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Na_3GdSi_2O_7:Tb^(3+)荧光粉发光特性及Gd^(3+)→Tb^(3+)之间的能量传递
被引量:
5
1
作者
倪海勇
梁宏斌
+1 位作者
王灵利
张秋红
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第8期970-975,共6页
采用高温固相法合成了Na3Gd1-xTbxSi2O7(x=0.01,0.02,0.04,0.06,0.08,0.1)系列荧光粉。研究了荧光粉的真空紫外-可见发光光谱和荧光寿命,讨论了Tb3+在扭曲八面体结构(标示为Gd(1)3+)和正三棱柱构型(标示为Gd(2)3+)两种格位中的最低5d轨...
采用高温固相法合成了Na3Gd1-xTbxSi2O7(x=0.01,0.02,0.04,0.06,0.08,0.1)系列荧光粉。研究了荧光粉的真空紫外-可见发光光谱和荧光寿命,讨论了Tb3+在扭曲八面体结构(标示为Gd(1)3+)和正三棱柱构型(标示为Gd(2)3+)两种格位中的最低5d轨道能级。同时研究了Gd3+→Tb3+之间无辐射能量传递速率K和无辐射能量传递效率η。研究结果表明:Tb3+在Gd(1)3+格位中的最低允许跃迁和禁戒跃迁的5d轨道能级分别位于235 nm和280 nm,在Gd(2)3+格位中的最低允许跃迁和禁戒跃迁的5d轨道能级分别位于224nm和256 nm。随着Tb3+浓度的增加,能量传递效率及速率显著增大,说明在Na3Gd1-xTbxSi2O7中存在有效的Gd3+-Tb3+能量传递。
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关键词
Na3
gdsi2
O7
TB3+
荧光粉
稀土
能量传递
下载PDF
职称材料
离子束淀积方法制备GdSi_2薄膜
2
作者
李艳丽
陈诺夫
+3 位作者
周剑平
宋书林
杨少延
刘志凯
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第8期972-975,共4页
采用离子束淀积方法制备了单相 Gd Si2 薄膜 .用俄歇电子谱仪对样品的成分进行了分析 ,用 X射线衍射方法分析了样品的结构 ,并用扫描电子显微镜观察了样品的表面形貌 .X射线衍射分析发现在 4 0 0℃沉积的样品中仅存在正交的 Gd Si2 相 ...
采用离子束淀积方法制备了单相 Gd Si2 薄膜 .用俄歇电子谱仪对样品的成分进行了分析 ,用 X射线衍射方法分析了样品的结构 ,并用扫描电子显微镜观察了样品的表面形貌 .X射线衍射分析发现在 4 0 0℃沉积的样品中仅存在正交的 Gd Si2 相 .样品在氩气氛中 35 0℃ ,30 m in退火处理后 ,Gd Si2 相衍射峰的半高宽变窄 ,说明经过退火处理 ,Gd Si2
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关键词
离子束淀积
X射线衍射
gdsi2
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职称材料
题名
Na_3GdSi_2O_7:Tb^(3+)荧光粉发光特性及Gd^(3+)→Tb^(3+)之间的能量传递
被引量:
5
1
作者
倪海勇
梁宏斌
王灵利
张秋红
机构
广州有色金属研究院稀有金属研究所
中山大学化学与化学工程学院
出处
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第8期970-975,共6页
基金
广州市珠江科技新星项目(2011J2200034)
广东省战略新兴产业项目(粤财工[2010]633号)资助项目
文摘
采用高温固相法合成了Na3Gd1-xTbxSi2O7(x=0.01,0.02,0.04,0.06,0.08,0.1)系列荧光粉。研究了荧光粉的真空紫外-可见发光光谱和荧光寿命,讨论了Tb3+在扭曲八面体结构(标示为Gd(1)3+)和正三棱柱构型(标示为Gd(2)3+)两种格位中的最低5d轨道能级。同时研究了Gd3+→Tb3+之间无辐射能量传递速率K和无辐射能量传递效率η。研究结果表明:Tb3+在Gd(1)3+格位中的最低允许跃迁和禁戒跃迁的5d轨道能级分别位于235 nm和280 nm,在Gd(2)3+格位中的最低允许跃迁和禁戒跃迁的5d轨道能级分别位于224nm和256 nm。随着Tb3+浓度的增加,能量传递效率及速率显著增大,说明在Na3Gd1-xTbxSi2O7中存在有效的Gd3+-Tb3+能量传递。
关键词
Na3
gdsi2
O7
TB3+
荧光粉
稀土
能量传递
Keywords
Na3
gdsi2
O7
Tb3+
phosphor
rare earth
energy transfer
分类号
O482.31 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
离子束淀积方法制备GdSi_2薄膜
2
作者
李艳丽
陈诺夫
周剑平
宋书林
杨少延
刘志凯
机构
中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室
中国科学院力学研究所国家微重力实验室
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第8期972-975,共4页
基金
国家自然科学基金 (批准号 :60 1760 0 1)
国家重大基础研究发展规划 (批准号 :G2 0 0 0 0 3 65
G2 0 0 2 CB3 1190 5 )资助项目~~
文摘
采用离子束淀积方法制备了单相 Gd Si2 薄膜 .用俄歇电子谱仪对样品的成分进行了分析 ,用 X射线衍射方法分析了样品的结构 ,并用扫描电子显微镜观察了样品的表面形貌 .X射线衍射分析发现在 4 0 0℃沉积的样品中仅存在正交的 Gd Si2 相 .样品在氩气氛中 35 0℃ ,30 m in退火处理后 ,Gd Si2 相衍射峰的半高宽变窄 ,说明经过退火处理 ,Gd Si2
关键词
离子束淀积
X射线衍射
gdsi2
Keywords
ion beam deposition
X ray diffraction
gadolinium disilicide
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Na_3GdSi_2O_7:Tb^(3+)荧光粉发光特性及Gd^(3+)→Tb^(3+)之间的能量传递
倪海勇
梁宏斌
王灵利
张秋红
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013
5
下载PDF
职称材料
2
离子束淀积方法制备GdSi_2薄膜
李艳丽
陈诺夫
周剑平
宋书林
杨少延
刘志凯
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
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参考文献
引证文献
统计分析
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