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题名背景光在局部视网膜电图中作用的研究
被引量:3
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作者
罗敏
刘海燕
李海生
张荣
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机构
上海第二医科大学附属第九人民医院眼科
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出处
《临床眼科杂志》
2000年第6期408-410,共3页
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文摘
目的测定不同背景光强度下的局部视网膜电图的振幅及黄斑/视盘振幅比,研究它们的变化,评价背景光强度在局部视网膜电图中的作用。方法对18例(20眼)正常人进行不同背景光强度下的局部视网膜电图的测定,背景光强度依次为25,50,100,150,250,600cd/m2.分别记录刺激黄斑及视盘的反应。将波形进行Fourier分析,测量刺激频率的基波振幅,计算黄斑/视盘振幅比。结果在25,50cd/m2的背景光下,局部视网膜电图的基波振幅最大(x=1.66±0.859),黄斑/视盘振幅比最小(r=1.469)。在100cd/m2的背景光强度下,局部视网膜电图的基波振幅较大(x=1.185±0.181),而黄斑/视盘振幅比达到最大(r=3.95)。当背景光继续增加时(250,600cd/m2),局部视网膜电图的基波振幅最小(x=0.416±0.146),黄斑/视盘振幅比则较小(r=2.27)。结论背景光较弱时,记录的电反应包含了刺激光斑在眼内弥散后刺激视网膜其它部位而产生的电活动,反应振幅大,但黄斑/视盘的振幅比小,局部视网膜电图的精确性差;背景光过强时。视网膜遭到漂白,视网膜敏感度降低,记录的电反应振幅小,黄斑/视盘?
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关键词
局部视网膜电图
背景光强度
弥散光
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Keywords
focal electroretinogram light intensity of background irritation light
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分类号
R770.43
[医药卫生—眼科]
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题名焦距对计算关联成像质量影响的实验研究
被引量:1
- 2
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作者
彭宏韬
杨照华
李大鹏
吴令安
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机构
北京航空航天大学仪器科学与光电工程学院
中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室光物理重点实验室
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出处
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2016年第8期129-134,共6页
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基金
总装预研基金(37708901)
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文摘
传统光学成像要求像面在成像透镜组的焦平面上,以此获得最大的光通量,因此焦距对成像质量影响较大。研究了焦距对计算关联成像成像质量的影响,搭建计算关联成像系统,利用桶探测器信号的强度涨落分析不同焦距下的关联成像结果,分析了背景光强对强度涨落的影响。结果表明:焦距和背景光强的变化对计算关联成像成像质量影响不大,解决了热光关联成像中两光臂不等形成的散焦造成成像质量下降的问题,并且该成像只用一个无空间分辨能力的探测器就能完成高分辨率成像,降低了对探测器分辨能力的要求,避免了光通量在维度上的分配,提高了信噪比,且无需成像透镜,该成像方式非常适合用于极弱背景下的成像探测。
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关键词
计算关联成像
焦距
背景光强
强度涨落
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Keywords
computational ghost imaging
focal length
background light intensity
intensity fluctuation
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分类号
O431.2
[机械工程—光学工程]
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