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GaAsBi半导体材料的制备及应用研究进展
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作者 马玉麟 郭祥 丁召 《人工晶体学报》 北大核心 2024年第1期25-37,共13页
稀铋Ⅲ-Ⅴ半导体材料在电子和光电子领域具有广泛的应用前景,其制备方法主要有分子束外延法(MBE)和金属有机物气相外延法(MOVPE)。本文聚焦于具有较大带隙收缩、温度不敏感以及强自旋轨道分裂等特殊物理特性的GaAs_(x)Bi_(1-x)半导体材... 稀铋Ⅲ-Ⅴ半导体材料在电子和光电子领域具有广泛的应用前景,其制备方法主要有分子束外延法(MBE)和金属有机物气相外延法(MOVPE)。本文聚焦于具有较大带隙收缩、温度不敏感以及强自旋轨道分裂等特殊物理特性的GaAs_(x)Bi_(1-x)半导体材料,对其制备方法和研究进展进行了综述。研究人员对GaAsBi材料的研究主要集中在薄膜、多量子阱、纳米线和量子点材料的制备。在薄膜材料方面,侧重于研究制备工艺条件对GaAsBi薄膜的影响,例如低衬底温度、低生长速率和非常规的Ⅴ/Ⅲ束流比;在多量子阱材料方面,采用双衬底温度技术有效减少Bi偏析问题;对于纳米线和量子点材料,金属Bi作为表面活性剂可以改善材料的形貌和光学性能。然而,目前在该材料研究和应用方面仍存在挑战,如薄膜材料的结晶质量恶化和金属Bi分凝团聚,以及量子点材料中Bi的均匀性和形成机制的争议。解决这些问题对于提高GaAs_(x)Bi_(1-x)半导体材料的质量和促进器件发展具有重要意义。 展开更多
关键词 稀铋Ⅲ-Ⅴ半导体材料 gaasbi薄膜 多量子阱材料 量子点材料 MBE MOVPE
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探究GSMBE制备GaAsBi薄膜中生长条件对Bi浓度的影响
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作者 崔健 潘文武 +4 位作者 吴晓燕 陈其苗 刘娟娟 张振普 王庶民 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2017年第3期352-357,共6页
为了探究GaAsBi薄膜生长中生长条件与Bi浓度的关系,我们利用气态源分子束外延(GSMBE)技术,通过改变每个GaAsBi单层的生长温度、AsH_3压和Bi源温度,在半绝缘GaAs(100)衬底上生长GaAsBi的多层结构。通过二次离子质谱(SIMS)及透射电镜X光谱... 为了探究GaAsBi薄膜生长中生长条件与Bi浓度的关系,我们利用气态源分子束外延(GSMBE)技术,通过改变每个GaAsBi单层的生长温度、AsH_3压和Bi源温度,在半绝缘GaAs(100)衬底上生长GaAsBi的多层结构。通过二次离子质谱(SIMS)及透射电镜X光谱(EDX)测试得出:GaAsBi中Bi的浓度随着生长温度的升高而降低,且生长速率越慢表面偏析和再蒸发严重,可导致Bi浓度下降趋势更明显;Bi浓度随着AsH_3压的升高而减小,在As_2和Ga束流比在0.5~0.8之间几乎成线性变化,远不如固态源MBE敏感;此外,Bi源温度升高,Bi掺入的浓度也会增大,但是当生长温度大于420℃时,Bi就很难凝入。 展开更多
关键词 gaasbi 气态源分子束外延 生长温度 AsH3压 Bi源温度
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Band Structure and Optical Gain of InGaAs/GaAsBi Type-Ⅱ Quantum Wells Modeled by the k·p Model
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作者 王畅 潘文武 +1 位作者 Konstantin Kolokolov 王庶民 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2018年第5期133-136,共4页
Optical gains of type-Ⅱ In Ga As/Ga As Bi quantum wells(QWs) with W, N, and M shapes are analyzed theoretically for near-infrared laser applications. The bandgap and wave functions are calculated using the self-con... Optical gains of type-Ⅱ In Ga As/Ga As Bi quantum wells(QWs) with W, N, and M shapes are analyzed theoretically for near-infrared laser applications. The bandgap and wave functions are calculated using the self-consistent k·p Hamiltonian, taking into account valence band mixing and the strain effect. Our calculations show that the M-shaped type-Ⅱ QWs are a promising structure for making 1.3 um lasers at room temperature because they can easily be used to obtain 1.3 um for photoluminescence with a proper thickness and have large wave-function overlap for high optical gain. 展开更多
关键词 As BI In Ga Band Structure and Optical Gain of InGaAs/gaasbi Type Quantum Wells Modeled by the k p Model
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光斑尺寸对GaAs_(1-x)Bi_x光致发光谱线型的影响
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作者 闫冰 陈熙仁 +1 位作者 刘锋 邵军 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期210-214,共5页
针对低激发功率密度光致发光(photoluminescence,PL)谱信噪比(signal-to-noise ratio,SNR)对GaAs_(1-x)Bi_x带尾能级探究的限制问题,基于傅里叶变换红外PL光谱实验系统对两个GaAs_(1-x)Bi_x外延膜开展变激发光斑尺寸PL光谱测试分析.结... 针对低激发功率密度光致发光(photoluminescence,PL)谱信噪比(signal-to-noise ratio,SNR)对GaAs_(1-x)Bi_x带尾能级探究的限制问题,基于傅里叶变换红外PL光谱实验系统对两个GaAs_(1-x)Bi_x外延膜开展变激发光斑尺寸PL光谱测试分析.结果表明,激发功率恒定时光斑直径增大导致PL峰位红移和线宽先降低后增大.这一现象是由于等效激发功率密度的降低而导致的.在保持激发功率密度为5. 1 W/mm2时,光斑增大不影响光谱线型但显著提升SNR.由此,低激发功率密度PL光谱的弱信号探测能力得以提高,有助光谱定量拟合分析.本工作表明,适当增大激发光斑尺寸有助于低激发功率密度PL光谱的SNR和弱信号分辨能力的提升. 展开更多
关键词 光斑尺寸 信噪比 光致发光 gaasbi
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