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高频驱动GaN-LED的频率响应特性研究
1
作者
郑俊杰
郭家玮
+2 位作者
李文豪
吴朝兴
郭太良
《电子元件与材料》
CAS
北大核心
2023年第1期57-62,共6页
高刷新率显示器对氮化镓基发光二极管(GaN-LED)驱动频率提出更高的要求,因此研究GaN-LED的频率响应特性具有重要意义。研究了方波交流电压驱动下GaN-LED发光强度的频率响应特性。结果表明,LED的发光强度波形与电压波形存在固定的迟滞时...
高刷新率显示器对氮化镓基发光二极管(GaN-LED)驱动频率提出更高的要求,因此研究GaN-LED的频率响应特性具有重要意义。研究了方波交流电压驱动下GaN-LED发光强度的频率响应特性。结果表明,LED的发光强度波形与电压波形存在固定的迟滞时间(约27 ns),且该迟滞时间不随驱动频率改变。在所施加的交流驱动频率范围内(100 kHz~50 MHz),发光强度呈现四个不同的区域:即随着频率的升高,LED发光强度先保持稳定,随后下降,再次上升,最后衰减直至停止工作。文中阐述了形成四个区域的原因。该研究有望为基于LED的超高帧速率显示器件驱动设计提供依据。
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关键词
gan-l
ED
频率响应特性
发光强度
载流子迁移
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职称材料
石墨烯在GaN表面的直接制备及其在GaN-LED中的应用研究
2
作者
樊星
郭伟玲
+4 位作者
熊访竹
董毅博
王乐
符亚菲
孙捷
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第3期3085-3089,共5页
石墨烯具有优良的光电特性,它能够替代传统的ITO材料用作GaN-LED的透明导电层。为了使上述应用实现工业化生产,利用热壁CVD研究了石墨烯在GaN表面直接生长的最佳条件,解释了直接生长的机理,直接生长的最佳条件为生长温度800℃,生长时间6...
石墨烯具有优良的光电特性,它能够替代传统的ITO材料用作GaN-LED的透明导电层。为了使上述应用实现工业化生产,利用热壁CVD研究了石墨烯在GaN表面直接生长的最佳条件,解释了直接生长的机理,直接生长的最佳条件为生长温度800℃,生长时间60 min,CH_4和H_2的分压比分别为1.59%和3.17%,该条件下得到具有明显2D峰的多层石墨烯。利用冷壁CVD研究了石墨烯在GaN表面的低温生长并制造了相应的GaN-LED,测试了其性能,结果表明生长温度高于700℃时器件的性能明显降低。该研究对实现石墨烯在LED中的工业化应用具有积极意义。
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关键词
石墨烯
化学气相沉积
直接生长
gan-l
ED
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职称材料
题名
高频驱动GaN-LED的频率响应特性研究
1
作者
郑俊杰
郭家玮
李文豪
吴朝兴
郭太良
机构
福州大学物理与信息工程学院
中国福建光电信息科学与技术创新实验室(闽都创新实验室)
出处
《电子元件与材料》
CAS
北大核心
2023年第1期57-62,共6页
基金
国家重点研发计划(2021YFB3600404)。
文摘
高刷新率显示器对氮化镓基发光二极管(GaN-LED)驱动频率提出更高的要求,因此研究GaN-LED的频率响应特性具有重要意义。研究了方波交流电压驱动下GaN-LED发光强度的频率响应特性。结果表明,LED的发光强度波形与电压波形存在固定的迟滞时间(约27 ns),且该迟滞时间不随驱动频率改变。在所施加的交流驱动频率范围内(100 kHz~50 MHz),发光强度呈现四个不同的区域:即随着频率的升高,LED发光强度先保持稳定,随后下降,再次上升,最后衰减直至停止工作。文中阐述了形成四个区域的原因。该研究有望为基于LED的超高帧速率显示器件驱动设计提供依据。
关键词
gan-l
ED
频率响应特性
发光强度
载流子迁移
Keywords
gan-l
ED
frequency response characteristic
luminous intensity
charge carrier migration
分类号
TN29 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
石墨烯在GaN表面的直接制备及其在GaN-LED中的应用研究
2
作者
樊星
郭伟玲
熊访竹
董毅博
王乐
符亚菲
孙捷
机构
北京工业大学光电子技术省部共建教育部重点实验室
福州大学场致发射国家地方联合工程实验室
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第3期3085-3089,共5页
基金
国家科技重大专项资助项目(2017YFB0403100
2017YFB0403102)
国家自然科学基金资助项目(11674016)
文摘
石墨烯具有优良的光电特性,它能够替代传统的ITO材料用作GaN-LED的透明导电层。为了使上述应用实现工业化生产,利用热壁CVD研究了石墨烯在GaN表面直接生长的最佳条件,解释了直接生长的机理,直接生长的最佳条件为生长温度800℃,生长时间60 min,CH_4和H_2的分压比分别为1.59%和3.17%,该条件下得到具有明显2D峰的多层石墨烯。利用冷壁CVD研究了石墨烯在GaN表面的低温生长并制造了相应的GaN-LED,测试了其性能,结果表明生长温度高于700℃时器件的性能明显降低。该研究对实现石墨烯在LED中的工业化应用具有积极意义。
关键词
石墨烯
化学气相沉积
直接生长
gan-l
ED
Keywords
graphene
chemical vapor deposition
direct growth
gan-l
ED
分类号
TQ127.11 [化学工程—无机化工]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高频驱动GaN-LED的频率响应特性研究
郑俊杰
郭家玮
李文豪
吴朝兴
郭太良
《电子元件与材料》
CAS
北大核心
2023
0
下载PDF
职称材料
2
石墨烯在GaN表面的直接制备及其在GaN-LED中的应用研究
樊星
郭伟玲
熊访竹
董毅博
王乐
符亚菲
孙捷
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019
0
下载PDF
职称材料
已选择
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