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用MOCVD方法制备的GaN_(1-x)P_x三元合金的喇曼与红外光谱 被引量:1
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作者 张开骁 沈波 +5 位作者 陈敦军 张荣 施毅 郑有炓 李志锋 陆卫 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期48-51,共4页
采用光辐射加热低压金属有机化学气相淀积 (L P- MOCVD)方法在蓝宝石衬底上生长了高 P组分的 Ga N1 - x-Px 三元合金薄膜 ,通过喇曼光谱和红外反射谱技术研究了 Ga N1 - x Px 合金中 P掺杂所引入的振动模 .与非掺 P的Ga N相比 ,在 Ga N1... 采用光辐射加热低压金属有机化学气相淀积 (L P- MOCVD)方法在蓝宝石衬底上生长了高 P组分的 Ga N1 - x-Px 三元合金薄膜 ,通过喇曼光谱和红外反射谱技术研究了 Ga N1 - x Px 合金中 P掺杂所引入的振动模 .与非掺 P的Ga N相比 ,在 Ga N1 - x Px 合金的喇曼谱和红外反射谱中分别观测到了多个由 P所引入的振动模 ,文中将它们分别归因于 Ga- P键振动引起的准局域模、间隙模以及 展开更多
关键词 gan1-xpx MOCVD 喇曼 红外反射
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调制掺杂Al_xGa_(1-x)N/GaN异质结构的微应变 被引量:1
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作者 谭伟石 沙昊 +6 位作者 沈波 蔡宏灵 吴小山 蒋树声 郑文莉 贾全杰 姜晓明 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第10期799-804,共6页
用MOCVD方法在 (0 0 0 1)取向的蓝宝石 (α -Al2 O3)衬底上生长了不同势垒层厚度的Al0 .2 2Ga0 .78N/GaN异质结构 ,利用高分辨X射线衍射 (HRXRD)测量了其对称反射 (0 0 0 2 )和非对称反射 (10 14 )的倒易空间图 (RSM )。分析结果表明 ,... 用MOCVD方法在 (0 0 0 1)取向的蓝宝石 (α -Al2 O3)衬底上生长了不同势垒层厚度的Al0 .2 2Ga0 .78N/GaN异质结构 ,利用高分辨X射线衍射 (HRXRD)测量了其对称反射 (0 0 0 2 )和非对称反射 (10 14 )的倒易空间图 (RSM )。分析结果表明 ,势垒层内部微结构与应变状态和下层i -GaN的微结构与应变状态互相关联 ,当厚度大于 75 0 时 ,势垒层开始发生应变弛豫 ,临界厚度大于5 0 0 。势垒层具有一种“非常规”应变弛豫状态 ,这种状态的来源可能与n -AlGaN的内部缺陷以及i-GaN/α -Al2 展开更多
关键词 调制掺杂 微应变 AlxGa1-x/gan 异质结构 高分辨x射线衍射 微结构 驰豫线模型 半导体材料 氮化镓
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肖特基C-V法研究Al_xGa_(1-x)N/GaN异质结界面二维电子气 被引量:2
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作者 周玉刚 沈波 +6 位作者 刘杰 俞慧强 周慧梅 钱悦 张荣 施毅 郑有炓 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第11期1420-1424,共5页
通过对 Pt/ Al0 .2 2 Ga0 .78N/ Ga N肖特基二极管的 C- V测量 ,研究分析了 Al0 .2 2 Ga0 .78N/ Ga N异质结界面二维电子气 (2 DEG)浓度及其空间分布 .测量结果表明 ,Al0 .2 2 Ga0 .78N/ Ga N异质结界面 2 DEG浓度峰值对应的深度在界面... 通过对 Pt/ Al0 .2 2 Ga0 .78N/ Ga N肖特基二极管的 C- V测量 ,研究分析了 Al0 .2 2 Ga0 .78N/ Ga N异质结界面二维电子气 (2 DEG)浓度及其空间分布 .测量结果表明 ,Al0 .2 2 Ga0 .78N/ Ga N异质结界面 2 DEG浓度峰值对应的深度在界面以下 1.3nm处 ,2 DEG分布峰的半高宽为 2 .3nm ,2 DEG面密度为 6 .5× 10 1 2 cm- 2 .与 Alx Ga1 - x As/ Ga As异质结相比 ,其 2 DEG面密度要高一个数量级 ,而空间分布则要窄一个数量级 .这主要归结于 Alx Ga1 - x N层中~ MV / cm量级的压电极化电场和自发极化电场对 Alx Ga1 - x N/ Ga N异质结能带的调制和 Alx Ga1 - x N/ Ga 展开更多
关键词 异质结 肖特基C-V法 二维电子气 半导体材料
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GaN和Al_xGa_(1-x)N薄膜材料研究进展 被引量:1
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作者 陈伟华 叶志镇 《材料科学与工程》 CSCD 1997年第1期1-5,共5页
GaN及AlxGa1-xN是发兰光的关键材料,是目前光电子材料中最引人注目、必须攻克的课题。本文综述了GaN及AlxGa1-xN材料的研究现状,重点介绍了GaN及AlxGa1-xN材料近年来在性能评价。
关键词 薄膜 氮化镓 光电子材料
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Al_xGa_(1-x)N/GaN异质结构中二维电子气的磁致子带间散射效应
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作者 唐宁 沈波 +3 位作者 陈敦军 桂永胜 仇志军 郑有炓 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期480-483,共4页
通过在低温和强磁场下的磁输运测量研究了非故意掺杂Al0 .2 2 Ga0 .78N/GaN异质结二维电子气 ( 2DEG)的磁电阻振荡现象。观察到了磁致子带间散射 (MIS)效应。在极低温下观察到了表征两个子带被 2DEG占据的双周期舒勃尼科夫 德哈斯 (SdH... 通过在低温和强磁场下的磁输运测量研究了非故意掺杂Al0 .2 2 Ga0 .78N/GaN异质结二维电子气 ( 2DEG)的磁电阻振荡现象。观察到了磁致子带间散射 (MIS)效应。在极低温下观察到了表征两个子带被 2DEG占据的双周期舒勃尼科夫 德哈斯 (SdH)振荡。实验观察到MIS效应引起的磁电阻振荡的幅度随温度上升略有减小 ,振荡的频率为两个子带SdH振荡频率之差。随着温度的升高 ,MIS振荡成为主要的振荡。由于SdH振荡和MIS振荡对温度的依赖关系不同 ,实验观察到SdH和MIS振荡之间的调制在温度 10和 17K之间最为强烈 ,其它温度下的调制很弱。 展开更多
关键词 AlxGa1-xN/gan异质结构 二维电子气 磁致子带间散射
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Al_xGa_(1-x)N/GaN调制掺杂异质结能带分裂特性
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作者 郑泽伟 沈波 +3 位作者 陈敦军 郑有炓 郭少令 褚君浩 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期491-494,共4页
通过低温强磁场下的磁输运实验 ,研究了AlxGa1 -xN/GaN调制掺杂异质结构二维电子气 ( 2DEG)的能带分裂性质。1.4K温度下测量的磁阻曲线当磁场强度大于 5 .4T时观察到的明显对应于第一子带的自旋分裂现象。用Dingle作图法得到本样品τq ... 通过低温强磁场下的磁输运实验 ,研究了AlxGa1 -xN/GaN调制掺杂异质结构二维电子气 ( 2DEG)的能带分裂性质。1.4K温度下测量的磁阻曲线当磁场强度大于 5 .4T时观察到的明显对应于第一子带的自旋分裂现象。用Dingle作图法得到本样品τq 的大小为 0 17ps。结果表明 ,本实验所用的调制掺杂Al0 .2 2 Ga0 .78N/GaN异质结构具有较大的有效g因子g 。用高 2DEG浓度导致的交换相互作用加强解释了g 增强效应。在磁阻测量中改变磁场方向 ,自旋分裂现象表现出各向异性。用异质结构界面处强的极化电场解释了自旋分裂的各向异性。 展开更多
关键词 调制掺杂 AlxGa1-xN/gan异质结构 二维电子气 迁移率 有效g因子
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极化电场对Al_xGa_(1-x)N/GaN双量子阱中子带间跃迁的光学性质的影响(英文) 被引量:1
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作者 雷双英 沈波 +3 位作者 许福军 杨志坚 徐柯 张国义 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期403-408,共6页
用自洽计算的方法研究了极化电场对Al_xGa_(1-x)N/GaN双量子阱中子带间跃迁的光学性质和电子分布的影响.发现极化场会导致电压降的出现,从而使得结构对称的Al_xGa_(1-x)N/GaN双量子阱具有不对称的导带和价带.极化效应还会使奇数序和偶... 用自洽计算的方法研究了极化电场对Al_xGa_(1-x)N/GaN双量子阱中子带间跃迁的光学性质和电子分布的影响.发现极化场会导致电压降的出现,从而使得结构对称的Al_xGa_(1-x)N/GaN双量子阱具有不对称的导带和价带.极化效应还会使奇数序和偶数序的子带之间发生很大的Stark平移,从而使第一奇数序和第二偶数序子带之间的跃迁波长变短,这将有利于实现工作在通信窗口的光电子器件.同时,由于导带分布的不对称性,电子分布也不对称,从而会影响吸收系数. 展开更多
关键词 AlxGa(1-x)N/gan双量子阱 子带间跃迁 极化场不连续
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GaAs衬底上Ga In_(1-x)P膜的电子探针X射线波谱分析 被引量:2
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作者 毛振伟 李凡庆 +3 位作者 左健 卢江 谭舜 张庶元 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1993年第6期97-98,96,共3页
本文用波长色散型电子探针对GaAs衬底上Ga_xIn_(1-x)P混晶膜的元素组分进行了分析,为用SEM-WDS测定该类混晶膜材料作了一次试验。
关键词 x射线波谱 GaxIn1-xp 混晶膜
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MOCVD生长AlGaN薄膜的X光电子能谱 被引量:3
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作者 苑进社 陈光德 +1 位作者 林景瑜 汪红星 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第8期925-927,共3页
用X光电子能谱和X射线衍射谱方法分析了MOCVD生长的AlGaN薄膜的实际表面形态和晶体结构 基于XPS测量结果 ,通过分析计算 ,发现实际表面除GaN外存在Ga2 O3和Al2 O3及其它与O有关的络合物构成的混合氧化物覆盖层 ,估计覆盖层厚度约 1.2nm... 用X光电子能谱和X射线衍射谱方法分析了MOCVD生长的AlGaN薄膜的实际表面形态和晶体结构 基于XPS测量结果 ,通过分析计算 ,发现实际表面除GaN外存在Ga2 O3和Al2 O3及其它与O有关的络合物构成的混合氧化物覆盖层 ,估计覆盖层厚度约 1.2nm XRD结果显示生长的AlGaN薄膜为以GaN(0 0 0 2 )取向为主的多晶结构 。 展开更多
关键词 MOCVD A1gan薄膜 x光电子能谱 x射线衍射谱
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利用高分辨X射线衍射技术计算铝镓氮外延膜的晶格参数 被引量:1
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作者 王雪蓉 魏莉萍 +3 位作者 郑会保 刘运传 孟祥艳 周燕萍 《分析测试技术与仪器》 CAS 2010年第3期152-156,共5页
利用高分辨X射线衍射(HRXRD)技术对在蓝宝石衬底上用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法生长的Al组分含量为0.63的AlGaN外延膜进行晶格参数的精确计算.通过对Al0.63Ga0.37N的对称晶面和非对称晶面进行ω/2θ扫描,以及对零点误差和晶面间... 利用高分辨X射线衍射(HRXRD)技术对在蓝宝石衬底上用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法生长的Al组分含量为0.63的AlGaN外延膜进行晶格参数的精确计算.通过对Al0.63Ga0.37N的对称晶面和非对称晶面进行ω/2θ扫描,以及对零点误差和晶面间距的修正,能够计算得到六方晶系Al0.63Ga0.37N外延膜的水平晶格常数a和垂直晶格常数c分别为0.31301 nm和0.50596 nm.通过对各种影响因素的分析和校正,可以得出二者的测量偏差分别为0.00001 nm和0.00002 nm. 展开更多
关键词 A1gan 高分辨x射线衍射 晶格常数 测量偏差
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调制掺杂AlGaN/GaN异质结上的Pt肖特基接触
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作者 刘杰 沈波 +5 位作者 周玉刚 周慧梅 郑泽伟 张荣 施毅 郑有炓 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期381-384,共4页
研究了调制掺杂 Alx Ga1 - x N/Ga N表面 Pt肖特基接触的制备工艺 ,并对其进行了 I-V测量。通过改变对样品表面的处理工艺 ,研究了表面处理对调制掺杂 Alx Ga1 - x N/Ga N表面 Pt肖特基结接触特性的影响 ,在 n型掺杂浓度为 7.5× 1 ... 研究了调制掺杂 Alx Ga1 - x N/Ga N表面 Pt肖特基接触的制备工艺 ,并对其进行了 I-V测量。通过改变对样品表面的处理工艺 ,研究了表面处理对调制掺杂 Alx Ga1 - x N/Ga N表面 Pt肖特基结接触特性的影响 ,在 n型掺杂浓度为 7.5× 1 0 1 7cm- 3的 Al0 .2 2 Ga0 .78N样品表面 ,制备得到了势垒高度为 0 .94e V、理想因子为 1 .4的 Pt肖特基接触。这与国外报道的结果接近 (=1 .2 e V,n=1 .1 1 [1 ] ) 展开更多
关键词 调制掺杂 ALgan/gan异质结 肖特基接触 表面处理
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Al_xGa_(1-x)N/GaN异质结构中Al组分对二维电子气性质的影响 被引量:21
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作者 孔月婵 郑有炓 +1 位作者 储荣明 顾书林 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第7期1756-1760,共5页
通过用数值计算方法自洽求解薛定谔方程和泊松方程 ,研究了Al组分对AlxGa1 -xN GaN异质结构二维电子气性质的影响 ,给出了AlxGa1 -xN GaN异质结构二维电子气分布和面密度 ,导带能带偏移以及子带中电子分布随AlxGa1 -xN势垒层中Al组分的... 通过用数值计算方法自洽求解薛定谔方程和泊松方程 ,研究了Al组分对AlxGa1 -xN GaN异质结构二维电子气性质的影响 ,给出了AlxGa1 -xN GaN异质结构二维电子气分布和面密度 ,导带能带偏移以及子带中电子分布随AlxGa1 -xN势垒层中Al组分的变化关系 ,并用AlxGa1 -xN GaN异质结构自发极化与压电极化机理和能带偏移对结果进行讨论分析 . 展开更多
关键词 AlxGal-xN/gan异质结构 铝组分 二维电子气 自发极化 压电极化 能带偏移 半导体 氮镓铝化合物 氮化镓
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GaN_(1-x)P_x薄膜的结构特性研究 被引量:5
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作者 陈敦军 沈波 +5 位作者 张开骁 邓咏桢 范杰 张荣 施毅 郑有炓 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第7期1788-1791,共4页
用金属有机物化学气相沉积技术在蓝宝石衬底上外延了高P组分的GaN1 -xPx薄膜 利用x射线衍射仪和拉曼光谱仪研究了P对GaN1 -xPx 晶体结构的影响 .研究结果表明 :随着P组分比的增加 ,GaN1 -xPx(0 0 0 2 )衍射峰逐渐向小角度移动 ,即晶格... 用金属有机物化学气相沉积技术在蓝宝石衬底上外延了高P组分的GaN1 -xPx薄膜 利用x射线衍射仪和拉曼光谱仪研究了P对GaN1 -xPx 晶体结构的影响 .研究结果表明 :随着P组分比的增加 ,GaN1 -xPx(0 0 0 2 )衍射峰逐渐向小角度移动 ,即晶格常数变大 ;与非掺杂GaN相比 ,GaN1 -xPx 薄膜的拉曼光谱中出现了 4个新的振动模式 ,将它们分别归因于P族团引起的准局部振动模式、Ga—P键振动引起的间隙模 ,以及来自缺陷引起的无序激活散射 .同时 ,随着P组分比的增加 ,A1 (LO)模式的频率向低频方向移动 。 展开更多
关键词 ganl-xpx薄膜 结构 金属有机物化学气相沉积 x射线衍射 拉曼光谱 氮镓磷薄膜
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用肖特基电容电压特性数值模拟法确定调制掺杂Al_xGa_(1-x)N/GaN异质结中的极化电荷
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作者 周玉刚 沈波 +5 位作者 刘杰 周慧梅 俞慧强 张荣 施毅 郑有炓 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第9期1774-1778,共5页
研究发展了用肖特基电容 电压特性数值模拟确定调制掺杂AlxGa1 -xN GaN异质结中极化电荷的方法 .在调制掺杂的Al0 2 2 Ga0 78N GaN异质结上制备了Pt肖特基接触 ,并对其进行了C V测量 .采用三维费米模型对调制掺杂的Al0 2 2 Ga0 ... 研究发展了用肖特基电容 电压特性数值模拟确定调制掺杂AlxGa1 -xN GaN异质结中极化电荷的方法 .在调制掺杂的Al0 2 2 Ga0 78N GaN异质结上制备了Pt肖特基接触 ,并对其进行了C V测量 .采用三维费米模型对调制掺杂的Al0 2 2 Ga0 78N GaN异质结上肖特基接触的C V特性进行了数值模拟 ,分析了改变样品参数对C V特性的影响 .利用改变极化电荷、n AlGaN层掺杂浓度和肖特基势垒高度对C V曲线不同部分位置和形状影响不同 ,可以精确地求取极化电荷面密度 .通过模拟 ,得到Al0 2 2 Ga0 78N厚度为 45nm的调制掺杂Al0 2 2 Ga0 78N GaN异质结界面附近极化电荷面密度为 6 78× 10 1 2 cm- 2 . 展开更多
关键词 AlxGa1-xN/gan异质结 极化电荷 肖特基电容-电压特性 数值模拟 三维费米模型 场效应晶体管 调制掺杂
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High-performance and broadband photodetection of bicrystalline(GaN)_(1-x)(ZnO)_(x)solid solution nanowires via crystal defect engineering 被引量:1
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作者 Zongyi Ma Gang Li +8 位作者 Xinglai Zhang Jing Li Cai Zhang Yonghui Ma Jian Zhang Bing Leng Natalia Usoltseva Vladimir An Baodan Liu 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第26期255-262,共8页
Crystal defect engineering is widely used as an effective approach to regulate the optical and optoelectronic properties of semiconductor nanostructures.However,photogenerated electron-hole pair recombination centers ... Crystal defect engineering is widely used as an effective approach to regulate the optical and optoelectronic properties of semiconductor nanostructures.However,photogenerated electron-hole pair recombination centers caused by structural defects usually lead to the reduction of optoelectronic performance.In this work,a high-performance photodetector based on(GaN)_(1-x)(ZnO)_(x)solid solution nanowire with bicrystal structure is fabricated and it shows excellent photoresponse to ultraviolet and visible light.The highest responsivity of the photodetector is as high as 60,86 and 43 A/W under the irradiation of365 nm,532 nm and 650 nm,respectively.The corresponding response time is as fast as 170,320 and 160 ms.Such wide spectral responses can be attributed to various intermediate energy levels induced by the introduction of various structural defects and dopants in the solid solution nanowire.Moreover,the peculiar bicrystal boundary along the axial direction of the nanowire provides two parallel and fast transmission channels for photo-generated carriers,reducing the recombination of photo-generated carriers.Our findings provide a valued example using crystal defect engineering to broaden the photoresponse range and improve the photodetector performance and thus can be extended to other material systems for various optoelectronic applications. 展开更多
关键词 (gan)1-x(ZnO)x NANOWIRES Photodetectors Broadband photodetection Crystal defect engineering
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GaN异质外延的离子化氮源方法 被引量:2
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作者 贺仲卿 丁训民 +2 位作者 侯晓远 王迅 沈孝良 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1994年第7期1123-1128,共6页
用电离N_2产生的离子束作为外延生长氮化物的N源已获得成功,在GaAs(100)衬底上长出了具有立方结晶的GaN薄膜,其(200)x射线衍射峰宽仅23’。并用高分辨率电子能量损失谱测到立方GaN的表面光学声子出现在损... 用电离N_2产生的离子束作为外延生长氮化物的N源已获得成功,在GaAs(100)衬底上长出了具有立方结晶的GaN薄膜,其(200)x射线衍射峰宽仅23’。并用高分辨率电子能量损失谱测到立方GaN的表面光学声子出现在损失能量为82meV处. 展开更多
关键词 氮化镓 外延生长 离子源 离子束
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