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基于0.1-μm GaAs pHEMT工艺的最小噪声系数3.9 dB的66~112.5 GHz低噪声放大器
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作者 李泽坤 陈继新 +1 位作者 郑司斗 洪伟 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第2期187-191,共5页
本文基于0.1-μm砷化镓赝配高电子迁移率晶体管(GaAs pHEMT)工艺,研制了一款覆盖整个W波段的宽带低噪声放大器。提出了一种由双并联电容组成的旁路电路,能够提供宽带射频接地,减小了级间串扰,利于实现宽带匹配。采用双谐振匹配网络实现... 本文基于0.1-μm砷化镓赝配高电子迁移率晶体管(GaAs pHEMT)工艺,研制了一款覆盖整个W波段的宽带低噪声放大器。提出了一种由双并联电容组成的旁路电路,能够提供宽带射频接地,减小了级间串扰,利于实现宽带匹配。采用双谐振匹配网络实现了宽带的输入匹配和最佳噪声匹配。实测结果显示,最大增益在108 GHz处达到20.4 dB,在66~112.5 GHz范围内,小信号增益为16.9~20.4 dB。在90 GHz处,实测噪声系数为3.9 dB。实测的输入1-dB压缩点在整个W波段内约为-12 dBm。 展开更多
关键词 砷化镓赝配高电子迁移率晶体管 低噪声放大器 宽带 W波段
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一种基于GaAs pHEMT工艺的18~40 GHz六位高精度数控移相器
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作者 张天羽 韩群飞 陶洪琪 《固体电子学研究与进展》 CAS 2024年第3期213-218,共6页
基于0.15μm GaAs pHEMT工艺研制了一款工作频率为18~40 GHz的高精度六位数控移相器芯片。其中5.625°、11.25°和22.5°移相位采用了改进型的串并联电容移相结构,该结构可通过增加串联电感改善移相精度;45°和90°... 基于0.15μm GaAs pHEMT工艺研制了一款工作频率为18~40 GHz的高精度六位数控移相器芯片。其中5.625°、11.25°和22.5°移相位采用了改进型的串并联电容移相结构,该结构可通过增加串联电感改善移相精度;45°和90°移相位采用了磁耦合全通网络型移相结构;180°移相位使用了基于串并联谐振结构的改进型移相器电路,拓展了移相器带宽,提高了移相精度。移相器芯片的实际加工面积为2.8 mm×1.4 mm。芯片的测试结果表明,在18~40 GHz频率范围内,移相精度均方根误差小于2.3°,移相寄生调幅均方根误差小于0.7 dB,全态损耗小于13.5 dB,全态输入、输出驻波分别小于1.7、1.9。 展开更多
关键词 移相器 毫米波 超宽带 全通网络 砷化镓
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基于0.15μm GaAs工艺的高阻带抑制低通滤波器设计
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作者 姜严 吴啸鸣 +3 位作者 闫慧君 王文斌 嵇华龙 施永荣 《电子与封装》 2024年第10期69-72,共4页
射频低通滤波器是射频电路的重要组件之一,它基于电感和电容的特性,具有阻止高频信号而通过低频信号的作用。基于GaAs集成无源器件技术,使用ADS仿真软件,在滤波器设计中的特定位置使用不同品质因数(Q值)的电感,最终设计实现了一款性能... 射频低通滤波器是射频电路的重要组件之一,它基于电感和电容的特性,具有阻止高频信号而通过低频信号的作用。基于GaAs集成无源器件技术,使用ADS仿真软件,在滤波器设计中的特定位置使用不同品质因数(Q值)的电感,最终设计实现了一款性能优良的高阻带抑制低通滤波器。测试结果表明,在通带DC~17 GHz内,滤波器插入损耗≤2.28 dB,回波损耗≥14.5 dB,其带外抑制在22 GHz处达到23 dB,在26~50 GHz处≥43 dB,芯片尺寸为1.4 mm×0.55 mm×0.1 mm,该滤波器性能优异。 展开更多
关键词 低通滤波器 gaas 集成无源器件 高阻带
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基于0.15μm GaAs pHEMT工艺的低噪声放大器设计
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作者 李成成 陈珍 +1 位作者 赵唯一 刘敏 《集成电路应用》 2024年第2期38-40,共3页
阐述一款源极负反馈结构的低噪声放大器设计,它基于0.15μm GaAs pHEMT工艺,采用微带线进行反馈和双边匹配,极大程度改善电路的噪声、增益和稳定性。放大器采用单电阻偏置方式,实现2V单电源供电,静态电流为78.9mA。它的中心频率为2.4GHz... 阐述一款源极负反馈结构的低噪声放大器设计,它基于0.15μm GaAs pHEMT工艺,采用微带线进行反馈和双边匹配,极大程度改善电路的噪声、增益和稳定性。放大器采用单电阻偏置方式,实现2V单电源供电,静态电流为78.9mA。它的中心频率为2.4GHz,在2.1~2.7GHz频段内最大增益大于16dB,增益平坦度在±0.6dB内,实际噪声系数小于1.5dB,系统在全频带内非常稳定,可适用于无线系统接收端前端设计。 展开更多
关键词 电路设计 低噪声放大器 源极负反馈 gaas 微带线
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基于DBR增强的850 nm GaAs/AlGaAs单行载流子光电探测器 被引量:1
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作者 王健 窦志鹏 +10 位作者 李光昊 黄晓峰 于千 郝智彪 熊兵 孙长征 韩彦军 汪莱 李洪涛 甘霖 罗毅 《半导体光电》 CAS 北大核心 2024年第1期25-28,共4页
高速850 nm GaAs/AlGaAs面入射型单行载流子光电探测器(PD)是短距离光链路中的重要器件,面临着带宽和响应度之间的相互矛盾。报道了一种基于分布布拉格反射器(DBR)增强的GaAs/AlGaAs单行载流子光电探测器(UTC-PD)。DBR由20个周期的高/... 高速850 nm GaAs/AlGaAs面入射型单行载流子光电探测器(PD)是短距离光链路中的重要器件,面临着带宽和响应度之间的相互矛盾。报道了一种基于分布布拉格反射器(DBR)增强的GaAs/AlGaAs单行载流子光电探测器(UTC-PD)。DBR由20个周期的高/低Al组分的Al_(x)Ga_(1-x)As三元合金组成,可以在830~870 nm范围内形成大于0.9的反射。在AlGaAs DBR的增强下,将GaAs吸收层所需的厚度降低到1 040 nm,兼顾PD对光的吸收率和光生载流子的渡越时间。采用双台面、聚合物平面化、共面波导电极结构制作了UTC-PD器件。该器件在850 nm波长、-2 V偏压下具有19.26 GHz的-3 dB带宽和0.492 6 A/W的响应度。 展开更多
关键词 gaas ALgaas 光电探测器 单行载流子 分布布拉格反射器 850 nm波长
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基于电源调制的L波段高性能GaAsHBT功率放大器
6
作者 闭涛 陈景龙 《半导体技术》 北大核心 2024年第1期71-76,共6页
介绍了一种基于GaInP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺、电源调制的高峰均比、高功率附加效率L波段功率放大器芯片,可满足多载波聚合、大容量通信系统的要求。从器件层面控制基极表面复合、寄生电阻和电容,实现低膝点电压、跨导均匀的晶... 介绍了一种基于GaInP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺、电源调制的高峰均比、高功率附加效率L波段功率放大器芯片,可满足多载波聚合、大容量通信系统的要求。从器件层面控制基极表面复合、寄生电阻和电容,实现低膝点电压、跨导均匀的晶体管;在电路层面采用自适应偏置电路和谐波调谐等提升线性和功率附加效率。该放大器采用前级驱动加末级输出、驱动比为1∶6的两级晶体管架构和高低通搭配的匹配电路。测试结果表明,在5 V偏置电压下,该功率放大器的饱和输出功率大于35 dBm;在大功率回退时(8 dBm),增益变化小于2 dB,功率附加效率指标达到50%;对于调制带宽为25 kHz的16进制正交振幅调制(16QAM)通信系统,邻道功率比小于-38 dBc@27 dBm。 展开更多
关键词 功率放大器 电源调制 gaas异质结双极晶体管(HBT) 峰均比 邻道功率比(ACPR)
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VGF半绝缘GaAs单晶片的碱腐蚀特性研究
7
作者 于妍 吕菲 +1 位作者 李纪伟 康洪亮 《电子工业专用设备》 2024年第1期48-50,共3页
研究了半绝缘GaAs的碱性腐蚀液的温度、配比对半绝缘GaAs晶片的几何参数、粗糙度、腐蚀速率等的影响,根据碱性腐蚀原理;解释了腐蚀液温度对晶片翘曲度的改善原因,以及腐蚀速率随温度和配比的变化规律;实验结果表明在碱性腐蚀液中晶片的... 研究了半绝缘GaAs的碱性腐蚀液的温度、配比对半绝缘GaAs晶片的几何参数、粗糙度、腐蚀速率等的影响,根据碱性腐蚀原理;解释了腐蚀液温度对晶片翘曲度的改善原因,以及腐蚀速率随温度和配比的变化规律;实验结果表明在碱性腐蚀液中晶片的TTV和粗糙度比较稳定。 展开更多
关键词 垂直梯度凝固法(VGF) 半绝缘 砷化镓(gaas) 碱性腐蚀
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MBE生长GaAs(001)薄膜表面的Ostwald熟化过程研究 被引量:7
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作者 王继红 罗子江 +4 位作者 周勋 郭祥 周清 刘珂 丁召 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期847-849,853,共4页
采用带有RHEED的MBE技术,利用RHEED图像演变实时监控薄膜生长状况,通过RHEED强度振荡测算薄膜生长速率,在GaAs(001)基片上同质外延GaAs薄膜。利用STM对MBE生长的GaAs薄膜表面的熟化过程进行了深入研究。研究发现,随着退火时间的延长,刚... 采用带有RHEED的MBE技术,利用RHEED图像演变实时监控薄膜生长状况,通过RHEED强度振荡测算薄膜生长速率,在GaAs(001)基片上同质外延GaAs薄膜。利用STM对MBE生长的GaAs薄膜表面的熟化过程进行了深入研究。研究发现,随着退火时间的延长,刚完成生长的GaAs表面从具有大量岛和坑的粗糙表面逐渐熟化,在熟化过程中岛不断合并扩大并与平台结合,而坑却逐渐消失。指出当熟化过程完成后GaAs表面将进入原子级平坦状态,并详细解释了熟化过程GaAs表面各种形貌特征形成的内在原因。 展开更多
关键词 gaas薄膜 MBE RHEED STM 熟化
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X波段100W GaAs单片大功率PIN限幅器 被引量:8
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作者 彭龙新 李真 +3 位作者 徐波 凌志健 李光超 彭劲松 《固体电子学研究与进展》 CSCD 北大核心 2017年第2期99-102,139,共5页
在101.6mm(4英寸)外延片上,研制出了大功率PIN限幅器芯片。根据大功率要求,优化了GaAs PIN二极管的I层厚度和表面结构,建立了大、小信号模型,通过优化设计,使限幅器既能承受100 W的输入功率,又有较低的插损。在8.5~10.5GHz内,测得该限... 在101.6mm(4英寸)外延片上,研制出了大功率PIN限幅器芯片。根据大功率要求,优化了GaAs PIN二极管的I层厚度和表面结构,建立了大、小信号模型,通过优化设计,使限幅器既能承受100 W的输入功率,又有较低的插损。在8.5~10.5GHz内,测得该限幅器插入损耗约0.65dB,输入输出驻波≤1.5;当限幅器输入脉冲功率(9.5GHz,脉宽8ms、占空比40%)达50dBm(100 W)时,保持壳温120℃,输出漏功率最大18dBm,持续时间20min后,未见损坏。 展开更多
关键词 微波单片集成电路 gaas PIN 大功率限幅器
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GaAs(001)-(2×4)重构下的表面形貌 被引量:4
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作者 罗子江 周勋 +2 位作者 王继红 郭祥 丁召 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期426-431,共6页
采用反射高能电子衍射仪与扫描隧道显微镜技术对GaAs(001)-(2×4)表面重构下的表面形貌进行深入研究,获得GaAs(001)薄膜处于不同(2×4)表面重构时的表面形貌。研究发现当GaAs(001)表面处于β2(2×4)时,经过精确控制薄膜的... 采用反射高能电子衍射仪与扫描隧道显微镜技术对GaAs(001)-(2×4)表面重构下的表面形貌进行深入研究,获得GaAs(001)薄膜处于不同(2×4)表面重构时的表面形貌。研究发现当GaAs(001)表面处于β2(2×4)时,经过精确控制薄膜的生长、退火以及淬火工艺,GaAs(001)表面能够获得由单一重构组成且原子级平坦的表面形貌;研究结果证实β2(2×4)的表面重构原胞中存在三对As Dimers,其中两对位于重构原胞顶层,一对处于重构原胞次层,这与球棍模型理论下获得的β2(2×4)重构原胞高度吻合;研究发现γ(2×4)表面重构实际上是β2(2×4)重构与C(4×4)重构混合后的重构形式,γ(2×4)重构表面是由大量单层岛和单层坑混合后的无序平坦表面;α(2×4)存在的温度区间很窄,它是GaAs表面从富As状态到富Ga状态转变的过渡重构形式,实验中将很难获得单一α(2×4)重构相表面。 展开更多
关键词 gaas薄膜 (2×4)表面重构 表面形貌 As二聚体
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9μm Cutoff 128×128 AlGaAs/GaAs Quantum Well Infrared Photodetector Focal Plane Arrays 被引量:4
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作者 李献杰 刘英斌 +6 位作者 冯震 过帆 赵永林 赵润 周瑞 娄辰 张世祖 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期1355-1359,共5页
We design and fabricate a 128 × 128 AlGaAs/GaAs quantum well infrared photodetector focal plane array (FPA). The device is achieved by metal organic chemical vapor deposition and GaAs integrated circuit process... We design and fabricate a 128 × 128 AlGaAs/GaAs quantum well infrared photodetector focal plane array (FPA). The device is achieved by metal organic chemical vapor deposition and GaAs integrated circuit processing technology. A test structure of the photodetector with a mesa size of 300μm × 300μm is also made in order to obtain the device parameters. The measured dark current density at 77K is 1.5 × 10^-3A/cm^2 with a bias voltage of 2V. The peak of the responsivity spectrum is at 8.4μm,with a cutoff wavelength of 9μm. The blackbody detectivity is shown to be 3.95 × 10^8 (cm · Hz^1/2)/W. The final FPA is flip-chip bonded on a CMOS read-out integrated circuit. The infrared thermal images of some targets at room temperature background are successfully demonstrated at 80K operating temperature with a ratio of dead pixels of less than 1%. 展开更多
关键词 ALGAas/gaas quantum well infrared photodetector infrared thermal images
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MBE方法在GaAs(001)衬底上外延生长GaSb膜 被引量:3
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作者 郝瑞亭 申兰先 +5 位作者 邓书康 杨培志 涂洁磊 廖华 徐应强 牛智川 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期734-736,共3页
利用分子束外延方法(MBE)在GaAs(001)衬底上外延生长了GaSb薄膜,利用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、原子力显微镜(AFM)、Hall效应(HallEffect)和低温光荧光谱(LTPL)等手段对薄膜的晶体质量、电学性能和光学质量进行了研究。发现直接生长... 利用分子束外延方法(MBE)在GaAs(001)衬底上外延生长了GaSb薄膜,利用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、原子力显微镜(AFM)、Hall效应(HallEffect)和低温光荧光谱(LTPL)等手段对薄膜的晶体质量、电学性能和光学质量进行了研究。发现直接生长的GaSb膜表面平整,空穴迁移率较高。引入GaSb/AlSb超晶格可有效阻断进入GaSb外延层的穿通位错,对应的PL谱强度增强,材料的光学质量变好。 展开更多
关键词 GASB gaas 分子束外延(MBE)
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用1064nm激光脉冲触发半绝缘GaAs光电导开关的研究 被引量:3
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作者 张显斌 李琦 +1 位作者 施卫 赵卫 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第9期1081-1085,共5页
报道了用 1 0 64nm激光脉冲触发电极间隙为 8mm的半绝缘GaAs光电导开关的实验结果 在触发光能为 1 .9mJ ,偏置电压分别为 3kV和 5kV条件下 ,光电导开关分别工作于线性和非线性模式 ,结果表明半绝缘GaAs光电导开关可以吸收 1 0 64nm波... 报道了用 1 0 64nm激光脉冲触发电极间隙为 8mm的半绝缘GaAs光电导开关的实验结果 在触发光能为 1 .9mJ ,偏置电压分别为 3kV和 5kV条件下 ,光电导开关分别工作于线性和非线性模式 ,结果表明半绝缘GaAs光电导开关可以吸收 1 0 64nm波长的激光脉冲 讨论了半绝缘GaAs材料对 1 0 64nm激光脉冲的非本征吸收机制 ,指出GaAs材料禁带内的EL2深能级和双光子吸收对半绝缘GaAs吸收 1 0 展开更多
关键词 激光脉冲触发 光电导开关 半绝缘gaas EL2能级 砷化镓 半导体材料
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垂直磁场中GaAs-Ga_(1-x)Al_xAs量子阱内类氢杂质束缚能计算 被引量:6
14
作者 李树深 焦善庆 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第9期647-653,共7页
应用一维化方法和有效质量近似计算了在垂直于界面的磁场作用下量子阱内类氢杂质基态和低激发态的束缚能,并考虑到GaAs和GaAlAs中电子具有不同的有效质量和不同的介电常数,所得计算结果与实验较好相符。 量子阱;;超晶格;;GaAs;;
关键词 磁场 gaas gaaLAS 量子阱 束缚能
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磁场对GaAs/Al_xGa_(1-x)As异质结系统中束缚极化子的影响 被引量:7
15
作者 张敏 班士良 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第12期1618-1623,共6页
对 Ga As/ Alx Ga1 - x As单异质结系统引入三角势近似异质结势 ,同时考虑体纵光学 (L O)声子和有效近似下两支界面光学 (IO)声子的影响 ,采用变分法讨论了外界恒定磁场对束缚于近界面杂质的光学极化子结合能的影响 .利用改进的 L ee- L... 对 Ga As/ Alx Ga1 - x As单异质结系统引入三角势近似异质结势 ,同时考虑体纵光学 (L O)声子和有效近似下两支界面光学 (IO)声子的影响 ,采用变分法讨论了外界恒定磁场对束缚于近界面杂质的光学极化子结合能的影响 .利用改进的 L ee- L ow- Pines(L L P)中间耦合方法处理电子 -声子和杂质 -声子的相互作用 ,计算了杂质态结合能随杂质位置、磁场强度、电子面密度的变化关系 .结果表明 ,极化子结合能随磁场呈现增加的趋势 ,其中 L O声子对结合能的负贡献受磁场影响显著 ,而 IO声子的负贡献受磁场的影响并不明显 ,但当杂质靠近界面时 ,杂质 - IO声子相互作用对磁场的影响很敏感 .结果还表明 ,导带弯曲作用不容忽略 ;电子像势对结合能的影响很小 ,可以忽略 . 展开更多
关键词 gaas/ALXGA1-XAS 异质结 磁场 束缚极化子 结合能
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GaAs(001)薄膜表面形貌相变过程 被引量:2
16
作者 罗子江 周勋 +4 位作者 王继红 郭祥 王一 魏文喆 丁召 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第9期88-91,共4页
采用STM以及RHEED技术对于GaAs(001)的表面形貌相变过程(有序平坦→无序平坦→粗糙)进行了深入研究。通过GaAs(001)在不同As BEP、不同温度的表面形貌相变过程的研究发现,As BEP和温度的变化是促使表面形貌相变发生的主要原因,高温引起... 采用STM以及RHEED技术对于GaAs(001)的表面形貌相变过程(有序平坦→无序平坦→粗糙)进行了深入研究。通过GaAs(001)在不同As BEP、不同温度的表面形貌相变过程的研究发现,As BEP和温度的变化是促使表面形貌相变发生的主要原因,高温引起原子重组致使表面重构的演变是GaAs(001)薄膜发生表面形貌相变的主要内在机制。单一表面重构或某一重构占绝对优势的表面形貌处于有序平坦状态;多种重构的非等量混合表面是无序平坦状态的主要表面形式;当表面重构难以辨别时,表面形貌也将进入岛上高岛、坑中深坑的粗糙状态。研究还观察到,当As BEP和温度足够高时,GaAs(001)表面形貌相变将不会出现无序平坦状态,表面将直接从平坦转变为粗糙状态。 展开更多
关键词 STM gaas薄膜 形貌相变 表面重构 AsBEP
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退火后无应变Ga_(1-x)In_xN_yAs_(1-y)/GaAs量子阱的带隙 被引量:2
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作者 文于华 唐吉玉 +7 位作者 赵传阵 吴靓臻 孔蕴婷 汤莉莉 刘超 吴利锋 李顺方 陈俊芳 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期105-109,共5页
针对快速热退火引起的N最近邻原子环境的变化,建立了热平衡态下Ga1-xInxNyAs1-y合金中各二元化合键的统计分布模型.并将理论计算得到的N周围平均In原子数r引入到BAC经验模型中,对退火后的Ga1-xInxNyAs1-y体材料带隙进行了计算.最后,利... 针对快速热退火引起的N最近邻原子环境的变化,建立了热平衡态下Ga1-xInxNyAs1-y合金中各二元化合键的统计分布模型.并将理论计算得到的N周围平均In原子数r引入到BAC经验模型中,对退火后的Ga1-xInxNyAs1-y体材料带隙进行了计算.最后,利用讨论BAC模型中电子波函数边界条件的方法,计算了无应变Ga1-xInxNyAs1-y/GaAs量子阱的带隙. 展开更多
关键词 GalnNas/gaas 量子阱 带隙 退火
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10cm VGF法GaAs单晶生长过程中热应力的数值模拟 被引量:2
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作者 涂凡 苏小平 +3 位作者 屠海令 张峰燚 丁国强 王思爱 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2010年第3期411-413,426,共4页
采用数值模拟技术模拟了10cm(4in)VGF法GaAs单晶生长过程中的温场分布、固液界面形貌以及热应力分布。推导得到了固液界面形状与轴向温度梯度和径向温度梯度之间的关系,定义了一个固液界面形状函数,用以表征固液界面偏离度。固液界面偏... 采用数值模拟技术模拟了10cm(4in)VGF法GaAs单晶生长过程中的温场分布、固液界面形貌以及热应力分布。推导得到了固液界面形状与轴向温度梯度和径向温度梯度之间的关系,定义了一个固液界面形状函数,用以表征固液界面偏离度。固液界面偏离度可定义为晶体边缘和晶体中心轴向位置的差值。计算得到固液界面凹(凸)度的临界值,小于该值时,固液界面附近的热应力低于临界分解剪切应力(CRSS)。模拟计算了两个时刻的晶体中的热应力分布:当偏离度大于临界值时,晶体中的热应力大于CRSS,反之,晶体中的热应力小于CRSS,验证了理论推导的结果。 展开更多
关键词 数值模拟 VGF gaas 固液界面 热应力 临界剪切应力
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Peculiar Photoconduction in Semi-Insulating GaAs Photoconductive Switch Triggered by 1064nm Laser Pulse 被引量:4
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作者 施卫 戴慧莹 张显斌 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期460-464,共5页
The peculiar photoconduction in semi insulating GaAs photoconductive switch being triggered by 1064nm laser pulse is reported.The gap between two electrodes of the switch is 4mm.When it is triggered by laser pulse wi... The peculiar photoconduction in semi insulating GaAs photoconductive switch being triggered by 1064nm laser pulse is reported.The gap between two electrodes of the switch is 4mm.When it is triggered by laser pulse with energy of 0 8mJ and the pulse width of 5ns,and operated at biased electric field of 2 0 and 6 0kV/cm,both linear and nonlinear modes of the switch are observed respectively.Whereas the biased electric field adds to 9 5kV/cm,and the triggered laser is in range of 0 5~1 0mJ,the peculiar performed characteristic is observed:the switch gives a linear waveform firstly,and then after a delay time of about 20~250ns,it outputs a nonlinear waveform again.The physical mechanism of this specific phenomenon is associated with the anti site defects of semi insulating GaAs and two step single photon absorption.The delay time between linear waveform and nonlinear waveform is calculated,and the result matches the experiments. 展开更多
关键词 photoconductive switch semi-insulating gaas EL2 deep level
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1.55μm低温生长GaAs谐振腔增强型探测器 被引量:6
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作者 韩勤 彭红玲 +4 位作者 杜云 倪海桥 赵欢 牛智川 吴荣汉 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期549-551,共3页
利用低温(200℃)生长的GaAs材料作为吸收层制备了GaAs基1.55μm谐振腔增强型(RCE)光电探测器,对其光电特性进行了分析、研究·无光照0偏压下探测器暗电流为8.0×10-12A;光电流谱峰值波长1563nm;响应谱线半宽4nm,具有良好的波长... 利用低温(200℃)生长的GaAs材料作为吸收层制备了GaAs基1.55μm谐振腔增强型(RCE)光电探测器,对其光电特性进行了分析、研究·无光照0偏压下探测器暗电流为8.0×10-12A;光电流谱峰值波长1563nm;响应谱线半宽4nm,具有良好的波长选择性· 展开更多
关键词 探测器 LT-gaas 谐振腔增强 分布布喇格反射镜
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