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New Photoluminescence Phenomena of Ge/SiO_2 Glass Synthesized by Sol-gel Method
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作者 YuYingFENG XiaoTianGU +3 位作者 JiaHongZHOU JianChunBAO GangLI TianHongLU 《Chinese Chemical Letters》 SCIE CAS CSCD 2004年第12期1505-1508,共4页
New Ge/SiO_2 glasses have been synthesized by heating the GeO_2/SiO_2 dry gels under H_2gas at 700℃. The resulting fluorescence spectra show that this kind of Ge/SiO_2 glasses emit strongphotoluminescence at 392 nm (... New Ge/SiO_2 glasses have been synthesized by heating the GeO_2/SiO_2 dry gels under H_2gas at 700℃. The resulting fluorescence spectra show that this kind of Ge/SiO_2 glasses emit strongphotoluminescence at 392 nm (3.12 eV), medium strong photoluminescence at 600 nm (2.05 eV)and weak photoluminescence at 770 nm (1.60 eV) respectively. Possible photoluminescencemechanisms are also discussed based on the results of X-ray diffraction (XRD) and X-rayphotoelectron spectra(XPS). 展开更多
关键词 ge/ SiO_2 glasses ge nanocrystals PHOTOLUMINESCENCE sol-gel method.
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镓硼共掺对6英寸VGF法锗单晶电阻率均匀性的影响
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作者 张颖武 边义午 +3 位作者 陈晨 周春锋 王云彪 兰天平 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第8期708-712,725,共6页
由于杂质分凝效应,镓掺杂垂直梯度凝固(VGF)法锗单晶的电阻率分布不均匀,理论上利用镓和硼分凝系数的差异,镓硼共掺工艺可以提升锗单晶电阻率均匀性。采用镓硼共掺工艺制备了6英寸(1英寸≈2.54 cm)VGF法锗单晶,对比分析了掺杂工艺对锗... 由于杂质分凝效应,镓掺杂垂直梯度凝固(VGF)法锗单晶的电阻率分布不均匀,理论上利用镓和硼分凝系数的差异,镓硼共掺工艺可以提升锗单晶电阻率均匀性。采用镓硼共掺工艺制备了6英寸(1英寸≈2.54 cm)VGF法锗单晶,对比分析了掺杂工艺对锗单晶电阻率均匀性的影响。当镓和硼杂质浓度分别为5.13×10^(18)cm^(-3)和0.67×10^(18)cm^(-3)时,在等径0~40 mm范围内轴向电阻率不均匀性为4.92%,等径0 mm和40 mm处径向电阻率不均匀性分别为1.63%和0.45%,与镓杂质浓度为5.13×10^(18)cm^(-3)的镓掺杂工艺相比,锗单晶头部的电阻率均匀性明显提升。当硼杂质浓度提高到1.89×10^(18)cm^(-3)时,镓硼共掺锗单晶头部电阻率均匀性变差。结果表明,适量硼掺杂的镓硼共掺工艺可以提升锗单晶头部电阻率均匀性。 展开更多
关键词 6英寸 垂直梯度凝固(VGF)法 锗单晶 镓硼共掺 电阻率 均匀性
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CdS掺杂Ge-Ga-S玻璃XPS研究 被引量:3
3
作者 顾少轩 胡海平 赵修建 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第1期69-71,共3页
采用熔融-急冷法制备CdS掺杂Ge-Ga-S硫系玻璃,对玻璃的XPS研究表明:玻璃样品中含有Ge, Ga,Cd,S4种元素,样品的主要成分是GeS2,Ga2S3和CdS;Ge,Ga,Cd,S元素的XPS谱线的位移归因于化学位移和玻璃的结构的共同作用;Cd3d3/2和Cd3d5/2的XPS峰... 采用熔融-急冷法制备CdS掺杂Ge-Ga-S硫系玻璃,对玻璃的XPS研究表明:玻璃样品中含有Ge, Ga,Cd,S4种元素,样品的主要成分是GeS2,Ga2S3和CdS;Ge,Ga,Cd,S元素的XPS谱线的位移归因于化学位移和玻璃的结构的共同作用;Cd3d3/2和Cd3d5/2的XPS峰值随CdS含量的增加而明显增强。 展开更多
关键词 熔融-急冷法 ge-Ga-S硫系玻璃 XPS
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锗基长波红外圆锥形微结构减反射性能
4
作者 汤克彬 李珊 +3 位作者 李初晨 毛科 张顺关 曾绍禹 《红外技术》 CSCD 北大核心 2024年第1期36-42,共7页
锗是重要的红外光学材料,为减小锗表面的菲涅耳反射损耗,提高光利用率,研究了锗基底圆锥形微结构的减反射性能。基于时域有限差分法(Finite Difference Time Domain),并采用单因素法研究了微结构的占空比、周期、高度等结构参数与入射角... 锗是重要的红外光学材料,为减小锗表面的菲涅耳反射损耗,提高光利用率,研究了锗基底圆锥形微结构的减反射性能。基于时域有限差分法(Finite Difference Time Domain),并采用单因素法研究了微结构的占空比、周期、高度等结构参数与入射角在8~12μm长波红外波段对反射率的影响,确定了微结构在低反射情况下较优的结构参数组合,其在整个波段范围内的平均反射率低于1%,远低于平板锗结构的35.47%,在9~11μm的波段范围内反射率低于0.5%,且光波在40°范围内入射时,圆锥形微结构的平均反射率仍然较低。将优化的圆锥形微结构与平板结构进行了对比,从等效折射率、反射场分布和能量吸收分布3方面进一步证实了圆锥形微结构在整个波段范围内优异的减反射性能。 展开更多
关键词 亚波长结构 时域有限差分法 锗基微结构 减反射 长波红外
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Ge掺杂二氧化钛复合薄膜制备及光吸收性能研究 被引量:8
5
作者 周艳军 何芳 +2 位作者 王玉林 黄远 万怡灶 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第10期1835-1837,1841,共4页
采用磁控溅射和溶胶-凝胶两种方法在石英基体上制备了纯TiO2薄膜,并通过离子注入及溶胶掺杂方法分别对TiO2薄膜进行Ge掺杂改性。利用XRD、XPS及UV-Vis对两种TiO2复合薄膜的晶相结构、原子化学态以及光吸收性能进行了表征。结果表明,磁... 采用磁控溅射和溶胶-凝胶两种方法在石英基体上制备了纯TiO2薄膜,并通过离子注入及溶胶掺杂方法分别对TiO2薄膜进行Ge掺杂改性。利用XRD、XPS及UV-Vis对两种TiO2复合薄膜的晶相结构、原子化学态以及光吸收性能进行了表征。结果表明,磁控溅射法制得TiO2薄膜为锐钛矿相,Ge离子注入引起复合薄膜的锐钛矿相消失,且该相600℃退火后并未得到恢复;经过退火后Ge在磁控溅射TiO2薄膜中以Ge单质存在。溶胶-凝胶法Ge掺杂复合薄膜中存在锐钛矿相TiO2和Ge晶相,Ge在薄膜表面以Ge和GeO2形式存在。两种掺杂方法制得的复合薄膜紫外-可见光吸收边均发生了红移。 展开更多
关键词 溶胶凝胶法 离子注入 TIO2复合薄膜 ge 光吸收
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铅锌矿床地质样品的Ge同位素预处理方法研究 被引量:1
6
作者 朱传威 温汉捷 +4 位作者 樊海峰 张羽旭 刘洁 杨涛 王光辉 《岩矿测试》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期305-311,共7页
目前Ge同位素研究主要局限于地球有机质(煤等)、火成岩及陨石样品,作为Ge重要储库之一的铅锌矿床,其Ge同位素的研究涉及较少。铅锌矿床样品中Ge的化学分离及提纯是Ge同位素研究的基础。本文详细考察了陨石样品中Ge同位素预处理方法(分... 目前Ge同位素研究主要局限于地球有机质(煤等)、火成岩及陨石样品,作为Ge重要储库之一的铅锌矿床,其Ge同位素的研究涉及较少。铅锌矿床样品中Ge的化学分离及提纯是Ge同位素研究的基础。本文详细考察了陨石样品中Ge同位素预处理方法(分离和提纯)对铅锌矿石样品的适用性。阴离子条件实验说明,目前普遍采用的离子交换树脂单柱法虽然对铅锌矿样品中Fe、Se等元素的剔除效果理想,但无法有效剔除其中的Zn,当Zn/Ge比值大于3时,样品必须经过阳离子交换树脂柱作进一步处理剔除Zn。通过对闪锌矿标准样品、锌矿石标准样品的条件实验以及实际闪锌矿样品对条件结果的验证显示,当闪锌矿的称样量为0.15 g左右时,仅需将前人对玄武岩等样品Ge同位素处理方法中阴离子树脂洗脱酸(1.4 mol/L硝酸)的用量6 mL调整为10 mL,而阳离子树脂洗脱方法保持不变,此方法即满足闪锌矿样品Ge同位素的化学分离和提纯要求。样品经过本文推荐的阴阳离子交换树脂双柱法处理后,主要干扰元素(Fe、Zn、Se、Ni)及基质元素的剔除率接近100%,Ge的回收率优于99%。而前人对玄武岩等样品的Ge同位素处理方法中,主要干扰元素(Fe、Zn、Se、Ni)及基质元素的剔除效果亦较好,但Ge的回收率仅为97.3%,比本文推荐方法的Ge回收率要差。利用MC-ICP-MS对Ge化学分离和提纯后的富乐铅锌矿床闪锌矿样品的检验结果显示,测试过程中未见同质异位素以及可能的多原子离子影响,样品中Ge同位素符合质量分馏定律,经过调整后的阴阳离子交换树脂双柱法满足闪锌矿样品的Ge同位素测试要求。 展开更多
关键词 ge同位素 闪锌矿 分离提纯 预处理方法
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基于FAHP和GE矩阵的制造型企业新产品选择研究 被引量:2
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作者 郭晶晶 杨育 包北方 《机械》 2012年第9期20-23,41,共5页
针对制造型企业战略转型时期选择新产品决策问题,从战略角度出发提出运用FAHP和GE矩阵相结合的方法对新产品进行综合评价和投资优先顺序定位。此方法将产品的评价指标按照GE矩阵的两个维度进行分类,分析了产品的行业吸引力和企业生产该... 针对制造型企业战略转型时期选择新产品决策问题,从战略角度出发提出运用FAHP和GE矩阵相结合的方法对新产品进行综合评价和投资优先顺序定位。此方法将产品的评价指标按照GE矩阵的两个维度进行分类,分析了产品的行业吸引力和企业生产该产品的相对竞争力,并进行指标层次细分,使指标更加贴近生产实际。指标权重设置更加清晰准确,同时更能体现产品结构和企业战略的统一性。 展开更多
关键词 新产品选择 FAHP法 ge矩阵 模糊判断矩阵 战略转型
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非微分Morgenstern-Price法在边坡稳定分析中的应用 被引量:5
8
作者 胡辉 董梅 姚磊华 《桂林工学院学报》 北大核心 2008年第3期344-348,共5页
推导出Morgenstern—Price法的非微分形式,并编制了基于该方法的程序:设置并行迭代,达到传统MP法一般通用性的要求;设置二一迭代,提高计算收敛速度。通过ACADS均质、非均质边坡算例得出的安全系数与其他算法的比较,验证了该算法... 推导出Morgenstern—Price法的非微分形式,并编制了基于该方法的程序:设置并行迭代,达到传统MP法一般通用性的要求;设置二一迭代,提高计算收敛速度。通过ACADS均质、非均质边坡算例得出的安全系数与其他算法的比较,验证了该算法的科学可靠性。将此法应用于铁生沟滑坡:天然与饱和状态土体的安全系数分别为1.0838和0.9600,与报告结果的安全系数1.12~1.14和1.00~1.03的范围值基本吻合,表明该方法适用于非均质实际边坡,对边坡的后续监测、防护工作具有指导作用。 展开更多
关键词 极限平衡法 非微分形式Morgenstem-Price法 安全系数 遗传算法
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低损耗芯包结构Ge-Sb-Se硫系玻璃光纤的制备与性能研究 被引量:15
9
作者 许彦涛 郭海涛 +2 位作者 陆敏 韦玮 彭波 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2015年第1期182-187,共6页
为解决锗(Ge)基硫系玻璃光纤损耗相对较高等问题,采用物理和化学除杂相结合的工艺,制备出了高纯Ge28Sb12Se60硫系玻璃,显著降低了红外波段C、H、O杂质吸收。应用真空高速旋转法,制备出了壁厚均匀、光学质量优异的Ge28Sb12Se58S2硫系玻... 为解决锗(Ge)基硫系玻璃光纤损耗相对较高等问题,采用物理和化学除杂相结合的工艺,制备出了高纯Ge28Sb12Se60硫系玻璃,显著降低了红外波段C、H、O杂质吸收。应用真空高速旋转法,制备出了壁厚均匀、光学质量优异的Ge28Sb12Se58S2硫系玻璃皮管。采用棒管法拉制出外径50±1.5μm、具有芯包结构的Ge-Sb-Se硫系玻璃光纤,光纤弯曲半径为5 mm,红外波段吸收基线为2.2 d B/m(2.87μm和4.5μm处除外)。 展开更多
关键词 硫系玻璃 ge-Sb-Se玻璃 杂质消除 棒管法 光纤
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两步法溅射中缓冲层厚度对Ge薄膜质量的影响 被引量:1
10
作者 关中杰 靳映霞 +3 位作者 王茺 叶小松 李亮 杨宇 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第4期950-955,共6页
采用低温缓冲层技术制备Ge薄膜,利用AFM和Raman光谱研究缓冲层厚度对低温Ge缓冲层残余应变弛豫的影响。实验结果显示:随着缓冲层厚度的增加,残余应变弛豫度增大。在30 nm厚的低温Ge缓冲层上生长800nm厚的Ge外延层。Ge薄膜具有良好的结晶... 采用低温缓冲层技术制备Ge薄膜,利用AFM和Raman光谱研究缓冲层厚度对低温Ge缓冲层残余应变弛豫的影响。实验结果显示:随着缓冲层厚度的增加,残余应变弛豫度增大。在30 nm厚的低温Ge缓冲层上生长800nm厚的Ge外延层。Ge薄膜具有良好的结晶性,表面粗糙度RMS为2.06 nm。 展开更多
关键词 ge薄膜 低温ge缓冲层 射频磁控溅射
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(ZnSe)_n/(Ge)_(2m)(100)超晶格的理论研究
11
作者 杨爱龄 傅柔励 《杭州大学学报(自然科学版)》 CSCD 1989年第3期273-277,共5页
本文用半经验紧束缚法研究了(ZnSe)_n/(Ge)_(2m)(100)超晶格,计算了其能隙随层厚的变化,其结果能说明超晶格体系的准二维特性,表明(7,7)超晶格已足以模拟异质界面问题,并指出(ZnSe)_n/(Ge)_(2m)(100)超晶格的禁带中很可能存在界面态。
关键词 硒化锌 超晶格 晶体 紧束缚法
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表面预处理对Ge MOS电容特性的影响 被引量:2
12
作者 邹晓 蒋万翔 徐静平 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第6期573-575,606,共4页
通过不同气体(NO、N2O、NH3)对Ge衬底进行表面预处理,生长GeOxNy界面层,然后采用反应磁控溅射方法生长HfTiO薄膜,制备HfTiO/GeOxNy叠层高k栅介质GeMOS电容,研究表面预处理对界面层以及界面层对器件性能的影响。隧穿电子扫描电镜(TEM)、... 通过不同气体(NO、N2O、NH3)对Ge衬底进行表面预处理,生长GeOxNy界面层,然后采用反应磁控溅射方法生长HfTiO薄膜,制备HfTiO/GeOxNy叠层高k栅介质GeMOS电容,研究表面预处理对界面层以及界面层对器件性能的影响。隧穿电子扫描电镜(TEM)、栅电容-电压(C-V)栅极漏电流-电压(J-V)的测量结果表明,湿NO表面预处理能生长高质量的界面层,降低界面态密度,抑制MOS电容的栅极漏电流密度。施加高场应力后,湿NO表面预处理样品的平带漂移及漏电流增加最小,表示器件的可靠性得到有效增强。 展开更多
关键词 锗金属氧化物半导体 氧化钛铪 表面预处理 界面层 高k 磁控溅射法
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脉冲激光沉积Ge-Ga-S-CdS非晶薄膜
13
作者 顾少轩 《国外建材科技》 2007年第6期5-7,共3页
采用脉冲激光沉积(PLD)法在载玻片上沉积了Ge-Ga-S-CdS硫系非晶薄膜,利用XRD、分光光度计、扫描电镜、XPS等现代测试手段,研究薄膜的结晶形态、光学性质和成分。结果发现,利用脉冲激光沉积方法获得了可见光透过率为80%、光学质量优良、... 采用脉冲激光沉积(PLD)法在载玻片上沉积了Ge-Ga-S-CdS硫系非晶薄膜,利用XRD、分光光度计、扫描电镜、XPS等现代测试手段,研究薄膜的结晶形态、光学性质和成分。结果发现,利用脉冲激光沉积方法获得了可见光透过率为80%、光学质量优良、厚度均匀、没有明显缺陷的Ge-Ga-S-CdS硫系非晶薄膜,XPS光电子能谱结果显示薄膜成分与靶材的成分存在微小的偏差。 展开更多
关键词 PLD法 ge—Ga-S-CdS 硫系非晶薄膜
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以四氟化锗为介质离心分离^(72)Ge同位素技术研究 被引量:3
14
作者 孙启明 周明胜 +2 位作者 潘建雄 孙旺 姜东君 《同位素》 CAS 2021年第5期475-479,I0003,共6页
为研究气体离心法分离^(72)Ge同位素的技术,以四氟化锗(GeF 4)为分离介质,通过理论计算,探索通过短级联浓缩法生产^(72)Ge的可能性。计算结果表明,使用相对丰度匹配级联(matched abundance ratio cascade,MARC)模型,两次分离后可以得到... 为研究气体离心法分离^(72)Ge同位素的技术,以四氟化锗(GeF 4)为分离介质,通过理论计算,探索通过短级联浓缩法生产^(72)Ge的可能性。计算结果表明,使用相对丰度匹配级联(matched abundance ratio cascade,MARC)模型,两次分离后可以得到丰度高于55%的^(72)Ge。在实验室现有的离心级联上,采用21级阶梯级联的结构,通过调整级联内部工况和外参量,对级联分离性能进行优化。经过两次分离实验后,最终得到^(72)Ge丰度高于60%的产品。 展开更多
关键词 ^(72)ge同位素 气体离心法 离心级联
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头花蓼对胃黏膜上皮细胞GES-1细胞毒性的研究 被引量:1
15
作者 温丽娜 罗昭逊 +3 位作者 张姝 谢小琴 雷萍 莫非 《贵州医药》 CAS 2014年第10期878-880,共3页
目的探讨头花蓼对胃黏膜上皮细胞株GES-1增殖的影响。方法体外培养人胃黏膜上皮细胞株GES-1,采用MTT法连续监测7d,以存活细胞数OD值对培养时间(h)作图,即得生长曲线。不同浓度头花蓼(1024μg/mL、512μg/mL、256μg/mL、128μg/mL、64μ... 目的探讨头花蓼对胃黏膜上皮细胞株GES-1增殖的影响。方法体外培养人胃黏膜上皮细胞株GES-1,采用MTT法连续监测7d,以存活细胞数OD值对培养时间(h)作图,即得生长曲线。不同浓度头花蓼(1024μg/mL、512μg/mL、256μg/mL、128μg/mL、64μg/mL、32μg/mL、16μg/mL、8μg/mL,)与对数期GES-1细胞共同培养48h,采用MTT法检测细胞增殖。结果 (1)体外培养胃黏膜上皮细胞株GES-1,生长曲线显示:细胞于培养的48h进入对数生长期,120h进入平台期。本实验选96h加药进行后续实验;(2)MTT实验表明:低于128μg/mL时,活细胞数量没有明显变化,细胞增殖无影响。结论头花蓼浓度高于128μg/mL时,对胃黏膜上皮细胞株GES-1的生长有明显的抑制作用,头花蓼因细胞毒性较低具有潜在的临床应用前景,为头花蓼对H.pylori相关性胃炎的抗菌、抗炎机制奠定了实验基础。 展开更多
关键词 头花蓼 geS-1细胞 MTT法
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Ge纳米粒子制备技术的研究进展
16
作者 叶爽 杨杰 杨宇 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第9期30-34,41,共6页
Ge纳米粒子由于其小尺寸特性而展现出的良好的光学性能吸引着人们对其不断进行深入探索。综述了Ge纳米粒子的物理和化学制备技术,如分子束外延、氢化物还原锗盐等,并对Ge纳米粒子有代表性的光学特性进行了概述,最后展望了Ge纳米粒子的... Ge纳米粒子由于其小尺寸特性而展现出的良好的光学性能吸引着人们对其不断进行深入探索。综述了Ge纳米粒子的物理和化学制备技术,如分子束外延、氢化物还原锗盐等,并对Ge纳米粒子有代表性的光学特性进行了概述,最后展望了Ge纳米粒子的未来发展方向。 展开更多
关键词 ge纳米粒子 物理方法 化学方法
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Ge/Si量子阱结构的C-V特性的模拟 被引量:1
17
作者 程佩红 黄仕华 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期110-115,共6页
采用有限深对称方势阱近似模型求解薛定谔方程得到Ge/Si量子阱中的子能级分布,并基于迭代法数值求解泊松方程模拟计算了量子阱结构样品在不同偏压下的载流子浓度分布和C-V特性.C-V曲线上电容平台的存在是量子阱结构C-V特性的显著特征,... 采用有限深对称方势阱近似模型求解薛定谔方程得到Ge/Si量子阱中的子能级分布,并基于迭代法数值求解泊松方程模拟计算了量子阱结构样品在不同偏压下的载流子浓度分布和C-V特性.C-V曲线上电容平台的存在是量子阱结构C-V特性的显著特征,它与量子阱结构参数有密切的关系.随着覆盖层厚度的减小,C-V曲线上平台起始点的电容值增加,并且向低电压方向移动直至其消失.随着量子阱中的掺杂浓度提高,阱中的载流子浓度也会相应增加,那就需要更高的外加电压才能耗尽阱中的载流子,因此平台宽度也就随着掺杂浓度的增加而增加.当覆盖层厚度增加时,由于电压的分压作用,使得降在量子阱上的分压相应减少,因此需要更大的外加偏压才能使阱中载流子浓度全部耗尽,这就使平台的宽度增大.同样地,当覆盖层掺杂浓度增加时,覆盖层中更多的载流子转移到阱内,也就需要更高的外加偏压才能使阱中载流子全部耗尽,平台的宽度也就随之增大. 展开更多
关键词 ge/Si量子阱 C-V特性法 迭代法
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Determination of Ge content in high concentration Ge-doped Czochralski Si single crystals by FTIR 被引量:1
18
作者 JIANG Zhongwei ZHANG Weilian NIU Xinhuan 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2005年第3期226-228,共3页
SiGe single crystals with different Ge concentrations were measured by Fourier transform infrared (FTIR) spectroscopy at room temperature (RT) and 10 K. A new peak appears at the wave number of 710 cm^-1 and the s... SiGe single crystals with different Ge concentrations were measured by Fourier transform infrared (FTIR) spectroscopy at room temperature (RT) and 10 K. A new peak appears at the wave number of 710 cm^-1 and the spectroscopy becomes clearer with an increase in Ge content. The absorption strength and wave sharp of the 710 cm^-1 peak are independent of temperature. The relation of the absorption coefficient amax, the band width of half maximum (BWHM) Wit2 of the 710 cm^-1 peak, and the Ge concentration is determined with the Ge content obtained by SEM-EDX. The conversion factor is k = 1.211 at 10 K. Therefore, the Ge content in high concentration Ge doped CZ-Si single crystals can be determined by FTIR. 展开更多
关键词 Sige single crystal ge content FTIR Czochralski method
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通过晶格失配调节有盖层张应变Ge量子点的光电特性
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作者 陈其苗 宋禹忻 +5 位作者 张振普 刘娟娟 芦鹏飞 李耀耀 王庶民 龚谦 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第6期1004-1009,共6页
利用Ge与不同衬底形成的不同晶格失配度来调节有盖层的张应变Ge量子点的光电特性。通过有限元方法模拟并获得张应变Ge量子点内的应变分布,而后通过形变势理论和有效质量近似计算得到量子点的电子结构。与无盖层张应变Ge量子点相比,有盖... 利用Ge与不同衬底形成的不同晶格失配度来调节有盖层的张应变Ge量子点的光电特性。通过有限元方法模拟并获得张应变Ge量子点内的应变分布,而后通过形变势理论和有效质量近似计算得到量子点的电子结构。与无盖层张应变Ge量子点相比,有盖层Ge量子点能保持更大的应变量。另外,随着量子点尺寸和晶格失配度的增大,导带Γ谷与导带L谷的能量差缩减,最终使Ge转变为直接带隙材料。直接带隙能量随着量子点尺寸的增大而减小。该研究结果表明张应变Ge量子点是制备包含激光器在内的Si基光源的理想材料,在未来光电子应用中有巨大潜力。 展开更多
关键词 张应变ge 量子点 有限元 有效质量法 直接带隙
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GE PROFILE 0.2T MR伪影故障检修 被引量:1
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作者 周忠慈 《中国医疗器械杂志》 CAS 2014年第6期466-467,共2页
根据多年的MR维护保养经验,通过仔细观察伪影现象,按先易后难的原则,使用排除法,先查外部环境再到机器内部,层层递进来查找故障原因,消除伪影。
关键词 ge MR 伪影故障 检修方法
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