究
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作者 冯子楠 徐伟 +8 位作者 李旭 吴亮亮 孟献才 王纪超 钱玉忠 王维海 耿成龙 梁立振 胡纯栋 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2024年第10期922-928,共7页
靶作为氘氘中子发生器关键部件之一,其性能直接影响了中子发生器的中子产额及其稳定运行。文章从钛自成靶的设计、制备、表征及测试四个方面系统的介绍了中子发生器中靶的关键技术实验研究。首先,为满足靶的温度控制需求,采用无氧铜作... 靶作为氘氘中子发生器关键部件之一,其性能直接影响了中子发生器的中子产额及其稳定运行。文章从钛自成靶的设计、制备、表征及测试四个方面系统的介绍了中子发生器中靶的关键技术实验研究。首先,为满足靶的温度控制需求,采用无氧铜作为靶基底材料,并在其内部开设套环式主动水冷回路。通过ANSYS热工模拟靶在加速器运行时的表面温升情况,并利用电子枪轰击测试靶表面实际温度变化情况。模拟和测试结果表明,在中子发生器运行期间,靶表面温度可以有效控制在200℃以内。随后,利用直流磁控溅射技术在无氧铜靶衬底表面制备微米级高纯靶膜。并且,利用扫描电子显微镜、能谱仪、X射线衍射仪和划痕仪研究了靶膜表面的微观结构、成分及膜基结合力。结果表明利用磁控溅射制备的钛膜表面十分均匀紧凑,以六方晶系结构的α-Ti沉积在靶衬底表面,钛膜与基底的膜基结合力为0.22 N。最后,在感应耦合型中子发生器中子产额达到了1.25×10^(8)n/s,电子回旋共振中子发生器中子产额达到了1.75×10^(8)n/s,都实现了稳定运行5 h。 展开更多
关键词 中子发生器 自成靶 磁控溅射 钛膜
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纯银溅射靶材的制备、微观结构及溅射成膜研究
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作者 宁哲达 唐可 +1 位作者 施晨琦 闻明 《贵金属》 CAS 北大核心 2024年第2期1-10,共10页
银薄膜作为高新技术领域极具潜力的新材料,在现代工业中得到了广泛的应用。以银靶为源材料的磁控溅射已成为制备银薄膜的常用方法。本研究比较了冷轧状态和退火状态下Ag靶的溅射性能,探讨了Ag靶与Ag薄膜之间的关系。结果表明:冷轧变形量... 银薄膜作为高新技术领域极具潜力的新材料,在现代工业中得到了广泛的应用。以银靶为源材料的磁控溅射已成为制备银薄膜的常用方法。本研究比较了冷轧状态和退火状态下Ag靶的溅射性能,探讨了Ag靶与Ag薄膜之间的关系。结果表明:冷轧变形量为83.33%后进行600℃退火可以有效提高Ag{110}的织构密度。冷轧态和退火态Ag靶具有相似的沉积速率。两种Ag薄膜的电阻率均随溅射时间的延长而降低。在溅射时间相同的情况下,退火态Ag靶溅射的Ag薄膜电阻率低于冷轧态Ag靶溅射的Ag薄膜。退火态Ag靶组织均匀,溅射后溅射跑道较浅。 展开更多
关键词 Ag溅射靶材 冷轧 再结晶退火 Ag薄膜 微观结构
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氧化锌共掺杂薄膜的光电性能研究
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作者 李粮任 朱刘 《广东化工》 CAS 2024年第14期1-4,42,共5页
为研究不同掺杂氧化锌靶材制备薄膜的光电性能,采用了AZO和AGZO靶材制备薄膜样品,研究不同靶基距下制备AZO薄膜的均匀性,同时研究了不同溅射工艺参数下的AZO、AGZO薄膜的光电性能,此外,通过对比分析AZO、AGZO薄膜之间的性能差异,探究靶... 为研究不同掺杂氧化锌靶材制备薄膜的光电性能,采用了AZO和AGZO靶材制备薄膜样品,研究不同靶基距下制备AZO薄膜的均匀性,同时研究了不同溅射工艺参数下的AZO、AGZO薄膜的光电性能,此外,通过对比分析AZO、AGZO薄膜之间的性能差异,探究靶材组分改进对薄膜性能的影响和机理。实验结果表明,靶基距为9 cm沉积薄膜的厚度均匀性较好;在纯氩条件制备的AZO和AGZO薄膜的方阻最低,此外,AZO和AGZO薄膜在300nm~1300 nm的较宽区域均展现了良好的光学透射性能,在200℃/0%O2的参数条件下,AZO和AGZO薄膜的电阻率在10^(-3)Ω·cm量级,载流子浓度在10^(20)cm^(-3)量级,其中Ⅲ族元素的掺杂量增大的AGZO(2.6wt%Al_(2)O_(3)+Ga_(2)O_(3))在最佳工艺参数条件制备的薄膜的光电性能更为优越。 展开更多
关键词 磁控溅射 靶基距 薄膜 铝掺杂氧化锌 铝镓掺杂氧化锌 光电性能
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组合靶共溅射沉积Cu-W复合薄膜的结构与性能
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作者 郭中正 闫万珺 +3 位作者 张殿喜 杨秀凡 蒋宪邦 周丹彤 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2024年第4期38-45,共8页
用嵌入组合型靶材,采用磁控共溅射方法,在单晶硅和聚酰亚胺衬底上制备Cu-W复合薄膜。分别运用能谱仪、X射线衍射仪、扫描电镜和原子力显微镜对Cu-W复合薄膜的成份、结构及表面形貌进行分析表征。选用微小力测试系统、纳米压痕仪及四探... 用嵌入组合型靶材,采用磁控共溅射方法,在单晶硅和聚酰亚胺衬底上制备Cu-W复合薄膜。分别运用能谱仪、X射线衍射仪、扫描电镜和原子力显微镜对Cu-W复合薄膜的成份、结构及表面形貌进行分析表征。选用微小力测试系统、纳米压痕仪及四探针仪分别测试复合薄膜的屈服强度σ_(0.2)和裂纹萌生临界应变ε_(c)、显微硬度H及电阻率ρ。结果表明:可通过调整组合型靶材环状溅射刻蚀区内W靶所占的面积比,有效地调控复合薄膜的W含量。随W靶的面积占比从6%增至30%,Cu-W复合薄膜的W含量从2.6 at.%增至16.9 at.%。W在Cu中的固溶度延展,复合膜内存在面心立方(fcc)Cu(W)亚稳固溶体,随复合膜中W含量增加,W在Cu中的固溶度从1.7 at.%W增至10 at.%W,复合膜的平均晶粒从32 nm减小至16 nm,表面光洁度提高。W含量增加时,复合膜的屈服强度σ_(0.2)、显微硬度H及电阻率ρ增加,而裂纹萌生临界应变ε_(c)减小。 展开更多
关键词 组合靶 共溅射 Cu-W复合薄膜
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类金刚石碳膜导电材料设计与制备工艺技术研究
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作者 李涛 胡宇涵 +2 位作者 徐冬 尹思淇 杨思远 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2024年第8期60-63,共4页
当传感器工作时,电刷与电阻体始终处于滑动接触和摩擦的状态,长期工作会导致涂覆的电阻薄膜磨损严重,直接影响传感器的使用寿命。为了提高传感器的可靠性,增强传感器电阻敏感元件的耐磨性,本文提出了一种类金刚石碳(DLC)膜导电材料设计... 当传感器工作时,电刷与电阻体始终处于滑动接触和摩擦的状态,长期工作会导致涂覆的电阻薄膜磨损严重,直接影响传感器的使用寿命。为了提高传感器的可靠性,增强传感器电阻敏感元件的耐磨性,本文提出了一种类金刚石碳(DLC)膜导电材料设计与制备工艺技术。在氧化铝基片陶瓷上,采用双靶共溅射的工艺,通过精确地控制溅射条件,获得均匀且致密的类金刚石膜,在满足高精度与小型化要求的同时,增强异质材料长期工作的稳定性。 展开更多
关键词 传感器 工艺 双靶共溅射 类金刚石碳膜 氧化铝陶瓷
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基于深度学习的“一膜两年用”玉米全膜双垄沟种床特征识别方法研究
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作者 蒲俊羽 戴飞 +4 位作者 史瑞杰 王久鑫 宋学锋 李璐 赵武云 《干旱地区农业研究》 CSCD 北大核心 2024年第4期298-310,共13页
为更加准确掌握“一膜两年用”玉米全膜双垄沟覆膜种床特征,提高其智能化生产水平,采用基于深度学习的目标检测网络模型开展“一膜两年用”玉米全膜双垄沟种床特征识别方法的研究,对种床结构中的残膜、根茬和覆土带进行检测识别。结果表... 为更加准确掌握“一膜两年用”玉米全膜双垄沟覆膜种床特征,提高其智能化生产水平,采用基于深度学习的目标检测网络模型开展“一膜两年用”玉米全膜双垄沟种床特征识别方法的研究,对种床结构中的残膜、根茬和覆土带进行检测识别。结果表明:优化后的YOLOx网络模型的效果相关值(mAP)为90.76%,检测结果优于其他网络模型。为探究无人机拍摄图像对目标检测结果的影响,采用三因素三水平BOX-Behnken试验设计方法,建立无人机飞行高度、无人机飞行角度和无人机飞行速度与评价网络模型mAP值的数学模型,寻求无人机拍摄的最优参数组合并进行试验验证,当无人机飞行高度为0.9 m、飞行角度100°、飞行速度2.2 m·s^(-1)时,评价网络模型效果相关的响应值达到最优。经验证,无人机拍摄参数优化后,网络模型的mAP值为92.67%,检测效果优于其他组模型。 展开更多
关键词 全膜双垄沟 种床特征 深度学习 目标检测 无人机拍摄
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Development of PLGA micro-and nanorods with high capacity of surface ligand conjugation for enhanced targeted delivery 被引量:1
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作者 Jiafu Cao Jin-Seok Choi +4 位作者 Murtada A.Oshi Juho Lee Nurhasni Hasan Jihyun Kim Jin-Wook Yoo 《Asian Journal of Pharmaceutical Sciences》 SCIE 2019年第1期86-94,共9页
Particle shape has been recognized as one of the key properties of nanoparticles in biomedical applications including targeted drug delivery.Targeting ability of shape-engineered particles depends largely on targeting... Particle shape has been recognized as one of the key properties of nanoparticles in biomedical applications including targeted drug delivery.Targeting ability of shape-engineered particles depends largely on targeting ligands conjugated on the particle surface.However,poor capacity for surface ligand conjugation remains a problem in anisotropic nanoparticles made with biodegradable polymers such as PLGA.In this study,we prepared anisotropic PLGA nanoparticles with abundant conjugatable surface functional groups by a film stretching-based fabrication method with poly(ethylene-alt-maleic acid)(PEMA).Scanning electron microscopy images showed that microrods and nanorods were successfully fabricated by the PEMA-based film stretching method.The presence of surface carboxylic acid groups was confirmed by confocal microscopy and zeta potential measurements.Using the improved film-stretching method,the amount of protein conjugated to the surface of nanorods was increased three-fold.Transferrin-conjugated,nanorods fabricated by the improved method exhibited higher binding and internalization than unmodified counterparts.Therefore,the PEMA-based film-stretching system presented in this study would be a promising fabrication method for non-spherical biodegradable polymeric micro-and nanoparticles with high capacity of surface modifications for enhanced targeted delivery. 展开更多
关键词 Particle shape PLGA nanoparticles film-stretching method SURFACE modification targeted drug delivery
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Fabrication and photoluminescence characteristics of nonuniform Yb-Er codoped films
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作者 李成仁 雷明凯 +2 位作者 李淑凤 刘玉凤 宋昌烈 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2008年第1期31-34,共4页
The nonuniform Yb-Er Codoped Al2O3 films were prepared on SiO2/Si substrates using a medium frequency magnetron sputtering system. Two asymmetry targets in the system were introduced to realize the nonuniform dopant. ... The nonuniform Yb-Er Codoped Al2O3 films were prepared on SiO2/Si substrates using a medium frequency magnetron sputtering system. Two asymmetry targets in the system were introduced to realize the nonuniform dopant. Some curves of Photoluminescence (PL) peak intensity were obtained by adjusting the deposition parameters, such as, the pillar number of erbium and ytterbium in the mixed target and the distance between a sample table and targets. Typically, the curve of PL peak intensity against the offset distance was approximately linear. The ratio of the PL intensity at the two ends of the same sample was 12.6 and the slope was 71.83/mm when the pillar numbers of the erbium and ytterbium in the mixed target are 5 and 60, respectively, and the distance between targets and the sample table is 2.9 cm. 展开更多
关键词 Yb-Er codoped nonuniform films the medium frequency magnetron sputtering system asymmetry targets photoluminescence spectra rare earths
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远程靶基距Nb/Al-AlOx/Nb约瑟夫森结薄膜溅射制备技术研究 被引量:1
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作者 王振宇 曾九孙 +5 位作者 高鹤 王仕建 徐达 钟青 李劲劲 王雪深 《计量学报》 CSCD 北大核心 2023年第9期1333-1338,共6页
高质量Nb/Al-AlO x/Nb三层膜制备是基于超导-绝缘-超导型(SIS)约瑟夫森结的量子电压标准芯片和超导量子干涉器件的关键工艺。针对远程靶基距直流磁控溅射工艺条件,研究溅射气氛和溅射功率对Nb、Nb/Al薄膜结构、形貌和电学性质的影响。A... 高质量Nb/Al-AlO x/Nb三层膜制备是基于超导-绝缘-超导型(SIS)约瑟夫森结的量子电压标准芯片和超导量子干涉器件的关键工艺。针对远程靶基距直流磁控溅射工艺条件,研究溅射气氛和溅射功率对Nb、Nb/Al薄膜结构、形貌和电学性质的影响。Ar气流量20 mL/min,0.53 Pa,600 W制备的Nb膜的应力接近零压力,粗糙度仅为1.05 nm,超导转变温度9.2 K,剩余电阻比达到5.33。0.53 Pa,450 W制备的150 nm Nb上10 nm Al膜粗糙度仅为1.51 nm,完全覆盖底层Nb膜。以此条件制备的Nb/Al-AlO x/Nb SIS结能隙电压达到2.6 mV,表明远程溅射可以实现SIS结工艺所需高质量三层膜。 展开更多
关键词 计量学 Nb/Al-AlO x/Nb约瑟夫森结 磁控溅射 靶基距 薄膜沉积
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氮含量对Mo-Ta-W-N多主元合金氮化物薄膜的影响 被引量:1
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作者 张毅勇 井致远 +1 位作者 张志彬 梁秀兵 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第1期21-28,共8页
目的探究氮含量对MoTaW多主元合金薄膜的微观组织和力学性能的影响,并提高Mo-Ta-W多主元合金薄膜的力学性能。方法采用反应多靶磁控溅射技术在单晶硅片上制备出了具有不同氮含量的Mo-Ta-W-N多主元合金氮化物薄膜,通过X射线光电子能谱仪... 目的探究氮含量对MoTaW多主元合金薄膜的微观组织和力学性能的影响,并提高Mo-Ta-W多主元合金薄膜的力学性能。方法采用反应多靶磁控溅射技术在单晶硅片上制备出了具有不同氮含量的Mo-Ta-W-N多主元合金氮化物薄膜,通过X射线光电子能谱仪、掠入射角X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、原子力显微镜对薄膜的成分、组织结构、表面及截面微观形貌、厚度和粗糙度进行了表征分析,并采用纳米压痕仪对薄膜的硬度和弹性模量进行了测试。结果Mo-Ta-W-N多主元合金氮化物薄膜中的氮含量随着溅射过程中氮气流量的增加而增加,当氮气流量达到50%时,薄膜中的氮含量升至49%,而钽含量则随之降低至12%。形成氮化物后,Mo-Ta-W多主元薄膜由BCC结构转变成了单相FCC固溶体结构,表面由层片状结构转变为花椰菜状团簇结构,随着氮含量的增加,表面的粗糙度先降低后升高,厚度则不断降低。与Mo-Ta-W多主元合金薄膜相比,Mo-Ta-W多主元合金氮化物薄膜的力学性能有所提高,但随着氮含量的增加而下降,当氮气流量为10%时,Mo-Ta-W-N多主元合金氮化物薄膜的硬度和弹性模量分别为34.3 GPa和327.5 GPa。结论氮化物的形成对Mo-Ta-W多主元合金薄膜的相结构、表面形貌等有影响,可有效提高薄膜的力学性能。 展开更多
关键词 多主元合金 氮化物 薄膜 反应多靶磁控溅射 组织结构 力学性能
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集成电路用高纯金属溅射靶材发展研究 被引量:7
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作者 何金江 吕保国 +4 位作者 贾倩 丁照崇 刘书芹 罗俊锋 王兴权 《中国工程科学》 CSCD 北大核心 2023年第1期79-87,共9页
高纯金属溅射靶材是集成电路用关键基础材料,对实现集成电路用靶材的全面自主可控,推动集成电路产业高质量发展具有基础性价值。本文分析了集成电路用高纯金属溅射靶材的应用需求,梳理了相应高纯金属溅射靶材的研制现状,涵盖高纯铝及铝... 高纯金属溅射靶材是集成电路用关键基础材料,对实现集成电路用靶材的全面自主可控,推动集成电路产业高质量发展具有基础性价值。本文分析了集成电路用高纯金属溅射靶材的应用需求,梳理了相应高纯金属溅射靶材的研制现状,涵盖高纯铝及铝合金、高纯铜及铜合金、高纯钛、高纯钽、高纯钴和镍铂、高纯钨及钨合金等细分类别。在凝练我国高端靶材制备关键技术及工程化方面存在问题的基础上,着眼领域2030年发展目标,提出了集成电路用高纯金属溅射靶材产业的重点发展方向:提升材料制备技术水平,攻克高性能靶材制备关键技术,把握前沿需求开发高端新材料,提升材料分析检测和应用评价能力。研究建议,开展“产学研用”体系建设,解决关键设备国产化问题,加强人才队伍建设力度,掌握自主知识产权体系,拓展国际合作交流,以此提升高纯金属溅射靶材的发展质量和水平。 展开更多
关键词 高纯金属 溅射靶材 集成电路 薄膜 金属化
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