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p-Si/n-Ga_(2)O_(3)异质结制备与特性研究
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作者 陈沛然 焦腾 +6 位作者 陈威 党新明 刁肇悌 李政达 韩宇 于含 董鑫 《人工晶体学报》 北大核心 2024年第1期73-81,共9页
本实验采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺,在p(111)型Si衬底上制备了p-Si/n-Ga_(2)O_(3)结构的PN结。通过X射线衍射仪、原子力显微镜等对样品进行了晶体结构、表面形貌、表面粗糙度等的表征分析;通过磁控溅射与蒸镀方法在样品上生长T... 本实验采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺,在p(111)型Si衬底上制备了p-Si/n-Ga_(2)O_(3)结构的PN结。通过X射线衍射仪、原子力显微镜等对样品进行了晶体结构、表面形貌、表面粗糙度等的表征分析;通过磁控溅射与蒸镀方法在样品上生长Ti/Au电极并进行I-V特性曲线、开启电压、开关电流比、反向饱和电流、理想因子、零偏压下的势垒高度等结特性测试,研究了掺杂浓度与薄膜厚度对PN结特性的影响,并对其原因进行了分析;通过二步生长法和缓冲层温度优化实验,减少了Si衬底与β-Ga_(2)O_(3)之间的晶格失配与热失配带来的影响,对薄膜与器件特性进行了优化。最终获得了表面粗糙度最低可达到4.21 nm的高质量n型β-Ga_(2)O_(3)薄膜,以及具有较低理想因子(42.1)的PN结。 展开更多
关键词 β-ga_(2)O_(3)薄膜 金属有机化学气相沉积 p-Si/n-ga_(2)O_(3) PN结 晶体质量 电学特性
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切削液对金刚石线锯切割β-Ga_(2)O_(3)晶片表面质量的影响
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作者 王晓龙 高鹏程 +2 位作者 檀柏梅 杜浩毓 王方圆 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2024年第3期133-142,共10页
为了开发出更适合β-Ga_(2)O_(3)晶片切片的切削液,探讨金刚石线锯切片过程中不同切削液对β-Ga_(2)O_(3)晶片表面质量的影响,通过测量接触角和表面张力,研究不同切削液对β-Ga_(2)O_(3)晶片表面的润湿性。采用粗糙度测量仪、非接触式... 为了开发出更适合β-Ga_(2)O_(3)晶片切片的切削液,探讨金刚石线锯切片过程中不同切削液对β-Ga_(2)O_(3)晶片表面质量的影响,通过测量接触角和表面张力,研究不同切削液对β-Ga_(2)O_(3)晶片表面的润湿性。采用粗糙度测量仪、非接触式测厚仪和扫描电镜(SEM)对晶片表面进行测试表征,研究去离子水、添加AEO-9的水基切削液和乳化切削液在不同工艺参数下对切割(010)面β-Ga_(2)O_(3)晶片的表面粗糙度、表面形貌、总厚度变化以及亚表面损伤层深度的影响。结果表明:与去离子水相比,添加AEO-9的水基切削液和乳化切削液均能有效降低β-Ga_(2)O_(3)表面的接触角和表面张力,表明2种切削液均可提高晶片表面润滑性;乳化切削液的效果随着工艺参数的变化而波动很大,只有在低切削热和大切削力的条件下,才能明显优化晶圆表面质量,而水基切削液可稳定地获得较高的晶片表面质量,更适用于β-Ga_(2)O_(3)晶片切割。 展开更多
关键词 β-ga_(2)O_(3)单晶 线锯切割 切削液 润滑能力 表面质量
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Ga_2Se_3:Co^(2+)光谱及Co-Se键长的研究 被引量:1
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作者 倪超 杜懋陆 +1 位作者 黄毅 张俊 《西南民族大学学报(自然科学版)》 CAS 2003年第4期431-433,共3页
Ga_2Se_3是典型的A_2~ⅢB_3~Ⅵ型半导体材料、它在光电方面有很大的应用潜力而被广泛关注。采用Sugano-Tanabe强场近似理论,并引入平均共价因子N,利用经典的晶场能量矩阵公式,运用完全对角化方法,拟合了Ga_2Se_3:Co^(2+)晶体的吸收光谱... Ga_2Se_3是典型的A_2~ⅢB_3~Ⅵ型半导体材料、它在光电方面有很大的应用潜力而被广泛关注。采用Sugano-Tanabe强场近似理论,并引入平均共价因子N,利用经典的晶场能量矩阵公式,运用完全对角化方法,拟合了Ga_2Se_3:Co^(2+)晶体的吸收光谱,得到了与实验符合甚好的理论值,从而解释了Ga_2Se_3:Co^(2+)晶体的吸收光谱。同时研究了立方场下配体键长R与晶场参量Dq的变化关系,并从理论上计算了Co-Se键长。结果表明Co离子取代Ga_2Se_3中的Ga离子后,Co-Se键长比Ga-Se键长缩小0.1A。 展开更多
关键词 Co-se键长 硒化镓 Co^2+晶体 晶场能级 平均共价因子 点荷模型 半导体材料
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Ga_2Se_3:Co^(2+)晶体吸收光谱的研究
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作者 倪超 杜懋陆 黄毅 《内江师范学院学报》 2005年第2期25-27,共3页
Ga2Se3是重要的半导体材料,它在光电方面有很大的应用潜力而被广泛研究。本文引入平均共价因子,考虑静电相互作用,立方晶场和旋轨耦合相互作用,利用完全对角化方法对Ga2Se3:Co2+晶体的吸收光谱的精细结构进行了重新计算和识别。结果表明... Ga2Se3是重要的半导体材料,它在光电方面有很大的应用潜力而被广泛研究。本文引入平均共价因子,考虑静电相互作用,立方晶场和旋轨耦合相互作用,利用完全对角化方法对Ga2Se3:Co2+晶体的吸收光谱的精细结构进行了重新计算和识别。结果表明,理论与实验相符,并纠正了Yoon等对此晶体的吸收光谱及其精细结构识别的错误部分。 展开更多
关键词 ga2se3:Co^2+ 晶体 晶场能级 平均共价因子 吸收光谱
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磁控溅射氧氩体积流量比对β-Ga_(2)O_(3)薄膜的影响
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作者 杨赉 杨发顺 +1 位作者 熊倩 马奎 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2023年第3期448-453,共6页
利用射频磁控溅射在c面单晶蓝宝石(Al_(2)O_(3))衬底上制备Ga_(2)O_(3)薄膜,研究了溅射过程中通入氧气与氩气的体积流量比对经过异位高温后退火处理得到的β-Ga_(2)O_(3)薄膜特性的影响。利用X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)对薄... 利用射频磁控溅射在c面单晶蓝宝石(Al_(2)O_(3))衬底上制备Ga_(2)O_(3)薄膜,研究了溅射过程中通入氧气与氩气的体积流量比对经过异位高温后退火处理得到的β-Ga_(2)O_(3)薄膜特性的影响。利用X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)对薄膜进行表征,结果表明β-Ga_(2)O_(3)薄膜沿着■晶面择优生长,具备较好的单一取向性。在氧氩体积流量比约为1∶20时,薄膜的结晶性能相对较好、表面晶粒分布较均匀、均方根粗糙度较小、晶粒尺寸较大。此外,吸收光谱表征结果表明,不同氧氩体积流量比下制备得到的β-Ga_(2)O_(3)薄膜的带隙变化范围为4.53~4.64 eV,在较低氧氩体积流量比下制备的β-Ga_(2)O_(3)薄膜表现出较优的光学性质,在波长200~300 nm内具有较好的吸收特性,表现出良好的深紫外光学特性。 展开更多
关键词 β-ga_(2)O_(3) 蓝宝石(Al_(2)O_(3))衬底 射频磁控溅射 氧氩体积流量比 结晶性能 光学特性
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Identification and characterization of single crystal Bi_(2)Te_(3-x)Se_(x) alloy 被引量:1
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作者 Emina POZEGA Svetlana IVANOV +4 位作者 Zoran STEVIC Ljiljana KARANOVIC Rudolf TOMANEC Lidija GOMIDZELOVIC Ana KOSTOV 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第10期3279-3285,共7页
The results of experimental investigation of n-type semiconductor based on Bi2Te3 alloy were presented. This material is used in manufacture of thermoelectric coolers and electrical power generation devices. BizTe2.88... The results of experimental investigation of n-type semiconductor based on Bi2Te3 alloy were presented. This material is used in manufacture of thermoelectric coolers and electrical power generation devices. BizTe2.88Se0.12 solid solution single crystal has been grown using the Czochralski method. Monitoring of structure changes of the sample was carried out by electron microscope. The elemental composition of the studied alloy was obtained by energy dispersive spectrometry (EDS) analysis and empirical formula of the compound was established. X-ray diffraction analysis confirmed that the Bi2Te2.88Se0.12 sample was a single phase with rhombohedral structure. The behavior upon heating was studied using differential thermal analysis (DTA) technique. Changes in physical and chemical properties of materials were measured as a function of increasing temperature by thermogravimetric analysis (TGA). The lattice parameters values obtained by X-ray powder diffraction analyses of Bi2Te2.88Se0.12 are very similar to BizTe3 lattice constants, indicating that a small portion of tellurium is replaced with selenium. The obtained values for specific electrical and thermal conductivities are in correlation with available literature data. The Vickers microhardness values are in range between HV 187 and HV 39.02 and decrease with load increasing. It is shown that very complex process of infrared thermography can be applied for characterization of thermoelectric elements and modules. 展开更多
关键词 Bi_(2)Te_(3) Bi_(2)Te_(3-x)se_(x) single crystal semiconductor thermoelectrical properties hardness thermovision imaging
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不同退火条件对PEALD制备的Ga_(2)O_(3)薄膜特性的影响 被引量:1
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作者 马海鑫 丁广玉 +6 位作者 邢艳辉 韩军 张尧 崔博垚 林文魁 尹浩田 黄兴杰 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2021年第5期838-844,共7页
利用等离子增强原子层沉积技术(PEALD)在c面蓝宝石衬底上制备了氧化镓(Ga_(2)O_(3))薄膜,研究了退火气氛(v(N_(2))∶v(O_(2))=1∶1(体积比)、空气和N_(2))及退火时间对Ga_(2)O_(3)薄膜晶体结构、表面形貌和光学性质的影响。研究结果表明... 利用等离子增强原子层沉积技术(PEALD)在c面蓝宝石衬底上制备了氧化镓(Ga_(2)O_(3))薄膜,研究了退火气氛(v(N_(2))∶v(O_(2))=1∶1(体积比)、空气和N_(2))及退火时间对Ga_(2)O_(3)薄膜晶体结构、表面形貌和光学性质的影响。研究结果表明,退火前的氧化镓处于亚稳态,不同退火气氛下退火后晶体结构发生明显改变,而且退火气氛中N_(2)比例增加有利于Ga_(2)O_(3)重结晶。在N_(2)气氛下退火达到30 min,薄膜结构已由亚稳态转变成择优取向的β-Ga_(2)O_(3)。而且表面形貌分析表明,退火30 min后表面形貌开始趋于稳定,表面晶粒密度不再增加。另外实验样品在400~800 nm的平均透射率几乎是100%,且光吸收边陡峭。采用N_(2)气氛退火,对于富氧环境下沉积的Ga_(2)O_(3)更利于薄膜表面原子迁移,以及择优取向Ga_(2)O_(3)重结晶。 展开更多
关键词 氧化镓 退火条件 等离子增强原子层沉积 晶体结构 表面形貌 光学性质
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磁控溅射工作压强对β-Ga2O_(3)薄膜特性的影响
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作者 段方 胡锐 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2023年第12期2059-2064,共6页
作为新兴的第三代半导体材料,β-Ga_(2)O_(3)高质量薄膜是制备高效Ga_(2)O_(3)基器件的基础,β-Ga_(2)O_(3)薄膜的制备、表征及光电特性的研究具有深刻的意义。通过分析研究磁控溅射工作压强变化对薄膜性能和形貌的影响,为制备更高质量... 作为新兴的第三代半导体材料,β-Ga_(2)O_(3)高质量薄膜是制备高效Ga_(2)O_(3)基器件的基础,β-Ga_(2)O_(3)薄膜的制备、表征及光电特性的研究具有深刻的意义。通过分析研究磁控溅射工作压强变化对薄膜性能和形貌的影响,为制备更高质量的薄膜提供了一种新的方法。基于射频磁控溅射方法,在单晶c面蓝宝石(Al_(2)O_(3))衬底上沉积生长Ga_(2)O_(3)薄膜,并进行900℃、90min的氮气退火处理,以得到β-Ga_(2)O_(3)薄膜。沉积过程不改变其他实验参数,仅改变工作压强,研究工作压强对β-Ga_(2)O_(3)薄膜特性的影响。X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)表征结果显示,β-Ga_(2)O_(3)薄膜具有不同取向的衍射峰,沿着■晶向择优生长,薄膜呈多晶状态。适当增大工作压强可使β-Ga_(2)O_(3)薄膜内氧空位缺陷有效减少,从而提高薄膜结晶质量。但工作压强过高会增大Ar^(+)与靶材镓、氧原子团撞击概率,靶材原子团能量也将消耗,致使薄膜的结晶性能降低、生长速率下降。此外,工作压强对β-Ga_(2)O_(3)薄膜光学吸收特性的影响较大,总体而言,增大工作压强可提高β-Ga_(2)O_(3)薄膜紫外吸收特性。 展开更多
关键词 ga2O_(3) 射频(RF)磁控溅射 工作压强 结晶质量 紫外吸收特性
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生长气压对分子束外延β-Ga_(2)O_(3)薄膜特性的影响 被引量:1
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作者 蔡文为 刘祥炜 +8 位作者 王浩 汪建元 郑力诚 王永嘉 周颖慧 杨旭 李金钗 黄凯 康俊勇 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第7期1152-1157,共6页
本文采用分子束外延技术在具有6°斜切角的c面蓝宝石衬底上外延β-Ga_(2)O_(3)薄膜,系统研究了生长气压对薄膜特性的影响。X射线衍射谱和表面形貌分析表明,不同生长气压下所外延的薄膜表面平整,均具有(201)择优取向。并且,其结晶质... 本文采用分子束外延技术在具有6°斜切角的c面蓝宝石衬底上外延β-Ga_(2)O_(3)薄膜,系统研究了生长气压对薄膜特性的影响。X射线衍射谱和表面形貌分析表明,不同生长气压下所外延的薄膜表面平整,均具有(201)择优取向。并且,其结晶质量和生长速率均随生长气压增大而逐渐提高。通过X射线光电子能谱分析发现,生长气压增大使得氧空位的浓度大幅下降,高价态Ga比例增大,最终使得O/Ga原子数之比接近理想Ga_(2)O_(3)材料的化学计量比值。利用Tauc公式和乌尔巴赫带尾模型进行计算,结果表明随着生长气压的增大,样品的光学带隙由4.94 eV增加到5.00 eV,乌尔巴赫能量由0.47 eV下降到0.32 eV,证明了生长气压的增大有利于降低薄膜中的缺陷密度,提高薄膜晶体质量。 展开更多
关键词 β-ga_(2)O_(3)薄膜 分子束外延 生长气压 缺陷密度 晶体质量 光学特性
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后退火气氛对磁控溅射制备β-Ga_(2)O_(3)薄膜材料的影响 被引量:3
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作者 姬凯迪 高灿灿 +2 位作者 杨发顺 熊倩 马奎 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2021年第6期1056-1061,共6页
近年来,宽禁带半导体材料β-Ga_(2)O_(3)越来越多地受到关注,在材料制备、掺杂、刻蚀等方面都有广泛研究。射频磁控溅射是常用的β-Ga_(2)O_(3)薄膜制备方法之一,后退火处理往往是提高薄膜质量的关键工艺步骤。本文研究后退火工艺中退... 近年来,宽禁带半导体材料β-Ga_(2)O_(3)越来越多地受到关注,在材料制备、掺杂、刻蚀等方面都有广泛研究。射频磁控溅射是常用的β-Ga_(2)O_(3)薄膜制备方法之一,后退火处理往往是提高薄膜质量的关键工艺步骤。本文研究后退火工艺中退火温度和退火气氛对射频磁控溅射在C面蓝宝石基底上制备得到的β-Ga_(2)O_(3)薄膜材料的影响。X射线衍射和原子力显微镜表征结果表明:在氮气气氛下退火,退火温度为1000℃时得到的β-Ga_(2)O_(3)薄膜质量较优;相同的温度下,氧气气氛退火比氮气气氛退火更有利于提升薄膜的结晶性能、降低表面粗糙度;在氧气气氛下,1000℃退火得到的薄膜质量相对比900℃退火得到的薄膜质量好。 展开更多
关键词 宽禁带半导体 β-ga_(2)O_(3) 射频磁控溅射 退火氛围 结晶性能 表面粗糙度
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磁控溅射衬底加热温度和后退火温度对制备β-Ga_(2)O_(3)薄膜材料的影响 被引量:3
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作者 高灿灿 姬凯迪 +1 位作者 马奎 杨发顺 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2021年第2期296-301,309,共7页
作为宽禁带半导体材料的一员,结构稳定的β-Ga_(2)O_(3)具有比SiC和GaN更宽的禁带宽度和更高的巴利加优值,近年来受到科研人员的广泛关注。本文采用射频(RF)磁控溅射法在C面蓝宝石衬底上生长β-Ga_(2)O_(3)薄膜,探究溅射过程中衬底加热... 作为宽禁带半导体材料的一员,结构稳定的β-Ga_(2)O_(3)具有比SiC和GaN更宽的禁带宽度和更高的巴利加优值,近年来受到科研人员的广泛关注。本文采用射频(RF)磁控溅射法在C面蓝宝石衬底上生长β-Ga_(2)O_(3)薄膜,探究溅射过程中衬底加热温度的影响。溅射完成后通过高温退火处理提升薄膜质量,研究衬底加热温度和后退火温度对氧化镓薄膜晶体结构和表面形貌的影响。利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)等测试手段对β-Ga_(2)O_(3)薄膜晶体结构、表面形貌等进行分析表征。实验结果表明,随着衬底加热温度的升高,β-Ga_(2)O_(3)薄膜表面粗糙度逐渐降低,薄膜晶体质量得到显著提升;在氧气气氛中进行后退火,合适的后退火温度有利于氧化镓薄膜重新结晶、增大晶粒尺寸,能够有效修复薄膜的表面态和点缺陷,对于改善薄膜晶体质量有明显优势。 展开更多
关键词 β-ga_(2)O_(3)薄膜 宽禁带半导体 磁控溅射 衬底加热温度 高温退火 晶体结构 表面形貌
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宽禁带半导体β-Ga_(2)O_(3)单晶制备工艺研究进展 被引量:2
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作者 闫时雨 纪文涛 +1 位作者 谢克强 袁晓磊 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第S01期102-107,共6页
Ga_(2)O_(3)是一种宽禁带化合物半导体,因具有优异光电性能成为继SiC和GaN之后的第三代用于功率元件的宽禁带半导体,可广泛应用于航空航天、信息通讯、医疗卫生等领域。β-Ga_(2)O_(3)单晶的制备方法主要有焰熔法、直拉法、导模法、浮... Ga_(2)O_(3)是一种宽禁带化合物半导体,因具有优异光电性能成为继SiC和GaN之后的第三代用于功率元件的宽禁带半导体,可广泛应用于航空航天、信息通讯、医疗卫生等领域。β-Ga_(2)O_(3)单晶的制备方法主要有焰熔法、直拉法、导模法、浮区法、垂直布里奇曼法、化学气相传输法等。β-Ga_(2)O_(3)在高温下易分解,这增加了制备大尺寸、高质量β-Ga_(2)O_(3)单晶的难度。本文在详细介绍β-Ga_(2)O_(3)单晶的制备方法,并在此基础上分析了各种方法的优缺点,总结了其在功率器件方面的应用,为β-Ga_(2)O_(3)单晶制备技术优化及拓展应用前景提供了一定的参考。 展开更多
关键词 β-ga_(2)O_(3) 宽禁带半导体 单晶生长 制备方法
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Ta^(5+)、Nb^(5+)掺杂β-Ga_(2)O_(3)单晶光电性质研究进展
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作者 王超 赛青林 齐红基 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第2期219-227,共9页
β-Ga_(2)O_(3)作为宽禁带半导体材料,以其优越的光学性质、电学性质和广阔的应用前景近年来受到国内外学者的广泛关注。基于本研究团队在如何制备β-Ga_(2)O_(3)单晶及如何通过掺杂五族离子实现对β-Ga_(2)O_(3)单晶电学性质及光学性... β-Ga_(2)O_(3)作为宽禁带半导体材料,以其优越的光学性质、电学性质和广阔的应用前景近年来受到国内外学者的广泛关注。基于本研究团队在如何制备β-Ga_(2)O_(3)单晶及如何通过掺杂五族离子实现对β-Ga_(2)O_(3)单晶电学性质及光学性质的调控两个重要课题上的深入研究,对β-Ga_(2)O_(3)单晶的制备方法、Ta5+与Nb5+掺杂β-Ga_(2)O_(3)单晶的电学性质及光学性质进行了综述。 展开更多
关键词 材料 β-ga_(2)O_(3)单晶 制备方法 光学性质 电学性质
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导模法生长的β-Ga_(2)O_(3)单晶的位错腐蚀坑显露面
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作者 张胜男 王健 +3 位作者 霍晓青 王英民 周金杰 程红娟 《半导体技术》 CAS 北大核心 2022年第12期956-959,971,共5页
β-Ga_(2)O_(3)单晶作为高压大功率器件的衬底,其位错密度直接影响器件的漏电特性,位错腐蚀坑显露面与外延生长密切相关。β-Ga_(2)O_(3)单晶属于单斜晶系,对称性低,研究不同晶面位错腐蚀坑的形状与显露面难度较高。对采用导模(EFG)法... β-Ga_(2)O_(3)单晶作为高压大功率器件的衬底,其位错密度直接影响器件的漏电特性,位错腐蚀坑显露面与外延生长密切相关。β-Ga_(2)O_(3)单晶属于单斜晶系,对称性低,研究不同晶面位错腐蚀坑的形状与显露面难度较高。对采用导模(EFG)法生长的(001)、(201)和(010)面β-Ga_(2)O_(3)晶片进行腐蚀,采用扫描电子显微镜(SEM)观测腐蚀坑形貌,采用共聚焦激光扫描显微镜对显露面与表面晶面之间的夹角进行表征,根据测试结果可推算出腐蚀坑显露面晶面指数,为衬底和外延生长提供重要的参考依据。 展开更多
关键词 β-ga_(2)O_(3)单晶 位错 腐蚀坑 显露面 表面能
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溅射温度对Ga_(2)O_(3)薄膜物理特性的影响 被引量:2
15
作者 李蓉 杨非凡 +4 位作者 周毅坚 彭文博 梅梦岩 赵洋 王辉 《半导体技术》 CAS 北大核心 2021年第10期783-787,818,共6页
采用射频磁控溅射法在蓝宝石(Al_(2)O_(3))衬底上制备Ga_(2)O_(3)薄膜,研究溅射温度对Ga_(2)O_(3)薄膜晶体结构、表面形貌、光学特性的影响。X射线衍射结果显示,温度过低不利于薄膜晶化,随着温度的升高,结晶质量变好;通过计算薄膜晶体... 采用射频磁控溅射法在蓝宝石(Al_(2)O_(3))衬底上制备Ga_(2)O_(3)薄膜,研究溅射温度对Ga_(2)O_(3)薄膜晶体结构、表面形貌、光学特性的影响。X射线衍射结果显示,温度过低不利于薄膜晶化,随着温度的升高,结晶质量变好;通过计算薄膜晶体的粒径、晶面间距、非均匀应变和织构系数,发现四组样品均沿(201)晶面择优生长,450℃时所制备的Ga_(2)O_(3)薄膜结晶质量最好。扫描电子显微镜(SEM)结果表明,随着温度的升高,Ga_(2)O_(3)薄膜粒径逐渐增大,结晶质量变好。光学吸收谱图表明,随着温度的升高,Ga_(2)O_(3)薄膜禁带宽度先增大后减小,平均值为4.88 eV。透射谱图表明,Ga_(2)O_(3)薄膜在可见光波段的平均透过率约为85%,适合作为高信噪比紫外探测器的吸收层。该项研究为Ga_(2)O_(3)在紫外探测及高功率电子器件领域的应用提供了参考。 展开更多
关键词 磁控溅射 ga_(2)O_(3)薄膜 溅射温度 晶体结构 光学特性
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雾化辅助CVD腔体的优化设计与实现
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作者 樊俊良 肖黎 +4 位作者 罗月婷 陈刚 瞿小林 唐毅 龚恒翔 《工程设计学报》 CSCD 北大核心 2023年第2期182-188,共7页
为了实现雾化辅助CVD(chemical vapor deposition,化学气相沉积)腔体的可定制性、可复用性及经济性,并满足高质量单晶氧化镓(Ga_(2)O_(3))薄膜制备的实际需求,设计开发了一种新型雾化辅助CVD腔体。该腔体主要由反应腔室模块、冷却模块... 为了实现雾化辅助CVD(chemical vapor deposition,化学气相沉积)腔体的可定制性、可复用性及经济性,并满足高质量单晶氧化镓(Ga_(2)O_(3))薄膜制备的实际需求,设计开发了一种新型雾化辅助CVD腔体。该腔体主要由反应腔室模块、冷却模块和缓冲腔室模块组成。采用新型腔体和常规腔体进行了单晶Ga_(2)O_(3)薄膜制备实验,对Ga_(2)O_(3)薄膜进行了X射线衍射(X-ray diffraction,XRD)图谱分析,并采用原子力显微镜(atomic force microscope,AFM)观察其表面形貌。实验结果表明:采用新型腔体可制备出性能更优的α-Ga_(2)O_(3)、β-Ga_(2)O_(3)薄膜;采用新型腔体和常规腔体制备的α-Ga_(2)O_(3)薄膜的(006)晶面的半峰宽分别为0.172°、0.272°,表面粗糙度分别为25.6 nm和26.8 nm,可见采用新型腔体制备的α-Ga_(2)O_(3)具有更优的结晶度、表面平整性和致密度。通过新型腔体的设计,构建了更有利于单晶Ga_(2)O_(3)薄膜生长的稳定环境,为Ga_(2)O_(3)薄膜制备工艺的优化提供了可靠路径。研究结果为制备高品质金属氧化物半导体薄膜提供了参考。 展开更多
关键词 雾化辅助化学气相沉积 新型腔体 单晶ga_(2)O_(3)薄膜 工艺优化
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超宽禁带半导体氧化镓基X射线探测器的研究进展 被引量:1
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作者 李志伟 唐慧丽 +1 位作者 徐军 刘波 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第3期523-537,570,共16页
X射线具有波长短、穿透能力强等优点,在医学成像、安全检查、科学研究、空间通信等领域具有重要作用。半导体X射线探测器可以将X射线转换为电流信号,具有易集成、空间分辨率高、能量分辨率高、响应速度快等优点。高性能的X射线探测器应... X射线具有波长短、穿透能力强等优点,在医学成像、安全检查、科学研究、空间通信等领域具有重要作用。半导体X射线探测器可以将X射线转换为电流信号,具有易集成、空间分辨率高、能量分辨率高、响应速度快等优点。高性能的X射线探测器应具备暗电流低、灵敏度高、响应速度快、可长时间稳定工作等特点,因此制备X射线探测器的半导体材料应具有电阻率高、缺陷少、抗辐照能力强、禁带宽度宽等性质。氧化镓(Ga_(2)O_(3))是一种新型宽禁带半导体材料,具有超宽禁带宽度、高击穿场强、高X射线吸收系数、耐高温、可采用熔体法生长大尺寸单晶等优点,是一种适合制备X射线探测器的新型材料,近年来基于Ga_(2)O_(3)的X射探测器成为辐射探测领域的研究热点之一。本文主要介绍了Ga_(2)O_(3)半导体的物理性质及其在X射线探测器方面的研究进展,分析了影响X射线探测器性能的物理机制,为提高Ga_(2)O_(3)基X射探测器的性能提供了思路。 展开更多
关键词 氧化镓 超宽禁带半导体 X射线探测器 半导体探测器 响应速度 灵敏度 单晶 薄膜
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雾化辅助化学气相沉积法氧化镓薄膜生长研究 被引量:1
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作者 罗月婷 肖黎 +2 位作者 陈远豪 梁昌兴 龚恒翔 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第7期1163-1168,共6页
采用自主设计搭建的雾化辅助化学气相沉积系统设备,开展了Ga_(2)O_(3)薄膜制备及其特性研究工作。通过X射线衍射研究了沉积温度、系统沉积压差对Ga_(2)O_(3)薄膜结晶质量的影响。结果表明,Ga_(2)O_(3)在425~650℃温度区间存在物相转换... 采用自主设计搭建的雾化辅助化学气相沉积系统设备,开展了Ga_(2)O_(3)薄膜制备及其特性研究工作。通过X射线衍射研究了沉积温度、系统沉积压差对Ga_(2)O_(3)薄膜结晶质量的影响。结果表明,Ga_(2)O_(3)在425~650℃温度区间存在物相转换关系。随着沉积温度从425℃升高至650℃,薄膜结晶分别由非晶态、纯α-Ga_(2)O_(3)结晶状态向α-Ga_(2)O_(3)、β-Ga_(2)O_(3)两相混合结晶状态改变。通过原子力显微镜表征探究了生长温度对Ga_(2)O_(3)薄膜表面形貌的影响,从475℃升高至650℃时,薄膜表面粗糙度由26.8 nm下降至24.8 nm。同时,高分辨X射线衍射仪测试表明475℃、5 Pa压差条件下的α-Ga_(2)O_(3)薄膜样品半峰全宽仅为190.8″,为高度结晶态的单晶α-Ga_(2)O_(3)薄膜材料。 展开更多
关键词 ga_(2)O_(3) 薄膜 雾化辅助化学气相沉积 沉积温度 压差 单晶 半导体
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