期刊文献+
共找到15篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
高功率InGaAs/GaAsP应变量子阱垂直腔面发射激光器列阵 被引量:6
1
作者 刘迪 宁永强 +2 位作者 张金龙 张星 王立军 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第10期2147-2153,共7页
为提高垂直腔面发射激光器(VCSEL)的输出功率,对具有3个In0.2Ga0.8As/GaAs0.92P0.08应变量子阱结构,发射波长为977nm的VCSEL列阵进行了研究。对量子阱结构进行了优化,选择具有更宽带隙的GaAsP作为势垒材料,计算了In0.2Ga0.8As/GaAs0.92P... 为提高垂直腔面发射激光器(VCSEL)的输出功率,对具有3个In0.2Ga0.8As/GaAs0.92P0.08应变量子阱结构,发射波长为977nm的VCSEL列阵进行了研究。对量子阱结构进行了优化,选择具有更宽带隙的GaAsP作为势垒材料,计算了In0.2Ga0.8As/GaAs0.92P0.08量子阱的带阶。对采用In0.2Ga0.8As/GaAs0.92P0.08和In0.2Ga0.8As/GaAs两种量子阱结构的器件的输出功率进行了理论模拟和比较分析。分别测试了上述两个列阵器件的脉冲峰值功率并利用由开启电压、阈值电流和串联电阻决定的p参数评估了列阵器件的输出性能。实验结果表明,当注入电流为110A时,发光面积为0.005cm2的In0.2Ga0.8As/GaAs0.92P0.084×4VCSEL列阵获得了123 W的脉冲峰值功率,比具有相同发光面积的In0.2Ga0.8As/GaAs列阵器件的脉冲峰值功率大13%,前者相应的功率密度和斜率效率分别为45.42kW/cm2和1.11W/A。连续和脉冲工作下的p值分别为15和13,表明器件在两种工作条件下都具有相对较好的输出性能。得到的结果证明,包含3个In0.2Ga0.8As/GaAs0.92P0.08应变量子阱的4×4VCSEL列阵器件能够获得较高的功率输出。 展开更多
关键词 垂直腔面发射激光器列阵 峰值功率 功率密度 InGaAs/gaasp应变量子阱
下载PDF
大功率宽面808nm GaAsP/AlGaAs量子阱激光器分别限制结构设计 被引量:4
2
作者 王俊 马骁宇 +2 位作者 林涛 郑凯 冯小明 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第12期2449-2454,共6页
本文对有源区条宽100μm的GaAsP/AlGaAs808nm量子阱激光器分别限制结构进行了理论分析和设计.选取了三种情况的波导层和限制层的铝组分,分别计算和分析了波导层厚度与激光器光限制因子、最大出光功率、垂直发散角和阈值电流密度的函数关... 本文对有源区条宽100μm的GaAsP/AlGaAs808nm量子阱激光器分别限制结构进行了理论分析和设计.选取了三种情况的波导层和限制层的铝组分,分别计算和分析了波导层厚度与激光器光限制因子、最大出光功率、垂直发散角和阈值电流密度的函数关系.根据计算结果可知:当波导层和限制层铝组分为0.4和0.5时,采用窄波导结构可以获得器件的最大输出功率为11.2W,发散角为19°,阈值电流密度为266A/cm2;采用宽波导结构可以得到器件的最大输出功率为9.4W,发散角为32°,阈值电流密度为239A/cm2. 展开更多
关键词 大功率808nm半导体激光器 gaasp/AlGaAs量子阱激光器 分别限制异质结构
下载PDF
高效率GaAsP/AlGaAs张应变量子阱激光二极管 被引量:1
3
作者 白一鸣 王俊 陈诺夫 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2011年第3期146-149,158,共5页
从理论上设计优化了高效率808nm GaAsP/AlGaAs张应变量子阱激光二极管外延材料的量子阱结构和波导结构参数,并采用低压金属有机气相外延技术实验制备了外延材料。将制作的芯片解理成不同腔长,测试得到外延材料的内损耗系数和内量子效率... 从理论上设计优化了高效率808nm GaAsP/AlGaAs张应变量子阱激光二极管外延材料的量子阱结构和波导结构参数,并采用低压金属有机气相外延技术实验制备了外延材料。将制作的芯片解理成不同腔长,测试得到外延材料的内损耗系数和内量子效率分别为0.82cm-1和93.6%。把腔长为900μm的单巴条芯片封装在热传导热沉上,器件在准连续工作条件下最大电光效率达到60.5%,相应的斜率效率和输出光功率分别为1.28W/A和74.9W。器件测试结果表明,采用优化的GaAsP/AlGaAs张应变量子阱和宽波导结构,可以有效提高器件的电光效率。 展开更多
关键词 激光二极管 gaasp/AlGaAs量子阱 张应变量子阱 金属有机气相外延(MOCVD) 电光效率
下载PDF
GaInP应力补偿层在InAs/GaAs量子点中的初步应用
4
作者 白红艳 肖祥江 +2 位作者 涂洁磊 赵沛坤 陈创业 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第6期29-32,共4页
利用金属有机化合物气相沉积(MOCVD)技术生长了双层InAs/GaAs量子点,并将GaInP作为应力补偿层引入到其中,采用原子力显微镜(AFM)对量子点的结构和生长质量进行了表征与分析.实验结果表明,应变补偿层的采用可有效改善第二层量子点质... 利用金属有机化合物气相沉积(MOCVD)技术生长了双层InAs/GaAs量子点,并将GaInP作为应力补偿层引入到其中,采用原子力显微镜(AFM)对量子点的结构和生长质量进行了表征与分析.实验结果表明,应变补偿层的采用可有效改善第二层量子点质量:(1)面密度最高可达7.5×1010 cm-2,而没有应变补偿层的样品的面密度仅为5.8×1010 cm-2;(2)缺陷岛密度可从不采用应变补偿时的9.6×107 cm-2降低至2.8×107 cm-2;(3)量子点的均匀性和尺寸也明显改善.此外,不同应变补偿层厚度比较实验结果显示,厚度过高或过低的应变补偿层都不能起到很好的补偿作用,取1~3 nm之间为佳;不同GaInP补偿层组分的比较实验结果表明,Ga组分为0.566的样品补偿效果比0.606的样品更好. 展开更多
关键词 INAS量子点 gainp应力补偿层 厚度 组分
下载PDF
用MOCVD方法生长的GaAs/GaAsP量子线及其特性
5
作者 傅竹西 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第3期217-223,共7页
本实验采用普通的光刻和湿法腐蚀技术,将GaAs基片刻蚀成具有W形沟槽样的非平面结构,基片表面为(100)面,沟槽的侧斜面为(111)B面.在此基片上用低压MOCVD设备外延生长了GaAs/GaAsP多层膜,通过扫描电... 本实验采用普通的光刻和湿法腐蚀技术,将GaAs基片刻蚀成具有W形沟槽样的非平面结构,基片表面为(100)面,沟槽的侧斜面为(111)B面.在此基片上用低压MOCVD设备外延生长了GaAs/GaAsP多层膜,通过扫描电镜和微区拉曼光谱,研究它们的生长特性,发现GaAs和GaAsP的生长速率与基片的晶向及基片上的生长位置有关.根据这一生长特性,选择合适的W形沟道形状,用常规的量子阱外延方式,在W形沟道中央顶部突起的线条状平面上形成宝塔形生长,从而在尖端长出量子线.低温荧光光谱中观察到相应的能量峰,从而证实量子线的存在。 展开更多
关键词 量子线 MOCVD 砷化镓
下载PDF
不同周期数的GaInAs/GaAsP多量子阱太阳能电池 被引量:1
6
作者 张奇灵 尧舜 +4 位作者 杨翠柏 张杨 陈丙振 常晓阳 王智勇 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第6期701-705,共5页
为了研究不同量子阱周期数下GaInAs/GaAsP多量子阱太阳能电池性能的变化规律,利用金属有机化学气相沉积技术(MOCVD)制备了不同周期数的双结多量子阱太阳能电池样品以及无量子阱双结结构的参考样品,利用高分辨率X射线衍射仪(HXRD)和... 为了研究不同量子阱周期数下GaInAs/GaAsP多量子阱太阳能电池性能的变化规律,利用金属有机化学气相沉积技术(MOCVD)制备了不同周期数的双结多量子阱太阳能电池样品以及无量子阱双结结构的参考样品,利用高分辨率X射线衍射仪(HXRD)和高分辨率透射电镜(TEM)测试了样品的晶体质量,同时在AM0(1×)光谱条件下测试了样品的I-V特性曲线和相应子电池的外量子效率。最终得到了高晶体质量、吸收截止波长在954 nm的Ga_(0.89)In_(0.11)As/GaAs_(0.92)P_(0.08)多量子阱结构,扩展波段的外量子效率最高达到75.18%,电池光电转换效率相对于无量子阱结构提升2.77%。通过对比测试结果发现,随着量子阱结构周期数的增加,太阳能电池在扩展波段(890~954 nm)的外量子效率不断提高,常规波段的短波响应(300~700 nm)会出现下降,长波响应(700~890 nm)会出现上升,短路电流和转换效率相应提升并趋于饱和。 展开更多
关键词 GaInAs/gaasp 量子阱 外量子效率 太阳能电池
下载PDF
InGaAs/GaAsP应变补偿多量子阱MOCVD生长 被引量:4
7
作者 王旭 王海珠 +4 位作者 张彬 王曲惠 范杰 邹永刚 马晓辉 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第4期448-454,共7页
利用金属有机化学气相沉积技术在GaAs衬底上开展了大失配InGaAs多量子阱的外延生长研究。针对InGaAs与GaAs之间较大晶格失配的问题,设计了GaAsP应变补偿层结构;通过理论模拟与实验相结合的方式,调控了GaAsP材料体系中的P组分,设计了P组... 利用金属有机化学气相沉积技术在GaAs衬底上开展了大失配InGaAs多量子阱的外延生长研究。针对InGaAs与GaAs之间较大晶格失配的问题,设计了GaAsP应变补偿层结构;通过理论模拟与实验相结合的方式,调控了GaAsP材料体系中的P组分,设计了P组分分别为0,0.128,0.184,0.257的三周期In_(x)Ga_(1-x)As/GaAs_(1-y)P_(y)多量子阱结构;通过PL、XRD、AFM测试对比发现,高势垒GaAsP材料的张应变补偿可以改善晶体质量。综合比较,在P组分为0.184时,PL波长1043.6 nm,半峰宽29.9 nm,XRD有多级卫星峰且半峰宽较小,AFM粗糙度为0.130 nm,表面形貌显示为台阶流生长模式。 展开更多
关键词 金属有机化学气相沉积 InGaAs/gaasp 应变补偿 多量子阱 晶格失配
下载PDF
Comparison of blue–green response between transmission-mode GaAsP-and GaAs-based photocathodes grown by molecular beam epitaxy 被引量:2
8
作者 焦岗成 刘正堂 +1 位作者 郭晖 张益军 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第4期467-473,共7页
In order to develop the photodetector for effective blue-green response, the 18-mm-diameter vacuum image tube combined with the transmission-mode Alo.7Gao.3Aso.9Po.1/GaAso.9Po.1 photocathode grown by molecular beam ep... In order to develop the photodetector for effective blue-green response, the 18-mm-diameter vacuum image tube combined with the transmission-mode Alo.7Gao.3Aso.9Po.1/GaAso.9Po.1 photocathode grown by molecular beam epitaxy is tentatively fabricated. A comparison of photoelectric property, spectral characteristic and performance parameter be- tween the transmission-mode GaAsP-based and blue-extended GaAs-based photocathodes shows that the GaAsP-based photocathode possesses better absorption and higher quantum efficiency in the blue-green waveband, combined with a larger surface electron escape probability. Especially, the quantum efficiency at 532 nm for the GaAsP-based photocathode achieves as high as 59%, nearly twice that for the blue-extended GaAs-based one, which would be more conducive to the underwater range-gated imaging based on laser illumination. Moreover, the simulation results show that the favorable blue-green response can be achieved by optimizing the emission-layer thickness in a range of 0.4 μm-0.6 μm. 展开更多
关键词 gaasp-based photocathodes transmission-mode quantum efficiency molecular beam epitaxy
下载PDF
Study on the Luminescence Properties of the Strain Compensated Quantum Well
9
作者 Tao Liu Jianjun Li +4 位作者 Jiachun Li Jun Han Jun Deng Linjie He Shengjie Lin 《Journal of Computer and Communications》 2013年第7期40-45,共6页
Compared with the conventional strained quantum well, the InGaAs/GaAsP strain compensated quantum well (SCQW) has better optical properties, as the well layer and the barrier layer lattice mismatch with each other whi... Compared with the conventional strained quantum well, the InGaAs/GaAsP strain compensated quantum well (SCQW) has better optical properties, as the well layer and the barrier layer lattice mismatch with each other which results in the introduction of stress. In this paper, we adopted the Kohn-Luttinger Hamiltonian, conducted some theoretical calculations using the transfer matrix method, and finally verified the following change trend of the InGaAs quantum well following the In-group through experiments: the growth of the low In-group can improve the epitaxial flatness of the active area;the growth of the high In-group can increase the wavelength as well as the strain. In this paper, we adopted the AlGaAs barrier material instead of the GaAsP, made an analysis on the level changes of the compensation quantum well, and successfully fostered the strain compensated quantum well structure using the metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) system which had better optical properties compared with the strained quantum wells. 展开更多
关键词 INGAAS/ALGAAS InGaAs/gaasp STRAIN Compensated quantum Well MOCVD
下载PDF
808nm无Al量子阱激光器mini阵列的研制
10
作者 王翎 李沛旭 +5 位作者 房玉锁 汤庆敏 张新 夏伟 任忠祥 徐现刚 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第12期920-922,共3页
通过分析激光器的结构,优化设计了非对称宽波导激光器结构及外延生长条件。利用低压金属有机化合物气相淀积技术(LP-MOCVD)生长了高质量的InGaAsP/GaInP无铝应变量子阱外延材料,制作成808 nm高功率半导体激光器mini阵列,将其应用到1 064... 通过分析激光器的结构,优化设计了非对称宽波导激光器结构及外延生长条件。利用低压金属有机化合物气相淀积技术(LP-MOCVD)生长了高质量的InGaAsP/GaInP无铝应变量子阱外延材料,制作成808 nm高功率半导体激光器mini阵列,将其应用到1 064 nm全固态激光器中。20℃下,制作的808 nm,0.5 cm半导体激光器mini阵列,连续驱动电流50 A时输出功率达到50 W,最高光电转换效率达到53%。将该808 nm激光器mini阵列应用到全固态1 064 nm激光模组中,50 W,1 064 nm激光输出时,工作电流只有15 A。经过多于500 h老化以后,1 064 nm全固态激光器的功率衰减小于2%。 展开更多
关键词 半导体激光器mini阵列 Ingaasp/gainp 应变量子阱 金属有机化合物化学气相淀积
下载PDF
MOCVD生长GaAsP/GaInP量子阱材料的发光特性 被引量:4
11
作者 苑汇帛 李林 +7 位作者 乔忠良 孔令沂 谷雷 刘洋 戴银 李特 张晶 曲轶 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期156-159,共4页
通过利用低压金属有机物化学气相沉积技术,在不同偏向角的GaAs衬底上生长了GaAsP/GaInP量子阱外延层结构。通过对样品室温光致发光测试结果的分析,讨论了势垒层生长温度、势阱层Ⅴ/Ⅲ比以及衬底偏向角对外延片发光波长、发光强度及半峰... 通过利用低压金属有机物化学气相沉积技术,在不同偏向角的GaAs衬底上生长了GaAsP/GaInP量子阱外延层结构。通过对样品室温光致发光测试结果的分析,讨论了势垒层生长温度、势阱层Ⅴ/Ⅲ比以及衬底偏向角对外延片发光波长、发光强度及半峰全宽的影响。发现在相同生长条件下,势垒层低温生长的量子阱发光更强;降低势阱层Ⅴ/Ⅲ比可以增加样品的发光强度,同时发光的峰值波长会出现红移。相同生长条件下,样品的发光强度会随其衬底偏向角的增加而增强,半峰全宽随其衬底偏向角的增大而减小。 展开更多
关键词 金属有机物化学气相沉积 gaasp/gainp量子阱 偏向角 发光强度
原文传递
MOCVD growth of AlGaInP/GaInP quantum well laser diode with asymmetric cladding structure for high power applications 被引量:2
12
作者 李沛旭 王翎 +5 位作者 李树强 夏伟 张新 汤庆敏 任忠祥 徐现刚 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第6期489-491,共3页
In order to improve the characteristics of the general broad-waveguide 808-nm semiconductor laser diode (LD), we design a new type quantum well LD with an asymmetric cladding structure. The structure is grown by met... In order to improve the characteristics of the general broad-waveguide 808-nm semiconductor laser diode (LD), we design a new type quantum well LD with an asymmetric cladding structure. The structure is grown by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD). For the devices with 100-ttm-wide stripe and 1000-/zm-long cavity under continuous-wave (CW) operation condition, the typical threshold current is 190 mA, the slope efficiency is 1.31 W/A, the wall-plug efficiency reaches 63%, and the maximum output power reaches higher than 7 W. And the internal absorption value decreases to 1.5 cm^-1. 展开更多
关键词 MOCVD growth of Algainp/gainp quantum well laser diode with asymmetric cladding structure for high power applications well high
原文传递
808nm大功率无铝有源区非对称波导结构激光器 被引量:18
13
作者 仲莉 王俊 +6 位作者 冯小明 王勇刚 王翠鸾 韩琳 崇锋 刘素平 马骁宇 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1037-1042,共6页
采用分别限制非对称波导结构,将光场从对称分布变为非对称分布,降低了载流子光吸收损耗,并允许p型区具有更高的掺杂水平,从而使器件电阻降低。对GaAsP/GaInP张应变单量子阱(SQW)非对称波导结构激光器的光场特性进行了理论分析,设计了... 采用分别限制非对称波导结构,将光场从对称分布变为非对称分布,降低了载流子光吸收损耗,并允许p型区具有更高的掺杂水平,从而使器件电阻降低。对GaAsP/GaInP张应变单量子阱(SQW)非对称波导结构激光器的光场特性进行了理论分析,设计了波导层厚度,并制作了波长为808 nm的无铝有源区大功率半导体激光器.器件综合特性测试结果为:腔长900μm器件的阈值电流密度典型值为400 A/cm^2,内损耗低至1.0 cm^-1;连续工作条件下,150μm条宽器件输出功率达到6 W,最大斜率效率为1.25 W/A.器件激射波长为807.5 nm,平行和垂直结的发散角分别为3.0°和34.8°。20~70℃范围内特征温度达到133 K。结果表明,分别限制非对称波导结构是降低内损耗,提高大功率半导体激光器特性的有效措施。 展开更多
关键词 激光器 非对称波导 gaasp/gainp张应变量子阱 金属有机化学气相外延
原文传递
60%电光效率高功率激光二极管阵列 被引量:5
14
作者 王俊 白一鸣 +6 位作者 崇锋 刘媛媛 冯小明 王勇刚 张广泽 刘素平 马骁宇 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1323-1327,共5页
设计并制备了980 nm高量子效率和极低光损耗的激光二极管(LD)外延材料和器件。微通道封装1 cm激光二极管阵列在连续(CW)工作条件下最大电光效率达到60.0%,相应的斜率效率和输出光功率分别为1.1 W/A和38.2 W。测试得到外延材料的内损耗... 设计并制备了980 nm高量子效率和极低光损耗的激光二极管(LD)外延材料和器件。微通道封装1 cm激光二极管阵列在连续(CW)工作条件下最大电光效率达到60.0%,相应的斜率效率和输出光功率分别为1.1 W/A和38.2 W。测试得到外延材料的内损耗系数和内量子效率分别为0.58 cm-1和91.6%。测试分析表明,器件电光效率的提高主要在于新型的InGaAs/GaAsP应变补偿量子阱和大光腔结构设计。 展开更多
关键词 半导体激光器 电光效率 InGaAs/gaasp量子阱 大光腔
原文传递
Mg掺杂AlInP 650 nmLD外延片的Zn扩散研究
15
作者 李树强 马德营 +5 位作者 夏伟 陈秀芳 张新 任忠祥 徐现刚 蒋民华 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期854-856,共3页
利用石英闭管法,对Mg掺杂AlInP 650 nm LD外延片进行Zn扩散,分析了扩散温度和时间2个参数对Zn扩散的影响。采用光致发光(PL)谱和电化学蒸涂(ECV)方法研究了Zn扩散产生的影响。PL谱结果表明,Zn扩散引起了AlGaInP/GaInP多量子阱(MQW)有源... 利用石英闭管法,对Mg掺杂AlInP 650 nm LD外延片进行Zn扩散,分析了扩散温度和时间2个参数对Zn扩散的影响。采用光致发光(PL)谱和电化学蒸涂(ECV)方法研究了Zn扩散产生的影响。PL谱结果表明,Zn扩散引起了AlGaInP/GaInP多量子阱(MQW)有源层的组分无序,使PL谱的峰值蓝移,最大蓝移为54 nm,约175 meV。ECV测量结果显示,Zn已经扩散到MQW有源区,MQW区域的p型载流子浓度为4.4×1017cm-3。 展开更多
关键词 Algainp/gainp量子阱 ZN扩散 组分无序
原文传递
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部