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Organization and Ultra-Structural Components of Endothelial Surface Glycocalyx Revealed by Stochastic Optical Reconstruction Microscopy(STORM)
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作者 Jie Fan Yi Sun +2 位作者 Yifan Xia John M.Tarbell Bingmei M.Fua 《医用生物力学》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第A01期6-7,共2页
Introduction The endothelial cells(ECs)lining every blood vessel wall constantly expose to the mechanical forces generated by the blood flow.The EC responses to these hemodynamic forces play a critical role in the hom... Introduction The endothelial cells(ECs)lining every blood vessel wall constantly expose to the mechanical forces generated by the blood flow.The EC responses to these hemodynamic forces play a critical role in the homeostasis of the circulatory system.In addition to forming a transport barrier between the blood and vessel wall,vascular ECs play important roles in regulating circulation functions.Besides biochemical stimuli,blood flow induced(hemodynamic)mechanical stimuli,such as shear stress,pressure and circumferential stretch,modulate EC morphology and functions by activating mechanosensors,signaling pathways,and gene and protein expressions.The EC responses to the hemodynamic forces(mechano-sensing and transduction)are critical to maintaining normal vascular functions.Failure in the mechano-sensing and transduction leads to serious vascular diseases including hypertension,atherosclerosis,aneurysms and thrombosis,to name a few[1].On the luminal surface of our blood vessels,there is a thin layer called endothelial surface glycocalyx(ESG)which consists of proteoglycans,glycosaminoglycans(GAGs)and glycoproteins.The GAGs in the ESG are heparan sulfate(HS),hyaluronic acid(HA),chondroitin sulfate(CS),and sialic acid(SA)[2].In order to play important roles in vascular functions,such as being a mechanosensor and transducer for the endothelial cells(ECs)to sense the blood flow,a molecular sieve to maintain normal microvessel permeability and a barrier between the circulating cells and endothelial cells forming the vessel wall,the ESG should have an organized structure at the molecular level.Due to the limitations of optical and electron microscopy,the ultra-structure and organization of ESG has not been revealed until recent development of a super high resolution fluorescence optical microscope,STORM(Stochastic Optical Reconstruction Microscopy).The diffraction of a single fluorescence molecule can be described as the point spread function(PSF).When the light of wavelengthλexcites the fluorophore(emitter),the intensity profile of the spot is defined as the PSF with the width^0.6λ/NA,NA is the numerical aperture of the objective.The diffraction-limited image resolution,for a high numerical aperture objective lens,is^200 nm in the lateral direction and^500 nm in the axial direction,for a conventional fluorescence microscope.The key idea of the single-molecule localization microscopy is to light the molecule,in turn,to achieve the nanometer-level accuracy of their position and reconstruction into a super-resolution image,such as STORM.STORM employs photo-switching mechanisms to stochastically activate individual molecules(photo-switchable or photoactivatable fluorophores)within the diffraction-limited region at different times.Then images with sub-diffraction limit resolution are reconstructed from the measured positions of individual fluorophores[3].To trade the super spatial resolution(accuracy),STORM sacrifices its temporal resolution(efficiency)by switching the state and sequentially exciting the emitters at a high density.Rust et al[3]employed organic dyes and fluorescent proteins as photo-switchable emitters to trade temporal resolution for a super spatial resolution(~20 nm lateral and^50 nm axial at present,can go down to a couple of nanometers if using smaller peptides or antibody fragments instead of currently used whole anti-bodies),which is an order of magnitude higher than conventional confocal microscopy.In the current study,we employed STORM to reveal the major ultra-structural components of the ESG,HS and HA,and their organization at the surface of the cultured EC monolayer[4].Materials and methods We used newly acquired Nikon-STORM system to observe the ESG on in vitro EC(bEnd3,mouse brain microvascular endothelial cells)monolayers.After confluency,the bEnd3 cells were immunolabeled with anti-HS,fol-lowed by an ATT0488 conjugated goat anti-mouse IgG,and with biotinylated HA binding protein,followed by an AF647 conjugated anti-biotin.The ESG was then imaged by the STORM with a 100x/1.49 oil immersed lens.Multiple Reporters of ATT0488 and AF647 with alternating illumination were used to acquire the 3D images of HS and HA.The field of 256×256(40×40μm2)of HS and HA at the surface of ECs was obtained based on totally 40,000 of EM-CCD captured images for each reporter at a capturing speed of 19 ms/frame.Results HA is a long molecule weaving into a network which covers the endothelial luminal surface.The diameter of the HA segments is 185.3±44.7 nm,155.5±57.2 nm,and 156.9±56.1 nm,respectively,at the top,middle and bottom regions of the cell luminal surface.In contrast,HS is a shorter molecule,perpendicular to the cell surface.HA and HS are partially overlapped with each other at the endothelial luminal surface.We quantified the length,diameter,orientation,and density of HS at the top,middle and bottom regions of the endothelial surface.The diameter of the observed HS is 191.0±46.0 nm,284.3±71.1 nm,and 184.2±59.6 nm,and the length of the HS is 621.0±75.7 nm,651.0±118.0 nm,and 575.2±105.6 nm,respectively,at the top,middle and bottom regions of the cell luminal surface.For the HS orientation,its angle with the cell surface is 92.9±1.9,88.7±8.2,and 96.2±10.9 degree,respectively,at the top,middle and bottom regions.The angle of 90 degree is perfectly perpendicular to the cell surface.For the HS distribution,the average density is0.398 elements/μm2,0.345 elements/μm2 and 0.665 elements/μm2,respectively,and the distance between the adjacent HS is 1 694.4±628.1 nm,1 844.8±758.5 nm,and 1 221.9±450.7 nm,respectively,at the top,middle and bottom regions.Conclusions Our results suggest that HS plays a major role in mechanosensing and HA plays a major role in the molecular sieve,due to their organization,ultra-structure and distribution. 展开更多
关键词 ORGANIZATION Ultra-Structural components ENDOTHELIAL surface GLYCOCALYX REVEALED optical Reconstruction Microscopy STORM
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基于GBK标量散射模型的超光滑光学元件表面特性参数预测方法
2
作者 刘春江 张耘豪 +1 位作者 钟哲强 张彬 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2024年第10期152-160,共9页
在引力波探测系统中,要实现对引力波的高精度测量,超光滑光学元件散射特性至关重要。然而,现有光学元件表面特性参数测量方法难以满足超光滑光学元件的测量需求。针对这一难题,提出了一种基于GBK(Generalized Beckmann-Kirchhoff)标量... 在引力波探测系统中,要实现对引力波的高精度测量,超光滑光学元件散射特性至关重要。然而,现有光学元件表面特性参数测量方法难以满足超光滑光学元件的测量需求。针对这一难题,提出了一种基于GBK(Generalized Beckmann-Kirchhoff)标量散射模型的光学元件表面特性参数预测方法。利用GBK标量散射模型和基于光腔衰荡技术的表面散射测量方法,建立了表征超光滑光学元件表面特性参数(表面粗糙度和自相关长度)的方程组,进而利用图解法求解得到超光滑光学元件的表面特性参数。为了验证预测方法的适应性,对不同表面特性参数下的多种待测光学元件进行了预测,获得了不同表面特性参数下元件表面粗糙度和自相关长度预测值的相对误差曲线。结果表明:表面粗糙度在0.1064~1.064 nm范围内时,其预测值相对误差均在1%以内;自相关长度在1064~3192 nm范围内时,其预测值相对误差均在1%以内。因此,在文中提出的表面特性参数范围内,该预测方法能快速准确预测超光滑光学元件的表面特性参数,具有较好的适应性和有效性,可为引力波探测系统中超光滑光学元件散射特性的测量提供参考。 展开更多
关键词 引力波探测 超光滑光学元件 GBK标量散射模型 表面粗糙度 自相关长度
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基于图像预处理的光学元件表面粗糙度测量系统 被引量:1
3
作者 沈红伟 付苗苗 《激光杂志》 CAS 北大核心 2024年第5期252-256,共5页
在测量光学元件表面粗糙度时,测量结果往往比较片面,为此设计基于图像预处理技术的光学元件表面粗糙度测量系统。获取原始元件表面粗糙度干涉图像,通过对表面形貌图像实施图像去噪处理与倾斜校正处理获取滤波结果,通过自适应中值滤波算... 在测量光学元件表面粗糙度时,测量结果往往比较片面,为此设计基于图像预处理技术的光学元件表面粗糙度测量系统。获取原始元件表面粗糙度干涉图像,通过对表面形貌图像实施图像去噪处理与倾斜校正处理获取滤波结果,通过自适应中值滤波算法实施图像的去噪处理。在粗糙度参数评定模块中,根据取样长度对评定长度下定义,实施光学元件表面粗糙度的全面评定。利用设计系统测量三种光学元件的表面粗糙度。实验结果表明:通过设计系统能够获取高成像质量的表面粗糙度干涉图像,实现多种元件表面粗糙度的全面测量,具有一定应用价值。 展开更多
关键词 图像预见处理技术 压电陶瓷晶体 半导体激光器 光学元件 表面粗糙度测量
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拉普拉斯金字塔变换算法的光学元件表面疵病检测
4
作者 王广川 谢国亚 +1 位作者 罗小霞 徐鑫 《激光杂志》 CAS 北大核心 2024年第9期232-237,共6页
为了解决由于光学元件表面疵病造成光的散射、反射或透射现象,影响光学系统成像质量的问题,设计了基于多光谱技术的光学元件表面疵病检测方法。采集光学元件表面疵病的多光谱图像。采用拉普拉斯金字塔变换算法融合光学元件表面疵病的多... 为了解决由于光学元件表面疵病造成光的散射、反射或透射现象,影响光学系统成像质量的问题,设计了基于多光谱技术的光学元件表面疵病检测方法。采集光学元件表面疵病的多光谱图像。采用拉普拉斯金字塔变换算法融合光学元件表面疵病的多光谱图像,利用帧差法对两幅光学元件多光谱图像相减处理,获取光学元件表面疵病的二值图像特征,标记光学元件多光谱图像融合结果的连通区域,利用图像连通区域的长宽比等参数,检测光学元件表面疵病的种类、数量、大小。实验结果表明,该方法有效检测光学元件的麻点、划痕、破点等不同类型的表面疵病,表面疵病尺寸检测精度最高为98.15%。 展开更多
关键词 多光谱技术 光学元件 表面疵病检测 滤波片 帧差法 连通区域
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基于人工智能的光学表面疵病图像自动化拼接研究
5
作者 何佳 《自动化与仪表》 2024年第9期61-65,共5页
常规方法图像自动化拼接质量较差,为此提出基于人工智能的光学表面疵病图像自动化拼接方法。光学元件表面疵病检测系统对采集图像进行尺度缩放与向上采样,求取图像序列矩阵,结合重叠区域的交线权值提取图像基准特征点,并采用人工智能算... 常规方法图像自动化拼接质量较差,为此提出基于人工智能的光学表面疵病图像自动化拼接方法。光学元件表面疵病检测系统对采集图像进行尺度缩放与向上采样,求取图像序列矩阵,结合重叠区域的交线权值提取图像基准特征点,并采用人工智能算法配准图像,对基准特征点进行匹配,以此为依据,通过融合多频段图像与分析图像梯度的敏感度变化规律对待拼接图像的拼接区域进行标记、实现图像自动化拼接。以光学表面疵病图像为实验对象,实验结果表明,所提方法在不同测试图像中获得的自动化拼接图像自然度均在1.0以上,自动化拼接图像自然度较高,图像的自动化拼接质量较好。 展开更多
关键词 人工智能 光学元件 表面疵病图像 图像自动化拼接
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空间引力波探测系统中超光滑光学元件表面散射特性分析 被引量:5
6
作者 张耘豪 钟哲强 张彬 《光电工程》 CSCD 北大核心 2023年第11期86-96,共11页
在引力波探测系统中,超光滑光学元件表面散射特性对高精度引力波测量至关重要。本文针对超光滑光学元件,建立了一种能快速准确地分析和预测其表面散射特性的非傍轴标量散射模型Generalized Beckmann-Kirchhoff(GBK)。在此基础上,研究了... 在引力波探测系统中,超光滑光学元件表面散射特性对高精度引力波测量至关重要。本文针对超光滑光学元件,建立了一种能快速准确地分析和预测其表面散射特性的非傍轴标量散射模型Generalized Beckmann-Kirchhoff(GBK)。在此基础上,研究了入射角度、散射方位角对P偏振和S偏振入射光的角分辨散射分布的影响,以及入射角度、散射方位角、自相关长度、斜率、截止频率以及表面粗糙度等因素对不同表面统计分布特征下的角分辨散射分布的影响。研究结果可为引力波探测系统中超光滑光学元件的加工、系统杂散光的产生及抑制等提供参考。 展开更多
关键词 超光滑光学元件 表面散射模型 偏振散射特性 角分辨散射分布
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离子束加工光学镜面的材料去除特性 被引量:24
7
作者 焦长君 李圣怡 +2 位作者 王登峰 解旭辉 周林 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第10期1520-1526,共7页
分析了离子束加工光学镜面的材料去除效率、加工损伤厚度以及表面热效应等材料去除评价指标。基于Sigmund溅射理论,分析了此三个评价指标与离子入射角度和离子能量等加工参数的关系,建立了相关模型。以石英玻璃为例,利用TRIM软件仿真离... 分析了离子束加工光学镜面的材料去除效率、加工损伤厚度以及表面热效应等材料去除评价指标。基于Sigmund溅射理论,分析了此三个评价指标与离子入射角度和离子能量等加工参数的关系,建立了相关模型。以石英玻璃为例,利用TRIM软件仿真离子溅射过程,分析理论模型各参数,具体研究了三个评价指标与离子能量和入射角度的关系。结果表明:材料去除效率随离子能量的增大而缓慢增大,随入射角度增大而显著增大,60°时的去除效率约为0°时的4.5倍;加工损伤厚度随离子能量增大而近似呈线性增大,随入射角度增大而减小;热效应随离子能量近似呈线性增大,而随入射角度增大而减小。因此,离子束加工工艺过程中,应尽量增大离子束入射倾角来同时提高这三方面的指标。 展开更多
关键词 光学镜面 离子溅射 去除效率 加工损伤 热效应
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数字全息术用于光学元件表面缺陷形貌测量 被引量:24
8
作者 陈竹 姜宏振 +1 位作者 刘旭 陈波 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期576-583,共8页
利用像面数字全息显微术对光学元件表面缺陷的三维形貌测量进行了理论及实验研究。设计并搭建了相应光路系统记录全息图,采用角谱算法数值重建物光场,通过相位修正消除了系统误差引入的波前畸变,获得了经过待测光学元件表面缺陷调制的... 利用像面数字全息显微术对光学元件表面缺陷的三维形貌测量进行了理论及实验研究。设计并搭建了相应光路系统记录全息图,采用角谱算法数值重建物光场,通过相位修正消除了系统误差引入的波前畸变,获得了经过待测光学元件表面缺陷调制的物光相位分布,并根据建立的相位分布与表面缺陷面形的关系模型计算得到缺陷三维形貌。实验以多个划痕和麻点等常见表面缺陷作为测量对象,分别获得了它们的三维形貌,以其中一条实际宽度为35μm、深度为270nm的划痕为例,测量得到该划痕的宽度为35.21μm,平均深度为267.6nm,与真实值相比,横向测量误差为0.6%,纵向测量误差为0.9%。实验结果证实该测量方法是有效、可靠的,能够准确测量光学元件表面缺陷的三维形貌,因而有助于判断光学元件损伤程度以及分析缺陷对系统波前的影响,对保障高功率激光装置的安全正常运行有重要意义。 展开更多
关键词 数字全息显微术 三维形貌测量 光学元件 表面缺陷 相位修正
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基于亚像素定位的贴装元件精确取像技术 被引量:9
9
作者 欧阳高飞 邝泳聪 +1 位作者 谢宏威 张宪民 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2010年第6期16-22,共7页
自动光学检测系统中采集到的贴装元件图像存在平移和旋转误差。针对该问题,提出了基于亚像素定位技术的贴装元件精确取像方法,该方法结合Canny边缘分割、基于空间矩的亚像素细分、最小二乘法拟合等技术,对基准点进行亚像素定位,并以此... 自动光学检测系统中采集到的贴装元件图像存在平移和旋转误差。针对该问题,提出了基于亚像素定位技术的贴装元件精确取像方法,该方法结合Canny边缘分割、基于空间矩的亚像素细分、最小二乘法拟合等技术,对基准点进行亚像素定位,并以此为基础进行贴装元件的精确取像,消除电路板的定位误差和制造误差,从而保证了自动光学检测系统的检测准确度。实验结果表明:本文算法对元件图像提取精确且稳定,满足高精度视觉检测要求。 展开更多
关键词 亚像素定位 贴装元件 印刷电路板 自动光学检查系统
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基于压力补偿原理的抛光面形快速收敛技术 被引量:3
10
作者 谢瑞清 李亚国 +3 位作者 陈贤华 黄浩 王健 许乔 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期423-427,共5页
为解决强激光系统中大口径光学元件抛光面形精度收敛困难的问题,提出了一种基于压力补偿原理的抛光面形快速收敛技术。利用独特的抛光垫修整技术,将抛光垫表面修整成特定形状,使工件与抛光垫的接触面产生不均匀的压力分布,并结合精确的... 为解决强激光系统中大口径光学元件抛光面形精度收敛困难的问题,提出了一种基于压力补偿原理的抛光面形快速收敛技术。利用独特的抛光垫修整技术,将抛光垫表面修整成特定形状,使工件与抛光垫的接触面产生不均匀的压力分布,并结合精确的抛光转速控制,以加快工件面形精度的收敛速度。实验结果表明,将抛光垫修整成微凸面形,可以有效避免抛光中元件过早塌边问题,能将大口径平面元件的初抛时间从数天缩短到6 h以内,元件面形精度提高到1个波长左右。 展开更多
关键词 光学元件 抛光 面形精度 压力分布 抛光垫
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头盔显示器自由曲面光学组件的优化设计 被引量:3
11
作者 张博 王凌 +2 位作者 常伟军 陈姣 焦明印 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2014年第2期193-197,共5页
根据设计要求计算了非共轴球面光学系统的初始结构,选定泽尼克多项式为自由曲面面型,利用正交泽尼克多项式与像差的关系,调整曲面参数校正系统的像差,运用CODE V进行系统优化。通过设计实例对比了直接优化和分步优化方法,由对比结果可知... 根据设计要求计算了非共轴球面光学系统的初始结构,选定泽尼克多项式为自由曲面面型,利用正交泽尼克多项式与像差的关系,调整曲面参数校正系统的像差,运用CODE V进行系统优化。通过设计实例对比了直接优化和分步优化方法,由对比结果可知,分步优化更适用于自由曲面光学组件的设计。仿真结果表明:系统在整个视场范围内,点列斑直径小于27μm,网格畸变的最大值为-7.15%,30lp/mm处的MTF大于0.197。 展开更多
关键词 光学设计 自由曲面组件 泽尼克多项式 优化
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加工误差引入的薄型KDP晶体附加面形 被引量:3
12
作者 熊召 崔凯洪 +3 位作者 张彬 贾凯 徐攀 袁晓东 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第2期343-348,共6页
针对惯性约束聚变(ICF)驱动装置中口径为400mm×400mm薄型频率转换KDP晶体在45°放置状态下产生的附加面形问题,采用有限元分析软件ANSYS,建立了以实测数据为基础的大口径薄型KDP晶体的应变模型和有加工误差的夹具模型,仿真分析... 针对惯性约束聚变(ICF)驱动装置中口径为400mm×400mm薄型频率转换KDP晶体在45°放置状态下产生的附加面形问题,采用有限元分析软件ANSYS,建立了以实测数据为基础的大口径薄型KDP晶体的应变模型和有加工误差的夹具模型,仿真分析了KDP晶体的加工误差和夹具的加工误差对KDP晶体附加面形的影响,给出了KDP晶体附加面形变化的P-V值和RMS值。在此基础上,通过对KDP晶体的加工误差及夹具支撑表面不同类型和不同大小加工误差的分析和比较,得出:KDP晶体边缘的加工误差和夹具支撑表面的凹型加工误差是引起较大附加面形的原因之一,KDP晶体的加工误差也会导致其面形变化不均匀,而夹具支撑表面的凸型、波浪形加工误差和压条表面的随机加工误差对KDP晶体附加面形的影响相对较小,且支撑表面的随机加工误差引起的附加面形变化介于其他两者之间。 展开更多
关键词 大口径光学元件 薄型KDP晶体 加工误差 附加面形 夹具 支撑表面 压条
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基于权重的子孔径拼接优化算法研究 被引量:3
13
作者 田爱玲 吴世霞 +1 位作者 刘丙才 张鹏飞 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第8期943-949,共7页
为了提高大口径光学元件面形拼接检测准确度,减少传统子孔径拼接算法带来的误差传递和积累,并在原有全局优化拼接算法的基础上引入权重系数,使全口径内各相邻子孔径之间的重叠区域达到最优匹配,使拼接误差最小化.利用该优化算法对平面... 为了提高大口径光学元件面形拼接检测准确度,减少传统子孔径拼接算法带来的误差传递和积累,并在原有全局优化拼接算法的基础上引入权重系数,使全口径内各相邻子孔径之间的重叠区域达到最优匹配,使拼接误差最小化.利用该优化算法对平面进行了多孔径拼接仿真模拟,在此基础上对150mm口径的平面镜进行了实验,并提出基于图像边缘轮廓特征提取的子孔径定位新方法,分析了影响拼接误差的因素.仿真和实验结果均证明了基于权重的全局优化拼接算法的有效性和可行性. 展开更多
关键词 光学面形检测 子孔径拼接 全局优化算法 大口径光学元件
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大口径光学件误差均化拼接技术 被引量:6
14
作者 程刚 蒋世磊 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期118-120,129,共4页
运用子孔径检测及拼接的方法可完成大口径光学件面形的干涉测量。为了能够减少子孔径拼接的误差累积与数据处理算法带来的精度影响,运用子孔径拼接的误差拼接算法,并通过对实验检测数据的处理,得到拼接结果与全孔径检测结果比较,面形波... 运用子孔径检测及拼接的方法可完成大口径光学件面形的干涉测量。为了能够减少子孔径拼接的误差累积与数据处理算法带来的精度影响,运用子孔径拼接的误差拼接算法,并通过对实验检测数据的处理,得到拼接结果与全孔径检测结果比较,面形波面峰谷值相差0.084,均方根值相差0.01,误差在Veeco光学干涉测量仪器的公差范围内。实验结果验证了误差均化算法可有效减少误差的传递与累积,实现子孔径拼接技术对大口径光学件的正确检测。 展开更多
关键词 子孔径拼接 大口径光学件 误差均化法 面形测量
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大口径平面快速抛光机床误差模型研究 被引量:1
15
作者 谢瑞清 王健 +2 位作者 陈贤华 廖德锋 赵世杰 《制造技术与机床》 北大核心 2015年第8期30-34,共5页
介绍了大口径平面光学元件快速抛光机床的加工原理,分析了全口径抛光工艺中抛光模与工件之间的精度传递关系,并推导了修整器几何参数对抛光模修整精度及元件加工面形精度的影响规律。对大口径平面快速抛光机床的各项几何误差源进行了分... 介绍了大口径平面光学元件快速抛光机床的加工原理,分析了全口径抛光工艺中抛光模与工件之间的精度传递关系,并推导了修整器几何参数对抛光模修整精度及元件加工面形精度的影响规律。对大口径平面快速抛光机床的各项几何误差源进行了分析,并基于多体系统理论,建立了机床修整轴综合空间姿态误差的理论计算模型,详细阐述了机床误差建模过程。 展开更多
关键词 光学元件 抛光 面形精度 机床误差 模型
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利用散斑图像测量表面粗糙度的计算机模拟及实验 被引量:2
16
作者 赵学增 高昭 《光学技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期239-243,共5页
从菲涅耳-基尔霍夫衍射公式出发推导出了粗糙面近场衍射方程。通过对观察面散斑光强统计特性的分析,提出了采用镜射光强分量法测量表面粗糙度的思想。为验证该方法的有效性,首先用计算机模拟产生具有不同统计特性的随机表面,然后对由随... 从菲涅耳-基尔霍夫衍射公式出发推导出了粗糙面近场衍射方程。通过对观察面散斑光强统计特性的分析,提出了采用镜射光强分量法测量表面粗糙度的思想。为验证该方法的有效性,首先用计算机模拟产生具有不同统计特性的随机表面,然后对由随机表面产生的散斑场及其光强分布进行计算。计算结果表明,与传统的散斑对比度法相比,散斑镜射光强分量法测量弱粗糙表面粗糙度具有更大的适用范围和更高的测量精度,克服了散斑对比度法易受表面横向相关长度影响的缺点。通过实验对计算机模拟结果进行了验证。 展开更多
关键词 光学测量 散斑 表面粗糙度 镜射光强分量 计算机模拟
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高准确度玻璃光学元件的CMP技术研究 被引量:4
17
作者 陈勇 李攀 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第12期2499-2503,共5页
依据化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)加工玻璃光学元件的原理,通过对抛光运动机理的理论分析,提出了抛光垫的磨削均匀性对光学元件面形的影响,并设计了新的工艺流程.通过工艺试验,完成了高准确度玻璃光学元件的CMP加工... 依据化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)加工玻璃光学元件的原理,通过对抛光运动机理的理论分析,提出了抛光垫的磨削均匀性对光学元件面形的影响,并设计了新的工艺流程.通过工艺试验,完成了高准确度玻璃光学元件的CMP加工,获得了表面质量N<0.2,Rq<0.3nm的玻璃光学元件. 展开更多
关键词 玻璃光学原件 超光滑表面 化学机械抛光 抛光垫 运动机理分析
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数字图像在光学元件表面缺陷检测与分析 被引量:2
18
作者 刘继华 强彦 《激光杂志》 北大核心 2016年第8期37-39,共3页
针对传统光学元件表面缺陷检测算法难以获得高精度的结果,为实现光学元件表面缺陷的准确检测,提出一种基于数字图像的光学元件表面缺陷检方法。首先采集光学元件表面缺陷的图像,然后采用中值滤波方法对图像进行去噪声处理,消除干扰,最... 针对传统光学元件表面缺陷检测算法难以获得高精度的结果,为实现光学元件表面缺陷的准确检测,提出一种基于数字图像的光学元件表面缺陷检方法。首先采集光学元件表面缺陷的图像,然后采用中值滤波方法对图像进行去噪声处理,消除干扰,最后采用最大类间方差法对光学元件表面缺陷进行分割,检测出缺陷区域。结果表明,本文方法克服传统方法不足,可以完成光学元件表面缺陷的完整检测,检测时间相对较短。 展开更多
关键词 数学图像 光学元件 表面缺陷检测 特征提取
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无银全息光学元件的衍射效率研究 被引量:1
19
作者 赵文杰 《兰州铁道学院学报》 2002年第4期92-95,共4页
基于二元光学原理 ,提出可在光路中对矩形波相位全息光栅进行多次就地涂布感光材料 ,并就地进行一系列表面浮雕型全息图的处理工艺 ,加大了浮雕深度 ,使其形成相位变化近 2π的连续浮雕 ,类似于多值型器件 ,具有较高的同轴衍射效率 ,可... 基于二元光学原理 ,提出可在光路中对矩形波相位全息光栅进行多次就地涂布感光材料 ,并就地进行一系列表面浮雕型全息图的处理工艺 ,加大了浮雕深度 ,使其形成相位变化近 2π的连续浮雕 ,类似于多值型器件 ,具有较高的同轴衍射效率 ,可作为有实用价值的全息光学元件 .并从理论上分析了该方法的机理 ,实验上解释了可行性 . 展开更多
关键词 全息光学元件 表面浮雕 相位 衍射效率 全息图转化
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精密光学元件表面中频误差的提取研究
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作者 林建兴 高诚辉 任志英 《机械制造与自动化》 2015年第5期85-88,共4页
能否准确对精密光学元件表面评价势必影响着光学元件研制与生产,其中中频误差的提取逐渐显得重要。提出了利用双树复小波变换(DT-CWT)对精密光学元件表面提取信号进行多尺度分解,以定义的均方根波长确定其双树复小波分解次数,进行中频... 能否准确对精密光学元件表面评价势必影响着光学元件研制与生产,其中中频误差的提取逐渐显得重要。提出了利用双树复小波变换(DT-CWT)对精密光学元件表面提取信号进行多尺度分解,以定义的均方根波长确定其双树复小波分解次数,进行中频误差的提取与识别。此方法应用于精磨和镀膜的精密光学元件表面中,实验证实该方法不仅可以应用于一维信号的提取,同样也适合三维表面中频波段面形误差的提取。 展开更多
关键词 双树复小波 精密光学元件表面 中频误差 提取
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