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GaAsMIS肖特基结的GaAs-MgO界面层的电学性质
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作者 高娴 唐吉龙 +7 位作者 房丹 王双鹏 赵海峰 魏志鹏 方铉 王晓华 徐志堃 马晓辉 《纳米科技》 2015年第3期12-15,共4页
使用分子束外延(MBE)技术生长Be掺杂的GaAs膜层,在此基础上,制备Au/GaAs Schottky二极管.另外,在Au与GaAs之间用原子层沉积技术(ALD) 插入一层MgO绝缘层,研究不同掺杂浓度的GaAs对势垒高度及影响因子的影响,实验结果表明,Au/MgO/GaA... 使用分子束外延(MBE)技术生长Be掺杂的GaAs膜层,在此基础上,制备Au/GaAs Schottky二极管.另外,在Au与GaAs之间用原子层沉积技术(ALD) 插入一层MgO绝缘层,研究不同掺杂浓度的GaAs对势垒高度及影响因子的影响,实验结果表明,Au/MgO/GaAs结构的肖特基势垒,随着掺杂浓度的升高而增大,影响因子呈现先降低后增加的趋势. 展开更多
关键词 Be掺杂GaAs gaasmis结构 I-V 肖特基势垒高度 理想因子
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