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20GHz宽带GaAs PHEMT分布式前置放大器
被引量:
7
1
作者
焦世龙
陈堂胜
+4 位作者
蒋幼泉
钱峰
李拂晓
邵凯
叶玉堂
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第5期955-958,共4页
采用0.5μm GaAs PHEMT工艺研制了一种光接收机分布式前置放大器.该放大器-3dB带宽接近20GHz,跨阻增益约46dBΩ;在50MHz^16GHz范围内,输入、输出电压驻波比(VSWR)均小于2;带内噪声系数在3.03~6.5dB之间,平均等效输入噪声电流密度约为14....
采用0.5μm GaAs PHEMT工艺研制了一种光接收机分布式前置放大器.该放大器-3dB带宽接近20GHz,跨阻增益约46dBΩ;在50MHz^16GHz范围内,输入、输出电压驻波比(VSWR)均小于2;带内噪声系数在3.03~6.5dB之间,平均等效输入噪声电流密度约为14.6pA/Hz;在输入10Gb/s非归零(NRZ)伪随机二进制序列(PRBS)信号下,放大器输出眼图清晰,具有12ps的定时抖动和166mV峰峰电压.
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关键词
gaasphemt
分布放大器
带宽
噪声系数
眼图
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职称材料
基于248 nm光刻机工艺的高性能0.15μm GaAs LN pHEMT
被引量:
1
2
作者
章军云
王溯源
+1 位作者
林罡
黄念宁
《电子与封装》
2018年第11期36-39,47,共5页
报道了一种0.15μm GaAs pHEMT的制作工艺,该工艺使用248 nm DUV光刻机和烘胶工艺方案。利用成熟的Ka波段宽带低噪声放大电路对该工艺进行了流片验证。微波测试结果显示,在26.5~40 GHz频段内,电路增益大于17.5 dB,在29.5 GHz处增益达19...
报道了一种0.15μm GaAs pHEMT的制作工艺,该工艺使用248 nm DUV光刻机和烘胶工艺方案。利用成熟的Ka波段宽带低噪声放大电路对该工艺进行了流片验证。微波测试结果显示,在26.5~40 GHz频段内,电路增益大于17.5 dB,在29.5 GHz处增益达19.9 dB;噪声系数小于2.4 dB,在33.1 GHz处,最小噪声1.96 dB;输入输出驻波比小于1.36,1 dB压缩点输出功率大于6.4 dBm,直流功耗为142.5mW。和基于同样电路的电子束直写裸栅工艺相比,关键指标及生产效率都有明显提升。
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关键词
248
ninDUV光刻机
烘胶工艺
gaasphemt
KA波段
低噪声放大器
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职称材料
9~15 GHz GaAs MMIC宽带高效率功率放大器
被引量:
4
3
作者
徐鼎
陈晓娟
+1 位作者
胡俊
袁婷婷
《电子设计工程》
2021年第1期24-29,共6页
基于0.15μm栅长GaAs E-PHEMT工艺,设计了一款可应用于X波段和Ku波段的宽带高效率功率放大器。针对二次谐波会明显降低功率放大器效率的问题,采用四分之一波长微带线组成输出端偏置网络,将二次谐波短接到地,有效地提高了功率附加效率;...
基于0.15μm栅长GaAs E-PHEMT工艺,设计了一款可应用于X波段和Ku波段的宽带高效率功率放大器。针对二次谐波会明显降低功率放大器效率的问题,采用四分之一波长微带线组成输出端偏置网络,将二次谐波短接到地,有效地提高了功率附加效率;通过分析匹配网络级数对宽带匹配的影响,输出匹配电路采用电容微带线组成的两级电抗网络实现低Q值匹配,拓展了电路的宽带特性。测试结果表明,该放大器在9~15 GHz工作频率内,连续波饱和输出功率大于28 dBm,功率附加效率为35%~45%,功率回退至19 dBm下时,IMD3小于-34 dBc,该MMIC尺寸为2.34 mm*1.25 mm。
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关键词
GaAs
PHEMT工艺
高效率功率放大器
谐波抑制
宽带匹配
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职称材料
题名
20GHz宽带GaAs PHEMT分布式前置放大器
被引量:
7
1
作者
焦世龙
陈堂胜
蒋幼泉
钱峰
李拂晓
邵凯
叶玉堂
机构
电子科技大学光电信息学院
单片集成电路与模块国家级重点实验室
南京电子器件研究所
出处
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第5期955-958,共4页
基金
国家自然科学基金(No.60277008)
单片集成电路与模块国家级重点实验室基金(No.51491050105DZ0201)
教育部重点科技项目(No.03147)
文摘
采用0.5μm GaAs PHEMT工艺研制了一种光接收机分布式前置放大器.该放大器-3dB带宽接近20GHz,跨阻增益约46dBΩ;在50MHz^16GHz范围内,输入、输出电压驻波比(VSWR)均小于2;带内噪声系数在3.03~6.5dB之间,平均等效输入噪声电流密度约为14.6pA/Hz;在输入10Gb/s非归零(NRZ)伪随机二进制序列(PRBS)信号下,放大器输出眼图清晰,具有12ps的定时抖动和166mV峰峰电压.
关键词
gaasphemt
分布放大器
带宽
噪声系数
眼图
Keywords
GaAs PHEMT
distributed amplifier
bandwidth
noise figure
eye diagram
分类号
TN722.3 [电子电信—电路与系统]
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职称材料
题名
基于248 nm光刻机工艺的高性能0.15μm GaAs LN pHEMT
被引量:
1
2
作者
章军云
王溯源
林罡
黄念宁
机构
南京电子器件研究所
出处
《电子与封装》
2018年第11期36-39,47,共5页
文摘
报道了一种0.15μm GaAs pHEMT的制作工艺,该工艺使用248 nm DUV光刻机和烘胶工艺方案。利用成熟的Ka波段宽带低噪声放大电路对该工艺进行了流片验证。微波测试结果显示,在26.5~40 GHz频段内,电路增益大于17.5 dB,在29.5 GHz处增益达19.9 dB;噪声系数小于2.4 dB,在33.1 GHz处,最小噪声1.96 dB;输入输出驻波比小于1.36,1 dB压缩点输出功率大于6.4 dBm,直流功耗为142.5mW。和基于同样电路的电子束直写裸栅工艺相比,关键指标及生产效率都有明显提升。
关键词
248
ninDUV光刻机
烘胶工艺
gaasphemt
KA波段
低噪声放大器
Keywords
248 nm DUV lithography
resist thermal reflow process
GaAs pHEMT
Ka band
low noise amplifier
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
9~15 GHz GaAs MMIC宽带高效率功率放大器
被引量:
4
3
作者
徐鼎
陈晓娟
胡俊
袁婷婷
机构
中国科学院微电子研究所
中国科学院大学
出处
《电子设计工程》
2021年第1期24-29,共6页
基金
国家科技重大专项(2016ZX03001006)。
文摘
基于0.15μm栅长GaAs E-PHEMT工艺,设计了一款可应用于X波段和Ku波段的宽带高效率功率放大器。针对二次谐波会明显降低功率放大器效率的问题,采用四分之一波长微带线组成输出端偏置网络,将二次谐波短接到地,有效地提高了功率附加效率;通过分析匹配网络级数对宽带匹配的影响,输出匹配电路采用电容微带线组成的两级电抗网络实现低Q值匹配,拓展了电路的宽带特性。测试结果表明,该放大器在9~15 GHz工作频率内,连续波饱和输出功率大于28 dBm,功率附加效率为35%~45%,功率回退至19 dBm下时,IMD3小于-34 dBc,该MMIC尺寸为2.34 mm*1.25 mm。
关键词
GaAs
PHEMT工艺
高效率功率放大器
谐波抑制
宽带匹配
Keywords
gaasphemt
process
high⁃efficiency power amplifier
harmonic suppression
wideband match
分类号
TN43 [电子电信—微电子学与固体电子学]
TN722.75 [电子电信—电路与系统]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
20GHz宽带GaAs PHEMT分布式前置放大器
焦世龙
陈堂胜
蒋幼泉
钱峰
李拂晓
邵凯
叶玉堂
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
7
下载PDF
职称材料
2
基于248 nm光刻机工艺的高性能0.15μm GaAs LN pHEMT
章军云
王溯源
林罡
黄念宁
《电子与封装》
2018
1
下载PDF
职称材料
3
9~15 GHz GaAs MMIC宽带高效率功率放大器
徐鼎
陈晓娟
胡俊
袁婷婷
《电子设计工程》
2021
4
下载PDF
职称材料
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