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对GaAs衬底表面进行氩离子清洗的研究 被引量:1
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作者 刘斌 方高瞻 +2 位作者 张敬明 马骁宇 肖建伟 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2003年第1期22-23,共2页
介绍了离子清洗技术在提高 980nm半导体激光器可靠性方面的应用。外延片在空气中解理后 ,半导体激光器的腔面会吸附上碳和氧等杂质。腔面吸附的氧和碳严重影响了器件的可靠性。本文用GaAs衬底表面模拟半导体激光器的解理腔面 ,并对其进... 介绍了离子清洗技术在提高 980nm半导体激光器可靠性方面的应用。外延片在空气中解理后 ,半导体激光器的腔面会吸附上碳和氧等杂质。腔面吸附的氧和碳严重影响了器件的可靠性。本文用GaAs衬底表面模拟半导体激光器的解理腔面 ,并对其进行氩离子清洗 ,俄歇电子能谱 (AES) 展开更多
关键词 gaas衬底 氩离子 半导体激光器 可靠性 离子清洗
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GaAs衬底上Mn/Sb多层铁磁膜的磁光克尔效应
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作者 王学忠 蔡明 +3 位作者 陈辰嘉 孙允希 孙騊亨 张毓英 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期33-36,共4页
利用超高真空电子束蒸发技术在 Ga As(10 0 )上生长 Mn/ Sb多层膜 ,并经短时间热退火处理分别研究了其退火前后的磁性、磁光克尔效应及相应规律 .退火前 Mn/ Sb膜在室温下即具有较强的铁磁特性 ,其易磁化轴在膜面内 ,样品表面由密集的... 利用超高真空电子束蒸发技术在 Ga As(10 0 )上生长 Mn/ Sb多层膜 ,并经短时间热退火处理分别研究了其退火前后的磁性、磁光克尔效应及相应规律 .退火前 Mn/ Sb膜在室温下即具有较强的铁磁特性 ,其易磁化轴在膜面内 ,样品表面由密集的岛状铁磁颗粒组成 ,未能观测到纵向 (H∥平面 )克尔效应 .经 35 0℃、2 0 m in退火的样品显示了最大饱和磁化强度 Ms和最小矫顽力 H c,X射线衍射测量表明膜为 Mn Sb单晶并具有均匀的铁磁特性 ,能观测到显著的极向和纵向磁光克尔效应 。 展开更多
关键词 铁磁性 磁光克尔效应 短时间退火 锰/锑多层膜 gaas衬底 锰/锑铁磁膜
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多层W-Si薄膜及其与GaAs衬底间的界面特性
3
作者 邵丙铣 郑庆平 +2 位作者 戎瑞芬 陈祥君 钱向阳 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1992年第1期50-54,共5页
本文详细叙述了多层W-Si薄膜的制备技术、生长速率、热退火对薄膜性能的影响,薄膜与GaAs衬底间的界面行为等。
关键词 场效应器件 界面 N-Si膜 gaas衬底
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在GaAs衬底上用MBE和MEE方法生长的ZnSe膜的对比研究
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作者 孟立建 《液晶与显示》 CAS CSCD 1989年第6期25-30,共6页
1.引言ZnSe是一种直接觉带隙半导体,它在制备蓝色发光器件方面有潜在的应用。人们已经利用MBE和MOCVD方法生长出结构完整的ZnSe薄膜。最近的研究工作表明,可以在这种材料中实现P型转换。这种P型材料已经被用来制备p-n结,在低温下已经观... 1.引言ZnSe是一种直接觉带隙半导体,它在制备蓝色发光器件方面有潜在的应用。人们已经利用MBE和MOCVD方法生长出结构完整的ZnSe薄膜。最近的研究工作表明,可以在这种材料中实现P型转换。这种P型材料已经被用来制备p-n结,在低温下已经观察到来自该结的蓝色带边发射。本文研究了用常规分子束外延(MBE)和扩散加强外延(MEE)方法在GaAs衬底上生长的ZnSe薄膜. 展开更多
关键词 ZNSE gaas衬底 MEE MBE 发光器件 MOCVD 原子层 分子束外延 结晶质量 晶格畸变
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基于GaAs衬底的1280×1024 InAsSb双色焦平面阵列技术
5
作者 张小华 《红外》 CAS 2021年第10期45-48,共4页
前几年,Ⅲ-Ⅴ族锑基探测器替代了HgCdTe探测器,主要因为其成本更低,均匀性和稳定性更好,易于扩展到更大的格式。与中红外波段的HgCdTe材料相比,Ⅲ-Ⅴ材料更容易加工成大尺寸、小间距的焦平面阵列。焦平面阵列成像仪中的传统红外探测器... 前几年,Ⅲ-Ⅴ族锑基探测器替代了HgCdTe探测器,主要因为其成本更低,均匀性和稳定性更好,易于扩展到更大的格式。与中红外波段的HgCdTe材料相比,Ⅲ-Ⅴ材料更容易加工成大尺寸、小间距的焦平面阵列。焦平面阵列成像仪中的传统红外探测器通常包含一个厚度均匀的材料层,以吸收入射光。探测器阵列通常与硅读出集成电路互联。空气和探测器材料的折射率不匹配会引起入射光反射,为了最大限度地减少这种反射,通常采用多层增透涂层。 展开更多
关键词 焦平面阵列 探测器阵列 红外探测器 HGCDTE探测器 中红外波段 gaas衬底 HGCDTE材料 探测器材料
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基于GaAs衬底的功分器芯片设计
6
作者 韦雪真 白银超 +1 位作者 王朋 郝志娟 《电声技术》 2022年第10期121-123,共3页
依据Wilkinson功分器原理,将四分之一波长传输线等效为集总参数电路,在GaAs衬底上设计并实现一款20~30 GHz宽带功分器芯片。通过工艺线提供的衬底设置和电磁仿真软件建模仿真优化,功分器的测试结果和仿真结果具有较高的一致性。芯片尺寸... 依据Wilkinson功分器原理,将四分之一波长传输线等效为集总参数电路,在GaAs衬底上设计并实现一款20~30 GHz宽带功分器芯片。通过工艺线提供的衬底设置和电磁仿真软件建模仿真优化,功分器的测试结果和仿真结果具有较高的一致性。芯片尺寸为0.9 mm×0.7 mm×0.1 mm。探针台在片测试结果表明,功分器芯片在设计带宽20~30 GHz内,插入损耗小于4 dB,隔离度大于20 dB,输入回波损耗和输出回波损耗均优于15 dB,具有低损耗、高隔离、驻波好、面积小、成本低的优良特性。 展开更多
关键词 WILKINSON功分器 gaas衬底 插入损耗
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GaAs吸收衬底生长的立方相GaN发光二极管的工艺设计与实现 被引量:5
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作者 孙元平 张泽洪 +4 位作者 赵德刚 冯志宏 付羿 张书明 杨辉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第9期1001-1005,共5页
利用光学薄膜原理 ,计算了采用晶片键合技术来提高以 Ga As为衬底的立方相 Ga N的出光效率的理论可行性 .以 Ni为粘附层 ,Ag为反射层的 Ni/ Ag/ Au薄膜体系可以使立方 Ga N的出光效率从理论上提高 2 .6 5倍左右 .实验结果证实 ,利用键... 利用光学薄膜原理 ,计算了采用晶片键合技术来提高以 Ga As为衬底的立方相 Ga N的出光效率的理论可行性 .以 Ni为粘附层 ,Ag为反射层的 Ni/ Ag/ Au薄膜体系可以使立方 Ga N的出光效率从理论上提高 2 .6 5倍左右 .实验结果证实 ,利用键合方法实现的以 Ni/ Ag/ Au作为反射膜的样品的光反射率比未做键合的 Ga N/ Ga As样品的光反射率在理论计算的 4 5 9.2 nm处提高了 2 .4倍 . 展开更多
关键词 发光二极管 立方相GAN 晶片键合 工艺设计 gaas衬底
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测定GaAs(001)衬底上InAs的生长速率 被引量:4
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作者 郭祥 罗子江 +4 位作者 张毕禅 尚林涛 周勋 邓朝勇 丁召 《物理实验》 北大核心 2011年第1期11-15,共5页
报道了间接测定InAs生长速率的方法.通过设置不同Ga源温度,固定In源温度;和固定Ga源温度,设置不同In源温度,在GaAs(001)衬底上生长GaAs与InGaAs,用RHEED强度振荡测定GaAs与InGaAs的生长速率.验证了InGaAs的生长速率为GaAs的生长速率与I... 报道了间接测定InAs生长速率的方法.通过设置不同Ga源温度,固定In源温度;和固定Ga源温度,设置不同In源温度,在GaAs(001)衬底上生长GaAs与InGaAs,用RHEED强度振荡测定GaAs与InGaAs的生长速率.验证了InGaAs的生长速率为GaAs的生长速率与InAs的生长速率之和,得到了In源温度在845~880℃时InAs的生长速率曲线. 展开更多
关键词 MBE RHEED gaas(001) 强度振荡 InAs生长速率
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生长在GaAs(100)衬底上的未掺In0.5Ga0.5P和In0.5Ga0.5P0.99As0.01中的深...
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作者 青春 《电子材料快报》 1995年第10期14-15,共2页
关键词 gaas衬底 INGAP InGaPAs 深能级 薄膜生长
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离子束外延制备GaAs:Gd薄膜
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作者 宋书林 陈诺夫 +4 位作者 周剑平 尹志岗 李艳丽 杨少延 刘志凯 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期336-337,共2页
 室温条件下,用低能离子束外延制备了GaAs∶Gd薄膜,X射线衍射(XRD)结果表明除了GaAs衬底峰没有发现其它新相的衍射峰,并借助于高分辨X射线衍射(HR XRD)进一步分析了晶格常数的变化特点。俄歇电子能谱(AES)分析了样品表面的成分,及元素...  室温条件下,用低能离子束外延制备了GaAs∶Gd薄膜,X射线衍射(XRD)结果表明除了GaAs衬底峰没有发现其它新相的衍射峰,并借助于高分辨X射线衍射(HR XRD)进一步分析了晶格常数的变化特点。俄歇电子能谱(AES)分析了样品表面的成分,及元素随深度的分布规律,在60nm深处元素的相对含量发生明显改变,运用原子力显微镜(AFM)揭示了样品表面的形貌特点。 展开更多
关键词 gaas:Gd薄膜 低能离子束外延 gaas衬底
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GaAs多量子阱超晶格表面激光光伏效应
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作者 王德煌 王威礼 +1 位作者 王恩哥 周小川 《量子电子学报》 CAS CSCD 1992年第1期86-87,共2页
由于MOCVD、MBE等半导体材料生长技术飞跃发展,半导体多量子阱和超晶格的制备、研究和应用越来越引起广泛重视。GaAs多量子阱超晶格是较为成熟的一种结构。本文初次报道GaAs多量子阱超晶格表面激光辐照感生的光伏效应研究结果。实验样... 由于MOCVD、MBE等半导体材料生长技术飞跃发展,半导体多量子阱和超晶格的制备、研究和应用越来越引起广泛重视。GaAs多量子阱超晶格是较为成熟的一种结构。本文初次报道GaAs多量子阱超晶格表面激光辐照感生的光伏效应研究结果。实验样品是在〈001〉晶向半绝缘GaAs衬底上,MBE生长1.5μm n^+-GaAs缓冲层后,交替地周期生长两种阱宽和垒宽,不同周期数的掺硅GaAs层,构成GaAs多量子阱超晶格结构。 展开更多
关键词 多量子阱 光伏效应 超晶格 gaas衬底 激光辐照 半导体多量子阱 激光功率 激光感生电压 超晶格结构 MOCVD
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7~13 GHz GaAs单片40W限幅低噪声放大器 被引量:5
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作者 彭龙新 王溯源 +2 位作者 凌志健 章军云 徐波 《固体电子学研究与进展》 CSCD 北大核心 2017年第5期F0003-F0003,共1页
南京电子器件研究所首次研制出7~13GHz连续波40W大功率限幅器+低噪声放大器集成单片。根据大功率和低噪声要求,将PIN二极管和低噪声PHEMT两种材料集成在同~GaAs衬底上,
关键词 低噪声放大器 gaas衬底 限幅器 单片 南京电子器件研究所 PIN二极管 PHEMT 大功率
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GaAs(100)上外延Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3(101)铁电薄膜的制备与性能研究
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作者 李争刚 朱俊 +1 位作者 刘兴鹏 周云霞 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2018年第8期40-44,共5页
采用激光分子束外延技术,在GaAs(100)衬底上,利用SrTiO_3(STO)/TiO_2复合缓冲层生长外延Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3(PZT)铁电薄膜。TiO_2/STO复合缓冲层的引入用来减小晶格失配和界面互扩散,达到提高外延PZT铁电薄膜的结晶质量和电学性... 采用激光分子束外延技术,在GaAs(100)衬底上,利用SrTiO_3(STO)/TiO_2复合缓冲层生长外延Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3(PZT)铁电薄膜。TiO_2/STO复合缓冲层的引入用来减小晶格失配和界面互扩散,达到提高外延PZT铁电薄膜的结晶质量和电学性能的目的。TiO_2和STO的生长通过原位反射高能电子衍射仪(RHEED)实时监控。该异质结构的面外外延关系为PZT(101)//STO(110)//TiO_2(110)//GaAs(100)。PZT/STO/TiO_2/GaAs异质结构在电场为-250×10~3V/cm时漏电流密度低于1×10^(-6)A/cm^2,剩余极化强度(2P_r)高达24×10^(-6)C/cm^2。此外,在模拟太阳光(AM1.5G)照明下,这种异质结构通过剩余极化增强的光电转换效率为10.01%。 展开更多
关键词 激光分子束外延 外延PZT gaas衬底 SrTiO3(STO)/TiO2缓冲层 铁电性能 光伏性能
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Morphology and Microstructure of InAs Nanowires on GaAs Substrates Grown by Molecular Beam Epitaxy 被引量:1
14
作者 石遂兴 卢振宇 +3 位作者 张智 周晨 陈平平 邹进 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2014年第9期159-162,共4页
我们成功地在 GaAs 底层上种高质量的 wurtzite InAs nanowires。生长温度的影响和 InAs nanowires 的形态学和微观结构上的 GaAs 底层的取向也被调查。我们发现那低生长温度(330 ?
关键词 gaas衬底 生长温度 纳米线 砷化铟 分子束外延 微观结构 形态 砷化镓
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In(Ga)As/GaAs量子点的生长、表面局域电流及离子注入改性研究通过验收
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《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期213-213,共1页
近日,由中科院上海技物所李天信博士后负责承担的上海市纳米专项“In(Ga)As/GaAs量子点的生长、表面局域电流及离子注入改性研究”通过专家组验收。项目组通过对异质外延的量子点生长动力学和摸索和掌握,应用分子束外延方法在GaAs... 近日,由中科院上海技物所李天信博士后负责承担的上海市纳米专项“In(Ga)As/GaAs量子点的生长、表面局域电流及离子注入改性研究”通过专家组验收。项目组通过对异质外延的量子点生长动力学和摸索和掌握,应用分子束外延方法在GaAs衬底上生长了InAs表面量子点和In(Ga)As5—10层嵌埋量子点。获得了高密度、尺寸相对均匀的量子点样品。通过在原子力显微镜上加装电流模块,选择使用导电微悬背,对In(Ga)As/GaAs量子点的局域电导特性进行了系统研究。得到了生长在不同掺杂特性(n型、p型)缓冲层上的表面量子点的扫描电流像。 展开更多
关键词 gaas衬底 生长动力学 扫描电流 量子点 离子注入 表面 通过验收 局域
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GaAs MESFET栅的取向效应——Ⅱ.实验
16
作者 黄庆安 童勤义 吕世骥 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第5期274-278,共5页
研究了(100)GaAs衬底上,离子注入自对准 WSi_x栅 GaAs MESFET的阈值电压漂移与栅长和取向的关系。当栅长小于2μm时,栅不同取向的阈值电压差别很大.本文同样将解析模型与已有的(111)GaAs衬底的实验进行了比较.结果表明解析模型与实验符... 研究了(100)GaAs衬底上,离子注入自对准 WSi_x栅 GaAs MESFET的阈值电压漂移与栅长和取向的关系。当栅长小于2μm时,栅不同取向的阈值电压差别很大.本文同样将解析模型与已有的(111)GaAs衬底的实验进行了比较.结果表明解析模型与实验符合较好. 展开更多
关键词 MESFET栅 取向效应 gaas衬底
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Effects of Thermal Annealing on the Spectral Properties of GaAsBi Alloys Grown by Molecular Beam Epitaxy (MBE)
17
作者 Ahmed Mohammed Alkaoud 《材料科学与工程(中英文A版)》 2015年第7期249-256,共8页
关键词 分子束外延生长 热退火 光谱性质 MBE gaas衬底 合金 生长温度 光学性能
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Effects of thickness on cubic GaN nucleation layers on GaAs(001) substrates
18
作者 X.H.Zheng X.M.Jiang 《Beijing Synchrotron Radiation Facility》 2001年第1期141-146,共6页
The effects of growth time on the structure and morphology of cubic GaN nucleation layers on GaAs(001)substrates by metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) have been investigated using a synchrotron X-ray diffr... The effects of growth time on the structure and morphology of cubic GaN nucleation layers on GaAs(001)substrates by metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) have been investigated using a synchrotron X-ray diffraction(XRD).The XRD results show that the GaN 111 reflections at 54.75° inχ are a measurable component,however the 002 reflections parallel to GaAs(001) surface are not detected.The XRD Φ scans and pole figures give a convincing proof that the GaN nucleation latyers show exactly the cubic symmetrical structure.The coherence lengths along the close-packed<111> direction estuimated from the 111 peak are nanometer order of magnitude,The optimal photoluminescence (PL) spectrum was obtained from the cubic GaN epilayer deposited on the nucleation layer for 60sec. 展开更多
关键词 GaN 成核层 gaas衬底
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半绝缘GaAs单晶衬底的繁荣期
19
作者 邓志杰(摘译) 《现代材料动态》 2007年第2期15-15,共1页
据战略分析公司最新统计,2005年半绝缘GaAs(SiGaAs)单晶衬底需求增长率为16%/年。由于从2006年起,多模式、多频段手机要求不断增加复杂的前端模块,估计2006-2008年间对该种衬底需求量更大,整个SiGaAs衬底市场到2010年可望达到2... 据战略分析公司最新统计,2005年半绝缘GaAs(SiGaAs)单晶衬底需求增长率为16%/年。由于从2006年起,多模式、多频段手机要求不断增加复杂的前端模块,估计2006-2008年间对该种衬底需求量更大,整个SiGaAs衬底市场到2010年可望达到2.47亿美元。 展开更多
关键词 gaas衬底 gaas单晶 半绝缘 前端模块 增长率 多模式 多频段 需求量
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离子束外延生长(Ga,Mn,As)的退火研究
20
作者 宋书林 陈诺夫 +3 位作者 周剑平 柴春林 杨少延 刘志凯 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2003年第5期350-352,共3页
利用俄歇电子能谱(AES)和X射线衍射(XRD)分析了室温条件下离子束外延生长Ga、Mn、As样品,在不同的温度条件下进行退火后组分和元素分布的变化。结果表明退火有助于样品内部元素的均匀分布,温度为400℃会导致MnO2和Ga5.2Mn的结晶。
关键词 退火 低能离子束外延 gaas衬底
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