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低成本高结晶GaN纳米线柔性薄膜制备及其场发射性能
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作者 王如志 张京阳 +2 位作者 杨孟骐 王佳兴 郑坤 《北京工业大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2024年第9期1038-1048,共11页
旨在探究非贵金属Cu替代贵金属Au作为催化剂在柔性碳膜上制备高结晶的GaN纳米线的可行性,并研究其场发射特性及机理。采用非贵金属Cu替代贵金属Au作为催化剂,在柔性碳膜上制备了直径为20~100 nm、长度为3~15μm的高结晶的GaN纳米线,并... 旨在探究非贵金属Cu替代贵金属Au作为催化剂在柔性碳膜上制备高结晶的GaN纳米线的可行性,并研究其场发射特性及机理。采用非贵金属Cu替代贵金属Au作为催化剂,在柔性碳膜上制备了直径为20~100 nm、长度为3~15μm的高结晶的GaN纳米线,并通过工艺参数对其结构与尺寸进行调控,得到GaN纳米线薄膜的催化生长机制。通过对其场发射特性进行研究,发现其场发射性能与其纳米结构紧密相关,催化剂厚度以及薄膜弯曲状态可显著影响其场发射性能。结果表明,采用Cu作为催化剂所制备的GaN纳米线柔性薄膜的场发射电流具有较好的稳定性。该研究为GaN纳米线的低成本制备方法提供了可借鉴思路,同时也为场发射柔性器件的制作提供了可行的技术手段。 展开更多
关键词 氮化镓(gan) 纳米线 场发射 柔性薄膜 CU催化剂 低成本制备
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基于GaN纳米薄膜的室温三甲胺气体传感器
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作者 李荣超 菅傲群 +2 位作者 袁仲云 杨琨 禚凯 《电子元件与材料》 CAS 北大核心 2024年第4期395-401,410,共8页
三甲胺在实验室和工业生产中被广泛使用,由于其具有毒性和挥发性,开发能够在室温下对其进行检测的传感器尤为重要。采用气喷旋涂和高温氮化的方法制备出GaN纳米薄膜,再利用磁控溅射仪对薄膜的两端溅射覆盖一层金作为电极制作成气体传感... 三甲胺在实验室和工业生产中被广泛使用,由于其具有毒性和挥发性,开发能够在室温下对其进行检测的传感器尤为重要。采用气喷旋涂和高温氮化的方法制备出GaN纳米薄膜,再利用磁控溅射仪对薄膜的两端溅射覆盖一层金作为电极制作成气体传感器单元并进行了一系列气敏测试。在室温条件下,GaN纳米薄膜传感器对10ppm三甲胺的响应值为2.54,响应/恢复时间分别为41 s和139 s,检测下限为1ppm。传感器在1ppm~50ppm三甲胺浓度范围内也呈现出良好的线性响应,并具有优异的重复性、稳定性和选择性。GaN纳米薄膜传感器的表面堆积覆盖有许多的纳米颗粒,形成的独特结构有利于气体分子的吸附。纳米薄膜表面存在大量的化学吸附氧,使得传感器对三甲胺展现出良好的传感性能。 展开更多
关键词 gan 三甲胺 纳米薄膜 气体传感器 室温
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GaN衬底上ZnS纳米薄膜的结构、光学和电学特性
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作者 王彩凤 邢震岳 《山东航空学院学报》 2024年第4期55-59,共5页
采用脉冲激光沉积技术在GaN衬底上制备了ZnS纳米薄膜。通过XRD和SEM对薄膜结晶情况和截面结构进行了表征,并测量了ZnS纳米薄膜的透射光谱和ZnS/GaN异质结的Ⅰ-Ⅴ特性曲线。ZnS纳米薄膜在可见光区的透过率较高,平均透过率在80%以上,经过... 采用脉冲激光沉积技术在GaN衬底上制备了ZnS纳米薄膜。通过XRD和SEM对薄膜结晶情况和截面结构进行了表征,并测量了ZnS纳米薄膜的透射光谱和ZnS/GaN异质结的Ⅰ-Ⅴ特性曲线。ZnS纳米薄膜在可见光区的透过率较高,平均透过率在80%以上,经过退火处理,透过率增大。Ⅰ-Ⅴ特性曲线表明,ZnS/GaN形成了异质结,具有和普通二极管相似的整流特性。在正向偏压下电流随着电压的增加而增大。退火处理后异质结的导通电压减小。这些特性表明,ZnS纳米薄膜在无人机载传感器和航空电子系统中的光电二极管、光电探测器、光伏电池等领域有着潜在的应用价值。 展开更多
关键词 ZnS纳米薄膜 gan衬底 脉冲激光沉积 透射光谱 Ⅰ-Ⅴ特性曲线
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Si基氨化ZnO/Ga_2O_3薄膜制备GaN纳米线 被引量:3
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作者 高海永 庄惠照 +5 位作者 薛成山 王书运 何建廷 董志华 吴玉新 田德恒 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期931-935,共5页
利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上溅射ZnO中间层和Ga2O3 薄膜,然后在管式炉中常压下通氨气对ZnO/Ga2O3 薄膜进行氨化,高温下ZnO层在氨气气氛中挥发,而Ga2O3 薄膜和氨气反应合成出GaN纳米线.X射线衍射测量结果表明利用该方法制备的GaN... 利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上溅射ZnO中间层和Ga2O3 薄膜,然后在管式炉中常压下通氨气对ZnO/Ga2O3 薄膜进行氨化,高温下ZnO层在氨气气氛中挥发,而Ga2O3 薄膜和氨气反应合成出GaN纳米线.X射线衍射测量结果表明利用该方法制备的GaN纳米线具有沿c轴方向择优生长的六角纤锌矿结构.利用扫描电子显微镜、透射电子显微镜、傅里叶红外透射谱、能量弥散谱及选区电子衍射观测并分析了样品的形貌、成分和晶格结构.研究发现ZnO层的挥发有利于Ga2O3 和NH3 反应合成GaN纳米线. 展开更多
关键词 gan纳米线 ZnO/Ga2O3薄膜 射频磁控溅射 氨化
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氮化ZnO/Ga_2O_3薄膜合成GaN纳米管
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作者 庄惠照 高海永 +3 位作者 薛成山 王书运 何建廷 董志华 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期121-123,共3页
利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO中间层,接着溅射Ga2O3薄膜,然后ZnO/Ga2O3薄膜在管式炉中常压下通氨气进行氮化,高温下ZnO层在氨气的气氛中挥发,而Ga2O3薄膜和氨气反应合成出GaN纳米管.X射线衍射(XRD)测量结果表明利用该方... 利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO中间层,接着溅射Ga2O3薄膜,然后ZnO/Ga2O3薄膜在管式炉中常压下通氨气进行氮化,高温下ZnO层在氨气的气氛中挥发,而Ga2O3薄膜和氨气反应合成出GaN纳米管.X射线衍射(XRD)测量结果表明利用该方法制备的GaN具有沿c轴方向择优生长的六角纤锌矿结构.利用傅里叶红外光谱(FTIR)研究了所制备样品的光学性质.利用透射电子显微镜(TEM)和选区电子衍射(SAED)观测了样品的形貌和晶格结构. 展开更多
关键词 gan纳米 ZnO/Ga2O3薄膜 射频磁控溅射 氮化
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纳米硅镶嵌薄膜的光学性质及对1342nm激光的被动调Q
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作者 翟云 王加贤 王燕飞 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期10-11,共2页
采用射频磁控溅射技术和热退火处理制备了石英衬底的纳米Si镶嵌SiNx(nc-Si/SiNx)薄膜。通过对薄膜的小角度X射线衍射和吸收光谱测试,确定了硅晶粒尺寸和光学带隙。采用Z-扫描技术研究了薄膜的三阶非线性光学特性,结果表明薄膜的非线性... 采用射频磁控溅射技术和热退火处理制备了石英衬底的纳米Si镶嵌SiNx(nc-Si/SiNx)薄膜。通过对薄膜的小角度X射线衍射和吸收光谱测试,确定了硅晶粒尺寸和光学带隙。采用Z-扫描技术研究了薄膜的三阶非线性光学特性,结果表明薄膜的非线性吸收属于双光子吸收。把nc-Si/SiNx薄膜作为可饱和吸收体插入LD抽运的Nd:YVO4激光器中,实现了1342nm激光的被动调Q,获得51 ns的激光脉冲。理论分析和实验结果表明,由于纳米Si的光学带隙大于1342nm光子能量,所以双光子饱和吸收导致了1342nm激光的被动调Q。 展开更多
关键词 激光技术 纳米薄膜 1342nm激光 被动调Q 双光子吸收
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多孔GaN薄膜的制备与光学性能研究 被引量:1
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作者 詹廷吾 贾伟 +3 位作者 董海亮 李天保 贾志刚 许并社 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第9期1599-1608,共10页
将表面沉积有金纳米颗粒的GaN薄膜在H 2与N 2的混合气氛下进行高温退火,成功制备了多孔GaN薄膜。多孔GaN薄膜的表面形貌可通过退火温度、退火时间及金沉积时间等参数进行调控。利用高分辨X射线衍射(HRXRD)和拉曼光谱表征了不同GaN结构... 将表面沉积有金纳米颗粒的GaN薄膜在H 2与N 2的混合气氛下进行高温退火,成功制备了多孔GaN薄膜。多孔GaN薄膜的表面形貌可通过退火温度、退火时间及金沉积时间等参数进行调控。利用高分辨X射线衍射(HRXRD)和拉曼光谱表征了不同GaN结构的晶体质量,与平面GaN薄膜相比,多孔GaN薄膜的位错密度和残余应力均有所降低,在退火温度为1000℃时其位错密度最小,应力的释放程度较大。采用光致发光(PL)光谱表征了其光学性质,与平面GaN薄膜相比,多孔GaN薄膜的发光强度显著提高,这可归因于多孔结构的孔隙率增大,有效增加了光的散射能力。此外,通过电化学工作站测试了不同GaN结构的光电流密度,结果表明,具有更大比表面积的多孔GaN薄膜在作为工作电极时,光电流密度是平面GaN薄膜的2.67倍。本文通过高温刻蚀手段成功制备了多孔GaN薄膜,为GaN外延层晶体质量与光学性能的提升及在光电催化等领域中的应用提供了一定的理论指导。 展开更多
关键词 多孔gan薄膜 氢气氛 高温退火 纳米颗粒 催化剂 光学性能 光电流密度
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n型纳米薄膜表面GaN/AlGaN光电阴极的电子发射特性
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作者 郝广辉 李泽鹏 《真空电子技术》 2020年第3期46-50,59,共6页
为了研究GaN/AlGaN光电阴极表面的掺杂类型对阴极电子发射特性的影响,分别设计p型、p-i-n型和p-n型纳米薄膜表面的GaN/AlGaN光电阴极材料,并使用金属有机化学气相沉积外延(MOCVD)技术进行生长。使用Cs/O交替的方式对GaN/AlGaN光电阴极... 为了研究GaN/AlGaN光电阴极表面的掺杂类型对阴极电子发射特性的影响,分别设计p型、p-i-n型和p-n型纳米薄膜表面的GaN/AlGaN光电阴极材料,并使用金属有机化学气相沉积外延(MOCVD)技术进行生长。使用Cs/O交替的方式对GaN/AlGaN光电阴极进行激活,并测试了三种光电阴极的光谱响应特性,结果显示整个波段内p型GaN/AlGaN光电阴极的电子发射性能最低,在光波长240~285 nm波段p-n型GaN/AlGaN光电阴极拥有最高的光谱响应值,而在光波长285~365 nm波段p-i-n型GaN/AlGaN光电阴极拥有最高的光谱响应值。由于p-i-n型GaN/AlGaN光电阴极中本征型GaN薄膜层具有较高的电阻率,所以一定程度上降低了电子向阴极表面方向的输运,影响了GaN/AlGaN光电阴极的短波响应特性。仿真结果显示虽然p-n型GaN/AlGaN光电阴极没有较高的表面电子逸出几率,但是其内建电场对电子向阴极表面输运的促进作用可补偿由于表面电子逸出几率降低而对阴极电子发射特性的影响。 展开更多
关键词 gan/Algan光电阴极 n型纳米薄膜 光谱响应 电子源
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氨化合成一维GaN纳米线 被引量:2
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作者 王显明 杨利 +1 位作者 王翠梅 薛成山 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期670-672,共3页
用氨化溅射Ga2O3薄膜的方法,成功地合成了一维GaN纳米线。用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和高分辨电镜(HRTEM)对样品进行了分析。生成的GaN纳米线平直光滑,其直径为20 nm^90 nm,长可达50 祄;纳米线为高质量的单晶六... 用氨化溅射Ga2O3薄膜的方法,成功地合成了一维GaN纳米线。用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和高分辨电镜(HRTEM)对样品进行了分析。生成的GaN纳米线平直光滑,其直径为20 nm^90 nm,长可达50 祄;纳米线为高质量的单晶六方纤锌矿GaN,沿[110]方向生长。用此工艺制备GaN纳米线,避免了在制备过程中引入杂质,合成的纳米线纯度较高。 展开更多
关键词 氨化 Ga2O3薄膜 gan纳米线 射频磁控溅射
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氨化反应自组装GaN纳米线 被引量:1
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作者 王显明 杨利 +1 位作者 王翠梅 薛成山 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期684-687,共4页
通过氨化射频溅射工艺生长的纳米Ga2 O3薄膜 ,在石英衬底上反应自组装生成了高质量的GaN纳米线。用X射线衍射 (XRD)、透射电镜 (TEM)和高分辨电镜 (HRTEM)对样品的组分、形貌和结构进行了分析。生成的GaN纳米线平直光滑 ,其直径为 2 0~... 通过氨化射频溅射工艺生长的纳米Ga2 O3薄膜 ,在石英衬底上反应自组装生成了高质量的GaN纳米线。用X射线衍射 (XRD)、透射电镜 (TEM)和高分辨电镜 (HRTEM)对样品的组分、形貌和结构进行了分析。生成的GaN纳米线平直光滑 ,其直径为 2 0~ 12 0nm ,长可达 5 0 μm;纳米线为高质量的单晶六方纤锌矿GaN ,沿 [110 ]方向生长。用此工艺制备GaN纳米线 ,简单新颖 。 展开更多
关键词 纳米Ga2O3薄膜 gan纳米线 射频磁控溅射 氨化
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RF磁控溅射和氨化法制备GaN纳米棒和纳米颗粒
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作者 胡丽君 庄惠照 +3 位作者 高海永 何建廷 薛守斌 薛成山 《微纳电子技术》 CAS 2005年第9期411-414,419,共5页
利用射频磁控溅射法分别溅射ZnO中间层和Ga2O3薄膜到Si(111)衬底上,然后ZnO/Ga2O3薄膜在管式石英炉中常压下通氨气进行氨化,高温下ZnO在氨气气氛中被还原生成Zn而升华,而在不同的氨化时间下Ga2O3和氨气反应合成出GaN纳米棒和纳米颗粒。... 利用射频磁控溅射法分别溅射ZnO中间层和Ga2O3薄膜到Si(111)衬底上,然后ZnO/Ga2O3薄膜在管式石英炉中常压下通氨气进行氨化,高温下ZnO在氨气气氛中被还原生成Zn而升华,而在不同的氨化时间下Ga2O3和氨气反应合成出GaN纳米棒和纳米颗粒。X射线衍射(XRD)测量结果表明,利用该方法制备GaN纳米棒和颗粒具有沿c轴择优取向生长的六方纤锌矿结构。利用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、傅里叶红外透射谱(FTIR)及选区电子衍射(SAED)观测和分析了样品的形貌、成分和晶格结构。研究分析了此种方法合成GaN纳米结构的反应机制。 展开更多
关键词 gan纳米棒和纳米颗粒 ZnO/Ga2O3薄膜 射频磁控溅射 氨化
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基于银纳米薄膜欧姆接触的高波长选择性紫外探测器研究 被引量:3
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作者 梁志斌 张齐轩 +4 位作者 许朝军 周玉刚 陆海 张荣 郑有炓 《半导体光电》 CAS 北大核心 2020年第1期64-67,共4页
常规的半导体紫外探测器波长响应范围宽,而紫外光的应用具有较强的波长选择性,如320nm波段的紫外光在医学方面有重要的应用,因此,具有高波长选择性的紫外探测器的研制有重要意义。文章采用GaN基p-i-n探测器结构,通过在p区覆盖银纳米薄... 常规的半导体紫外探测器波长响应范围宽,而紫外光的应用具有较强的波长选择性,如320nm波段的紫外光在医学方面有重要的应用,因此,具有高波长选择性的紫外探测器的研制有重要意义。文章采用GaN基p-i-n探测器结构,通过在p区覆盖银纳米薄膜作为欧姆接触层和波长选择透射层,成功制备了对320nm波段紫外光高选择性探测的紫外探测器,器件性能如下:70nm银层的紫外光透射率峰值超过30%,器件在-5V偏压下的暗电流为10-12 A量级,响应峰值为0.06A/W,响应峰发生在325nm处,光谱响应峰半高宽约30nm。 展开更多
关键词 p-i-n紫外探测器 gan 纳米薄膜 波长选择性
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纳米Si/SiN_x超晶格实现Nd∶YVO_4激光被动调Q
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作者 王燕飞 王加贤 +2 位作者 张培 杨先才 沈海波 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期88-91,共4页
采用射频磁控反应溅射法和热退火处理制备了纳米Si/SiNx超晶格薄膜材料。把薄膜作为可饱和吸收体插入激光二极管泵浦的平凹腔Nd∶YVO4激光器内,实现了1 342 nm激光的被动调Q运转,获得脉冲宽度约20 ns、重复频率33.3 kHz的调Q脉冲序列输... 采用射频磁控反应溅射法和热退火处理制备了纳米Si/SiNx超晶格薄膜材料。把薄膜作为可饱和吸收体插入激光二极管泵浦的平凹腔Nd∶YVO4激光器内,实现了1 342 nm激光的被动调Q运转,获得脉冲宽度约20 ns、重复频率33.3 kHz的调Q脉冲序列输出。分析了纳米Si/SiNx薄膜可饱和吸收的产生机制,认为双光子吸收是产生1 342 nm激光被动调Q的主要原因。对纳米Si/SiNx薄膜材料调Q激光器的速率方程组进行了数值求解,得到的调Q脉冲时间宽度的理论值和实验结果基本相符。 展开更多
关键词 激光技术 纳米Si/SiN 超晶格薄膜 被动调Q 1 342 nm激光 双光子吸收
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图形化ZnO纳米杆的生长与表征
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作者 田玉 涂亚芳 +2 位作者 朱小龙 陈明月 王强 《江汉大学学报(自然科学版)》 2014年第3期52-56,共5页
为了得到具有较好紫外发射特性的ZnO纳米杆阵列,以氢气腐蚀过的GaN薄膜为衬底,在较低的温度(105°C)下采用水浴法制备图形化ZnO纳米杆阵列。对制备的样品进行结构和形貌表征,并通过对比实验研究氢气腐蚀处理的影响。结果表明,氢气... 为了得到具有较好紫外发射特性的ZnO纳米杆阵列,以氢气腐蚀过的GaN薄膜为衬底,在较低的温度(105°C)下采用水浴法制备图形化ZnO纳米杆阵列。对制备的样品进行结构和形貌表征,并通过对比实验研究氢气腐蚀处理的影响。结果表明,氢气腐蚀过的GaN薄膜衬底,有利于形成致密、均匀、定向排列的ZnO六边形图案,符合螺旋位错驱使的生长机制。 展开更多
关键词 ZnO纳米 gan薄膜 六边形
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基于硝酸钾溶液的GaN电化学刻蚀技术 被引量:3
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作者 李昂 王伟凡 +2 位作者 周桃飞 王建峰 徐科 《半导体技术》 CAS 北大核心 2019年第10期778-782,812,共6页
采用基于硝酸钾溶液的电化学刻蚀工艺,通过横向刻蚀牺牲层的方法,在金属有机化学气相沉积法生长的氮化镓(GaN)外延层上实现了纳米孔与纳米薄膜两种结构。通过扫描电子显微镜(SEM)对GaN的表面和截面进行了对比表征。结果表明,由于在刻蚀... 采用基于硝酸钾溶液的电化学刻蚀工艺,通过横向刻蚀牺牲层的方法,在金属有机化学气相沉积法生长的氮化镓(GaN)外延层上实现了纳米孔与纳米薄膜两种结构。通过扫描电子显微镜(SEM)对GaN的表面和截面进行了对比表征。结果表明,由于在刻蚀过程中氧气的产生,相比于稳定性很好的SiO2,易于氧化剥落的光刻胶在大电压刻蚀下存在着明显的缺陷;在刻蚀电压为12~22 V时牺牲层可以被刻蚀出纳米孔结构,且随着电压的增加刻蚀孔也会增大;在刻蚀电压为23 V及以上电压时牺牲层被完全去除;刻蚀过程中刻蚀速率逐渐降低,100μm的纳米薄膜可在270 s时制作完成。 展开更多
关键词 电化学刻蚀 硝酸钾 gan纳米 横向刻蚀 gan纳米薄膜(nms)
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溅射制备纳米晶GaN∶Er薄膜的室温发光特性 被引量:5
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作者 潘孝军 张振兴 +2 位作者 王涛 李晖 谢二庆 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期3786-3790,共5页
利用直流磁控共溅射方法制备了GaN:Er薄膜.X射线衍射结果显示薄膜为纳米多晶结构,根据谢乐公式,计算得到了GaN薄膜晶粒的平均大小为5·8nm;透射电子显微镜结果显示为非晶基质中镶嵌了GaN纳米颗粒,尺寸在6—8nm之间;紫外可见谱结果... 利用直流磁控共溅射方法制备了GaN:Er薄膜.X射线衍射结果显示薄膜为纳米多晶结构,根据谢乐公式,计算得到了GaN薄膜晶粒的平均大小为5·8nm;透射电子显微镜结果显示为非晶基质中镶嵌了GaN纳米颗粒,尺寸在6—8nm之间;紫外可见谱结果表明在500—700nm的可见光范围内,薄膜的平均透过率大于80%,在紫外可见谱基础上,利用Tauc公式计算得到了纳米晶GaN薄膜的光学带隙为3·22eV;最后,测量了GaN:Er薄膜的室温光致发光谱,获得了Er3+离子在554nm处的强烈绿光发射. 展开更多
关键词 纳米gan薄膜 Er3+掺杂 光学带隙 光致发光
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不同基底的GaN纳米薄膜制备及其场发射增强研究 被引量:5
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作者 陈程程 刘立英 +3 位作者 王如志 宋雪梅 王波 严辉 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第17期455-461,共7页
采用脉冲激光沉积(PLD)方法在Si及SiC基底上制备了相同厚度的GaN纳米薄膜并对其进行了微结构表征及场发射性能测试分析.结果表明:基底对于GaN薄膜微结构及场发射性能具有显著的影响.在SiC基底上所制备的GaN纳米薄膜相对于Si基底上的GaN... 采用脉冲激光沉积(PLD)方法在Si及SiC基底上制备了相同厚度的GaN纳米薄膜并对其进行了微结构表征及场发射性能测试分析.结果表明:基底对于GaN薄膜微结构及场发射性能具有显著的影响.在SiC基底上所制备的GaN纳米薄膜相对于Si基底上的GaN纳米薄膜,其场发射性能得到显著提升,其场发射电流可以数量级增大.场发射显著增强应源于纳米晶微结构及取向极化诱导增强效应.本研究结果表明,要获得优异性能场发射薄膜,合适基底及薄膜晶体微结构需要重点考虑. 展开更多
关键词 基底 gan 纳米薄膜 场发射
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单束、多束飞秒激光在CdS,SiC和GaN表面诱导一维和二维纳米周期结构 被引量:1
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作者 贾鑫 贾天卿 +2 位作者 孙真荣 王祖赓 徐至展 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第15期1763-1767,共5页
报道了单光束、双光束和三光束飞秒激光在CdS,GaN,SiC样品上诱导形成周期远小于激光波长的纳米周期结构.研究表明,其形成机制不同于入射光与表面散射光干涉的经典机制,二次谐波的产生可能在其中起着重要作用;双光束激光干涉在SiC晶体表... 报道了单光束、双光束和三光束飞秒激光在CdS,GaN,SiC样品上诱导形成周期远小于激光波长的纳米周期结构.研究表明,其形成机制不同于入射光与表面散射光干涉的经典机制,二次谐波的产生可能在其中起着重要作用;双光束激光干涉在SiC晶体表面诱导形成二维微米-纳米复合周期结构,干涉花样决定微米长周期结构,长周期结构的烧蚀斑上形成了短周期的自组织纳米结构.在上述研究基础上,初步探索三光束干涉形成二维、三维微米-纳米复合周期结构. 展开更多
关键词 纳米周期结构 飞秒激光 多光束干涉 SIC晶体 CdS晶体 gan薄膜
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简讯
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《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期60-60,共1页
2017年3月28日,美国阿贡国家实验室材料科学部徐东伟博士后研究员来我校与先进材料与纳米科技学院开展学术交流,并作了题为“利用蒙特卡罗方法研究GaN薄膜的生长”的学术报告.徐东伟博士介绍了利用动力学的蒙特卡洛模拟法从原子层面... 2017年3月28日,美国阿贡国家实验室材料科学部徐东伟博士后研究员来我校与先进材料与纳米科技学院开展学术交流,并作了题为“利用蒙特卡罗方法研究GaN薄膜的生长”的学术报告.徐东伟博士介绍了利用动力学的蒙特卡洛模拟法从原子层面探索c面和m面GaN生长的研究,在原子层面的晶体生长研究中,晶体表面生长方向和结构的探索对基于GaN的LED和其他高能电子器件技术的开发具有重要意义,并介绍了利用动力学蒙特卡洛模拟对晶体表面同质外延生长机理的研究. 展开更多
关键词 蒙特卡洛模拟法 gan薄膜 蒙特卡罗方法 晶体生长 晶体表面 国家实验室 学术交流 纳米科技
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Fabrication and photoluminescence of GaN nanowires prepared by ammoniating GaeO3/BN films on Si substrate 被引量:2
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作者 XUE Chengshan WU Yuxin ZHUANG Huizhao TIAN Deheng LIU Yi'an HE Jianting AI Yujie SUN Lili WANG Fuxue 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2006年第14期1662-1665,共4页
GaN nanowires were successfully pre-pared on Si(111) substrate through ammoniating Ga2O3/BN films deposited by radio frequency mag-netron sputtering system. The synthesized nanowires were confirmed as hexagonal wurtzi... GaN nanowires were successfully pre-pared on Si(111) substrate through ammoniating Ga2O3/BN films deposited by radio frequency mag-netron sputtering system. The synthesized nanowires were confirmed as hexagonal wurtzite GaN by X-ray diffraction, selected-area electron diffraction and Fourier transform infrared spectra. Scanning electron microscopy and transmission electron microscopy revealed that the grown GaN nanowires have a smooth and clean surface with diameters ranging from 40 to 160 nm and lengths typically up to several tens of micrometers. The representative photolumi-nescence spectrum at room temperature exhibited a strong UV light emission band centered at 363 nm and a relative weak purple light emission peak at 422 nm. The growth mechanism is discussed briefly. 展开更多
关键词 磁控溅射 gan纳米线 光致发光 GaeO3/BN薄膜 Si
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