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GaAs/AlGaAs异质结的界面束缚二维激子效应 被引量:1
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作者 袁祐荣 周济 +1 位作者 曹望和 冯禹臣 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第2期130-139,共10页
本文讨论了GaAs/AlGaAs异质结界面的H线发光及其性能。用双晶X射线衍射及皮秒光致发光证明了H线与界面质量密切相关,并且有相似于激子跃迁的寿命行为。用限制于异质结界面势阱的二维电子(或空穴)与分布于GaAs边的三维空穴(或电子)组成... 本文讨论了GaAs/AlGaAs异质结界面的H线发光及其性能。用双晶X射线衍射及皮秒光致发光证明了H线与界面质量密切相关,并且有相似于激子跃迁的寿命行为。用限制于异质结界面势阱的二维电子(或空穴)与分布于GaAs边的三维空穴(或电子)组成的二维激子效应,解释了H线的实验结果。并讨论了不同外延生长的异质结与界面有关的发光行为。 展开更多
关键词 gaas/algaas 异质 界面 激子
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C离子对AlGaAs/InGaAs异质结的辐照影响
2
作者 王海丽 杨梦婕 +3 位作者 马晓龙 许坤 段向阳 王献立 《郑州航空工业管理学院学报》 2024年第4期66-71,共6页
基于SRIM软件计算了不同能量的C离子在AlGaAs/InGaAs异质结中的平均投影射程和辐照损伤区,仿真了能量为500keV、800keV、1100keV的C离子入射到AlGaAs/InGaAs异质结中的能量损失情况,发现随着入射离子能量的增加,电离能比例增加,非电离... 基于SRIM软件计算了不同能量的C离子在AlGaAs/InGaAs异质结中的平均投影射程和辐照损伤区,仿真了能量为500keV、800keV、1100keV的C离子入射到AlGaAs/InGaAs异质结中的能量损失情况,发现随着入射离子能量的增加,电离能比例增加,非电离能比例降低,入射离子产生的电离能损远大于反冲原子产生的电离能损,反冲原子产生的声子能损远多于入射离子产生的声子能损;通过仿真还发现,当C离子的能量为800keV时,辐照损伤区在异质结处且在异质结处产生的空位缺陷最多。 展开更多
关键词 C离子辐照 algaas/Ingaas异质 电离能损 非电离能损 空位
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用于量子化霍尔电阻标准的GaAs/AlGaAs异质结二维电子气结构 被引量:1
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作者 钟源 贺青 +4 位作者 钟青 鲁云峰 赵建亭 王文新 田海涛 《计量学报》 CSCD 北大核心 2010年第6期543-546,共4页
设计并利用分子束外延生长了GaAs/AlGaAs异质结结构,以制作应用于中国电阻基准的量子化霍尔电阻器件。报道了这种制作量子化霍尔电阻器件的步骤及结果,讨论了利用77K下二维电子气的载流子浓度和迁移率数据初步判断其是否适合用于量... 设计并利用分子束外延生长了GaAs/AlGaAs异质结结构,以制作应用于中国电阻基准的量子化霍尔电阻器件。报道了这种制作量子化霍尔电阻器件的步骤及结果,讨论了利用77K下二维电子气的载流子浓度和迁移率数据初步判断其是否适合用于量子化霍尔电阻标准的方法和该方法的局限性。 展开更多
关键词 计量学 量子化霍尔电阻标准 gaas/algaas异质结 二维电子气
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高功率密度自对准结构AlGaAs/GaAs异质结双极晶体管 被引量:6
4
作者 严北平 张鹤鸣 戴显英 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期247-250,共4页
利用各向异性的湿法刻蚀和侧墙隔离技术实现了发射极金属和基极金属的自对准 ,采用该自对准技术成功地研制出了自对准结构的 Al Ga As/ Ga As异质结双极晶体管 ,器件直流电流增益大于 2 0 ,电流增益截止频率 f T 大于30 GHz,最高振荡频... 利用各向异性的湿法刻蚀和侧墙隔离技术实现了发射极金属和基极金属的自对准 ,采用该自对准技术成功地研制出了自对准结构的 Al Ga As/ Ga As异质结双极晶体管 ,器件直流电流增益大于 2 0 ,电流增益截止频率 f T 大于30 GHz,最高振荡频率 fmax大于 5 0 GHz,连续波功率测量表明 :在 1d B增益压缩时 ,单指 HBT可以提供 10 0 m W输出功率 ,对应的功率密度为 6 .6 7W/ m m,功率饱和时最大输出功率 112 m W,对应功率密度为 7.48W/ m m,功率附加效率为 6 7% 展开更多
关键词 自对准 高功率密度 异质双极晶体管 algaas/gaas 砷化镓
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微空气桥隔离的自对准AlGaAs/GaAs异质结双极晶体管
5
作者 严北平 张鹤鸣 戴显英 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第11期132-133,136,共3页
利用微空气桥隔离和自对准技术成功地研制出了自对准结构的AlGaAs/GaAs异质结双极晶体管 .器件展现出良好的直流和高频特性 .对于发射极面积为 2 μm× 15 μm的器件 ,直流电流增益大于 10 ,失调电压 (Offsetvoltage)2 0 0mV ;电流... 利用微空气桥隔离和自对准技术成功地研制出了自对准结构的AlGaAs/GaAs异质结双极晶体管 .器件展现出良好的直流和高频特性 .对于发射极面积为 2 μm× 15 μm的器件 ,直流电流增益大于 10 ,失调电压 (Offsetvoltage)2 0 0mV ;电流增益截止频率fT 大于 30GHz,最高振荡频率fmax约为 5 0GHz. 展开更多
关键词 algaas/gaas 异质 双极晶体管 微空气桥隔离
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AlGaAs/GaAs缓变异质结双极晶体管空间电行区中的复合电流
6
作者 齐鸣 李爱珍 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第2期119-125,共7页
本文建立了包括空间电荷区复合电流在内的缓变异质结双极晶体管(HBT)的分析模型.对AlGaAs/GaAsHBT特性的分析表明,缓变发射结虽可有效地消除导带边的势垒尖峰,但也会大大增加空间电荷区中的复合,导致小电流情况... 本文建立了包括空间电荷区复合电流在内的缓变异质结双极晶体管(HBT)的分析模型.对AlGaAs/GaAsHBT特性的分析表明,缓变发射结虽可有效地消除导带边的势垒尖峰,但也会大大增加空间电荷区中的复合,导致小电流情况下电流增益的明显下降.发射结界面附近的不掺杂隔离层会进一步增大空间电荷区内的复合,加剧电流增益的下降.因此在器件的设计和制作过程中,应精确控制组分缓变区和不掺杂隔离层的厚度,以减小空间电荷区中的复合电流,获得较好的器件特性. 展开更多
关键词 HBT 双极晶体管 algaas 砷化镓 异质 复合电流
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自对准AlGaAs/GaAs微波异质结双极晶体管(HBT)
7
作者 吴英 陈效建 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1991年第3期225-229,共5页
本文提出了一种制作HBT采用的垂直台面结构自对准工艺.利用该工艺及对A1GaAs/GaAs具有高选择比的化学湿法腐蚀剂,已研制成微波HBT.发射区台面与基极电极间隙为0.1μm,最大直流电流增益为40,截止频率f_T为10GHz.
关键词 双极晶体管 异质 algaas/gaas
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热电子注入AlGaAs/GaAs异质结Gunn二极管的实验研究
8
作者 陈效建 张洪治 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1991年第2期175-176,共2页
利用能谷间电子转移效应的Gunn二极管问世已二十余年,至今仍是微波,尤其是毫米波领域中最主要的有源器件之一.但是传统的Gunn二极管在短毫米波范围使用时,由于载流子以“冷”态随机地进入有源区,因而存在“死区”,使短毫米波器件中有源... 利用能谷间电子转移效应的Gunn二极管问世已二十余年,至今仍是微波,尤其是毫米波领域中最主要的有源器件之一.但是传统的Gunn二极管在短毫米波范围使用时,由于载流子以“冷”态随机地进入有源区,因而存在“死区”,使短毫米波器件中有源区的利用率明显降低,造成效率下降;而且这种随机分布的“冷”电子转变为“热” 展开更多
关键词 异质二极管 注入 algaas/gaas
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用液相外延技术制备单异质结AlGaAs/InGaP红色发光LED
9
作者 周华 《液晶与显示》 CAS CSCD 1991年第3期38-41,共4页
采用超冷技术的液相外延方法在 n-型GaAs 衬底上生长了高质量掺 Te 的 Al_(0.7)Ga_(0.3)As/掺 Mg 的 ln_(0.5)Ga_(0.5)P 单异质结发光二极管。详细地介绍了未掺杂及 Mg 和Zn 掺杂的 ln_(0.5)Ga_(0.5)P 层的生长条件和特性。当 Mg 掺杂... 采用超冷技术的液相外延方法在 n-型GaAs 衬底上生长了高质量掺 Te 的 Al_(0.7)Ga_(0.3)As/掺 Mg 的 ln_(0.5)Ga_(0.5)P 单异质结发光二极管。详细地介绍了未掺杂及 Mg 和Zn 掺杂的 ln_(0.5)Ga_(0.5)P 层的生长条件和特性。当 Mg 掺杂层中的空穴浓度为1×10^(18)cm^(-3)时光致发光强度最高。用电子束诱导电流,电流—电压测量,电致发光,光输出功率和外量子效率等评价了用异质结制备的二极管的特性。适当地控制 Mg 掺杂 ln_(0.5)Ga_(0.5)P 有源层的空穴浓度和 Te 掺杂 Al_(0.7)Ga_(0.3)As 窗口层的电子浓度,可使 p—n 结准确地定位在金属结上,p—n 结的定位由电子束诱导电流技术测量。通过电流—电压测量,获得了理想系数为1.65的1.5V 正向导通电压和高于20V 的击穿电压。在20mA 时, 发射峰值波长和电致发光光谱峰值和半最大值时的全宽度分别为6650和250(?)。用100mA DC 驱动时,未封装二极管的光输出功率达150μW,外量子效率为0.085%-0.10%。 展开更多
关键词 algaas/InGaP 异质 LED 外量子效率 液相外延 电致发光 发光二极管 空穴浓度 峰值波长 电压测量
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发射极-基极-发射极结构PNP型AlGaAs/GaAsHBT电流增益的理论分析
10
作者 严北平 张鹤鸣 戴显英 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期74-78,共5页
建立了 PNP型异质结双极晶体管基区少数载流子浓度的解析模型 .理论分析了发射极 -基极 -发射极布局的PNP型 HBT的电流增益 .讨论了不同基极电流成分 ,如外基区表面复合电流 ,基极接触处的界面复合电流 ,基区体内复合电流 。
关键词 砷化镓 HBT 基极 发射极 algaas/gaas 异质
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808nm高功率AlGaAs/GaAs单量子阱远结激光器
11
作者 张素梅 赵世舜 +1 位作者 石英学 石家纬 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2004年第3期177-180,共4页
 设计并研制了一种将p n结和有源层分开的高功率AlGaAs/GaAs单量子阱远异质结(SQW RJH)激光器,其发射波长为808nm,腔长为900μm,条宽为100μm。其外延结构与通常的808nmAlGaAs/GaAs单量子阱半导体激光器的结构不同,在p n结和有源区间...  设计并研制了一种将p n结和有源层分开的高功率AlGaAs/GaAs单量子阱远异质结(SQW RJH)激光器,其发射波长为808nm,腔长为900μm,条宽为100μm。其外延结构与通常的808nmAlGaAs/GaAs单量子阱半导体激光器的结构不同,在p n结和有源区间多了一层0.3μm厚的p型Al0.3Ga0.7As下波导层。对研制的器件进行了电导数测试,结果显示,与常规AlGaAs/GaAs大功率半导体激光器相比,远结半导体激光器具有阈值电流偏大、导通电压偏高的直流特性。经4200h的恒流电老化结果表明,器件在老化初期表现出阈值电流随老化时间缓慢下降,输出功率随老化时间缓慢上升的远结特性。 展开更多
关键词 高功率 单量子阱 algaas/gaas
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高功率AlGaAs/GaAs单量子阱远结激光器及其老化特性
12
作者 张素梅 石家纬 +1 位作者 赵世舜 胡贵军 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期267-271,共5页
为了提高器件的可靠性和使用寿命 ,设计并研制了一种将p n结和有源层分开的高功率AlGaAs GaAs单量子阱远异质结 (SQW RJH)激光器 ,发射波长为 80 8nm ,腔长 90 0 μm ,条宽 1 0 0 μm ,其外延结构与通常的 80 8nmAlGaAs GaAs单量子阱半... 为了提高器件的可靠性和使用寿命 ,设计并研制了一种将p n结和有源层分开的高功率AlGaAs GaAs单量子阱远异质结 (SQW RJH)激光器 ,发射波长为 80 8nm ,腔长 90 0 μm ,条宽 1 0 0 μm ,其外延结构与通常的 80 8nmAlGaAs GaAs单量子阱半导体激光器的结构不同 ,在p n结和有源区间多了一层p型AlGaAs层 ,其厚度约为 0 1 μm。为减小衬底表面位错对外延层质量的影响 ,在n+ GaAs衬底和n Al0 5Ga0 5As下包层间加一层n+ GaAs缓冲层。对器件进行了电导数测试及恒流电老化实验。与常规AlGaAs GaAs大功率半导体激光器相比 ,远结大功率半导体激光器具有阈值电流Ith偏大、导通电压Vth偏高的直流特性。 30 0 0h的恒流电老化结果表明 ,器件在老化初期表现出阈值电流随老化时间缓慢下降 。 展开更多
关键词 高功率半导体激光器 单量子阱 algaas/gaas
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Optical Properties of GaAs/AlGaAs Nanowires Grown on Pre-etched Si Substrates
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作者 ZHANG Zhihong MENG Bingheng +2 位作者 WANG Shuangpeng KANG Yubin WEI Zhipeng 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第10期1639-1646,共8页
GaAs-based nanomaterials are essential for near-infrared nano-photoelectronic devices due to their exceptional optoelectronic properties.However,as the dimensions of GaAs materials decrease,the development of GaAs nan... GaAs-based nanomaterials are essential for near-infrared nano-photoelectronic devices due to their exceptional optoelectronic properties.However,as the dimensions of GaAs materials decrease,the development of GaAs nanowires(NWs)is hindered by type-Ⅱquantum well structures arising from the mixture of zinc blende(ZB)and wurtzite(WZ)phases and surface defects due to the large surface-to-volume ratio.Achieving GaAs-based NWs with high emission efficiency has become a key research focus.In this study,pre-etched silicon substrates were combined with GaAs/AlGaAs core-shell heterostructure to achieve GaAs-based NWs with good perpendicularity,excellent crystal structures,and high emission efficiency by leveraging the shadowing effect and surface passivation.The primary evidence for this includes the prominent free-exciton emission in the variable-temperature spectra and the low thermal activation energy indicated by the variable-power spectra.The findings of this study suggest that the growth method described herein can be employed to enhance the crystal structure and optical properties of otherⅢ-Ⅴlow-dimensional materials,potentially paving the way for future NW devices. 展开更多
关键词 gaas nanowires gaas/algaas core-shell structure crystal phase optical property
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MOCVD生长GaAs/AlGaAs清晰超薄异质外延材料
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作者 刘士文 任红文 +3 位作者 刘立强 徐现刚 黄柏标 蒋民华 《自然科学进展(国家重点实验室通讯)》 1992年第4期349-352,共4页
一、引言 GaAs/AlGaAs作为较理想的晶格匹配Ⅲ-V族半导体异质结构材料,具有较大的能带不连续性,因而其异质结及量子阱和超晶格已在许多新型微电子及光电子器件物理研究领域得到广泛的应用,如量子阱激光器(QWLD)、高电子迁移率晶体管(HE... 一、引言 GaAs/AlGaAs作为较理想的晶格匹配Ⅲ-V族半导体异质结构材料,具有较大的能带不连续性,因而其异质结及量子阱和超晶格已在许多新型微电子及光电子器件物理研究领域得到广泛的应用,如量子阱激光器(QWLD)、高电子迁移率晶体管(HEMT)、量子阱红外探测器(QWIRPD)等.MOCVD具有普适性、重复性、均匀性和大面积生产的特点,已成为制备高质量外延材料的重要手段. 展开更多
关键词 MOCVD gaas 异质 量子阱
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MBE生长的高性能MDAlGaAs/GaAs结构材料 被引量:1
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作者 彭正夫 张允强 +4 位作者 高翔 孙娟 黄文裕 陈效建 刘军 《半导体情报》 1991年第6期11-13,共3页
本文报道了用国产MBE装置和源材料生长调制掺杂(MD)AlGaAs/GaAs结构材料,用霍耳效应、光荧光测量材料的电学和光学性能,用电化学C-V检测分布特性,用电光检测法评估材料的均匀性。用该材料研制栅长0.5μm的HEMT器件,其跨导为200mS/mm,12... 本文报道了用国产MBE装置和源材料生长调制掺杂(MD)AlGaAs/GaAs结构材料,用霍耳效应、光荧光测量材料的电学和光学性能,用电化学C-V检测分布特性,用电光检测法评估材料的均匀性。用该材料研制栅长0.5μm的HEMT器件,其跨导为200mS/mm,12GHz下的噪声系数达到0.76dB,相关增益6.5dB。 展开更多
关键词 分子束外延 异质 algaas/gaas
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磁场对GaAs/Al_xGa_(1-x)As异质结系统中束缚极化子的影响 被引量:7
16
作者 张敏 班士良 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第12期1618-1623,共6页
对 Ga As/ Alx Ga1 - x As单异质结系统引入三角势近似异质结势 ,同时考虑体纵光学 (L O)声子和有效近似下两支界面光学 (IO)声子的影响 ,采用变分法讨论了外界恒定磁场对束缚于近界面杂质的光学极化子结合能的影响 .利用改进的 L ee- L... 对 Ga As/ Alx Ga1 - x As单异质结系统引入三角势近似异质结势 ,同时考虑体纵光学 (L O)声子和有效近似下两支界面光学 (IO)声子的影响 ,采用变分法讨论了外界恒定磁场对束缚于近界面杂质的光学极化子结合能的影响 .利用改进的 L ee- L ow- Pines(L L P)中间耦合方法处理电子 -声子和杂质 -声子的相互作用 ,计算了杂质态结合能随杂质位置、磁场强度、电子面密度的变化关系 .结果表明 ,极化子结合能随磁场呈现增加的趋势 ,其中 L O声子对结合能的负贡献受磁场影响显著 ,而 IO声子的负贡献受磁场的影响并不明显 ,但当杂质靠近界面时 ,杂质 - IO声子相互作用对磁场的影响很敏感 .结果还表明 ,导带弯曲作用不容忽略 ;电子像势对结合能的影响很小 ,可以忽略 . 展开更多
关键词 gaas/ALXGA1-XAS 异质 磁场 束缚极化子 合能
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GaAs/Si/AlAs异质结不同生长温度Si夹层分布的CV实验研究 被引量:2
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作者 李永平 田强 +3 位作者 牛智川 杨锡震 吴正龙 王亚非 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期474-477,共4页
用MBE生长设备制备了GaAs/Si/AlAs异质结 ,通过CV法研究了异质结的带阶和GaAs层在不同温度下生长对 0 .5分子层Si夹层的影响 。
关键词 gaas/Si/AlAs异质 生长温度 Si夹层 CV测量 实验研究 导带带阶 异质器件 热扩散 半导体 空间分布
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GaAs异质结材料BOA光开关特性分析 被引量:2
18
作者 黄旭涛 江晓清 +2 位作者 尹锐 杨建义 王明华 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期157-161,共5页
本文较为详细地讨论了 Ga As异质结材料 BOA型光开关的特性 ;并应用转移矩阵理论和有效折射率法计算和分析了电极结构与器件半波电压和串音度的关系 .结果表明 :通过优化设计电极的宽度可以获得 BOA型光开关最小的半波电压 ;电极位置的... 本文较为详细地讨论了 Ga As异质结材料 BOA型光开关的特性 ;并应用转移矩阵理论和有效折射率法计算和分析了电极结构与器件半波电压和串音度的关系 .结果表明 :通过优化设计电极的宽度可以获得 BOA型光开关最小的半波电压 ;电极位置的对称性对器件串音度起决定性的影响 .采用自对准工艺技术可以比较准确的控制电极的位置 .分析表明 :要得到 <- 40 d B的串音度 ,电极位置偏差必须小于 0 . 展开更多
关键词 BOA 转移矩阵理论 自对准工艺 光开关 gaas异质 特性分析 有效折射效率法 电极 串音度
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GaAs/AlGaAs量子阱红外探测器特性非对称性分析 被引量:1
19
作者 李娜 李宁 +9 位作者 陆卫 袁先漳 李志锋 窦红飞 刘京郊 沈学础 金莉 李宏伟 周均铭 黄绮 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期411-414,共4页
在分子束外延生长量子阱材料过程中 ,分析了在不同的 Ga As/ Al Ga As异质结生长次序中 Ga的解吸附速率不同和量子阱中掺杂的扩散造成量子阱结构的不对称 ,讨论了 Ga As/ Al Ga As量子阱红外探测器的性能参数相对于正负偏压的不对称性 ... 在分子束外延生长量子阱材料过程中 ,分析了在不同的 Ga As/ Al Ga As异质结生长次序中 Ga的解吸附速率不同和量子阱中掺杂的扩散造成量子阱结构的不对称 ,讨论了 Ga As/ Al Ga As量子阱红外探测器的性能参数相对于正负偏压的不对称性 ,并与金属有机化合物汽相沉淀法生长的量子阱材料和相应器件进行了比较 .发现 。 展开更多
关键词 量子阱红外探测器 不对称性 解吸附速率 砷化镓 异质 gaas/algaas
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生长速率对低压MOCVD外延生长GaAs/Ge异质结的影响 被引量:3
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作者 汪韬 李宝霞 +2 位作者 李晓婷 赛小锋 高鸿楷 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第12期1479-1482,共4页
采用自制的液相金属氧化物化学汽相沉积 (LP MOCVD)设备 ,在Ge( 1 0 0 )向 ( 1 1 0 )面偏 9°外延生长出GaAs单晶外延层 ,对电池材料进行了X射线衍射测试分析 ,半峰宽为 5 2″ 讨论了外延生长参量对GaAs/Ge的影响 ,表明抑制反向畴... 采用自制的液相金属氧化物化学汽相沉积 (LP MOCVD)设备 ,在Ge( 1 0 0 )向 ( 1 1 0 )面偏 9°外延生长出GaAs单晶外延层 ,对电池材料进行了X射线衍射测试分析 ,半峰宽为 5 2″ 讨论了外延生长参量对GaAs/Ge的影响 ,表明抑制反向畴不仅与过渡层有关 ,而且与GaAs单晶外延生长参量有关 展开更多
关键词 生长速率 低压MOCVD 外延生长 异质 液相金属氧化物化学汽相沉积 gaas/GE 反向畴 砷化镓 半导体 太阳电池
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