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改性Ge/TiO2催化剂降解环丙沙星的研究 被引量:5
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作者 杜晓晴 马秀兰 +4 位作者 张婧 顾芳宁 由迪姝 孙萌 王继红 《中国抗生素杂志》 CAS CSCD 2019年第8期993-998,I0001,共7页
目的抗生素的大量使用和肆意排放给人类生存环境和身体健康带来极大危害。制备合理、有效、无二次污染的光催化剂是光催化处理抗生素废水技术的一种重要手段。方法采用溶胶-凝胶法制备掺杂Ge的改性Ge/TiO2催化剂,分析其在不同环境条件... 目的抗生素的大量使用和肆意排放给人类生存环境和身体健康带来极大危害。制备合理、有效、无二次污染的光催化剂是光催化处理抗生素废水技术的一种重要手段。方法采用溶胶-凝胶法制备掺杂Ge的改性Ge/TiO2催化剂,分析其在不同环境条件下对废水中环丙沙星(ciprofloxacin,CPLX)的光催化降解效果,探讨不同催化剂浓度、光源、光照时间、pH、水中共存离子Cl-、NO3-浓度,5个因素对环丙沙星降解率的影响。结果改性Ge/TiO2催化剂具有良好的光催化降解性能,反应符合L-H动力学方程,降解过程表现为伪一级反应。在紫外光下,环丙沙星初始浓度为10mg/L,pH为7.5,催化剂浓度1.5g/L,光照时间150min时,降解率最高。推测了改性Ge/TiO2催化剂光催化机理,反应基本发生在催化剂表面,降解环丙沙星过程主要是自由基反应。结论在最佳条件下,对环丙沙星降解率达到97.99%。 展开更多
关键词 改性 ge/tio2 降解 环丙沙星
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响应面优化Ge/TiO2催化剂降解环丙沙星的初步研究 被引量:3
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作者 杜晓晴 马秀兰 +2 位作者 王玉军 顾芳宁 张婧 《中国抗生素杂志》 CAS CSCD 2019年第6期750-757,共8页
目的抗生素的大量使用和肆意排放给人类生存环境和身体健康带来极大危害。制备合理、有效、无二次污染的光催化剂是光催化处理抗生素废水技术的一种重要手段。方法采用溶胶法Ge4+为掺杂离子改性TiO2,制备Ge/TiO2催化剂,并利用响应面法(r... 目的抗生素的大量使用和肆意排放给人类生存环境和身体健康带来极大危害。制备合理、有效、无二次污染的光催化剂是光催化处理抗生素废水技术的一种重要手段。方法采用溶胶法Ge4+为掺杂离子改性TiO2,制备Ge/TiO2催化剂,并利用响应面法(response surface method,RSM)对Ge/TiO2化剂降解废水中环丙沙星的过程进行优化,探讨煅烧温度、掺杂量、煆烧时间3个因素对环丙沙星降解效果的影响。在单因素试验的基础上,进行响应面优化试验。结果3个因素均对Ge/TiO2降解性能均有影响,其影响显著性为:煅烧温度>掺杂量>煆烧时间;确定出Ge/TiO2催化剂的最佳制备条件为:锻烧温度为571℃、掺杂量为0.26%,煅烧时间为3.1lh。结论在最优条件下,对环丙沙星降解率达到96.98%,与预测最佳结果97.09%基本符合。 展开更多
关键词 响应面优化 ge/tio2 降解 环丙沙星
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掺Ge锐钛矿相TiO_2光学性质的计算 被引量:2
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作者 陈华 张雪峰 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期781-788,共8页
合理的掺杂是改善TiO_2活性,使其光催化性能在可见光照射下发挥作用的最有效途径之一,本文利用基于密度泛函理论的第一原理全电势线性缀加平面波方法计算掺Ge锐钛矿相TiO_2介电函数的实部、虚部和光学吸收系数.计算结果显示掺Ge锐钛矿相... 合理的掺杂是改善TiO_2活性,使其光催化性能在可见光照射下发挥作用的最有效途径之一,本文利用基于密度泛函理论的第一原理全电势线性缀加平面波方法计算掺Ge锐钛矿相TiO_2介电函数的实部、虚部和光学吸收系数.计算结果显示掺Ge锐钛矿相TiO_2介电函数虚部谱发生蓝移,与实验趋势相符;通过不用剪刀算符和固定晶格常数两方案研究掺Ge前后光谱的平移,得到蓝移是由于Ge原子替代Ti原子后晶胞体积减小造成. 展开更多
关键词 第一性原理 ge掺杂 tio2 光学性质
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Ge掺杂对TiO_2-Nb_2O_5-CaCO_3压敏陶瓷结构及性能的影响
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作者 康昆勇 徐开蒙 +2 位作者 刘灿 杨晓琴 郑志锋 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第4期447-452,共6页
TiO_2压敏电阻是一种典型的非线性电流-电压电子器件,本文研究了Ge掺杂对TiO_2-Nb_2O_5-CaCO_3压敏陶瓷的非线性系数α和压敏电压EB的影响。采用传统的球磨-成型-烧结方法成功制备Ge掺杂TiO_2-Nb_2O_5-CaCO_3压敏陶瓷,用压敏直流参数仪... TiO_2压敏电阻是一种典型的非线性电流-电压电子器件,本文研究了Ge掺杂对TiO_2-Nb_2O_5-CaCO_3压敏陶瓷的非线性系数α和压敏电压EB的影响。采用传统的球磨-成型-烧结方法成功制备Ge掺杂TiO_2-Nb_2O_5-CaCO_3压敏陶瓷,用压敏直流参数仪测试样品的非线性系数α、压敏电压EB和漏电流JL等电学性质,并根据相关公式计算样品平均势垒高度。XRD、XPS、SEM和STEM分析表明,Ge掺杂显著改变TiO_2-Nb_2O_5-CaCO_3压敏陶瓷微结构,提高非线性系数α和减小压敏电压EB。当施主Nb_2O_5和受主CaCO_3掺杂浓度分别为0.5mol%时,掺杂1.0mol%Ge的压敏陶瓷获得了最高的非线性系数和较低的压敏电压(α=10.6,EB=8.7 V/mm),明显优于不掺杂Ge的TiO_2-Nb_2O_5-CaCO_3压敏陶瓷。此外,Ge熔点较低,作为烧结助剂可以降低陶瓷的烧结温度,TiO_2-Nb_2O_5-CaCO_3-Ge压敏陶瓷最佳烧结温度是1300℃。 展开更多
关键词 tio2压敏陶瓷 非线性系数 压敏电压 ge
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TiO_2-石墨烯光催化剂:制备及引入石墨烯的方法对光催化性能的影响 被引量:42
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作者 耿静漪 朱新生 杜玉扣 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2012年第2期357-361,共5页
利用溶胶-凝胶法原位制备了二氧化钛/石墨烯(TiO2-GE)复合光催化剂,研究了纯TiO2以及不同方法制备的TiO2-GE复合光催化剂对亚甲基蓝及罗丹明B光催化降解性能。结果表明:石墨烯的引入提高了TiO2的光催活性,这主要是得益于石墨烯优异的电... 利用溶胶-凝胶法原位制备了二氧化钛/石墨烯(TiO2-GE)复合光催化剂,研究了纯TiO2以及不同方法制备的TiO2-GE复合光催化剂对亚甲基蓝及罗丹明B光催化降解性能。结果表明:石墨烯的引入提高了TiO2的光催活性,这主要是得益于石墨烯优异的电子传输性能及较好吸附特性。不同方法制备TiO2-GE复合催化剂的光催化活性也存在较大差别。原位制备的TiO2-GE复合光催化剂表现出最佳的光催化活性。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 tio2-ge 光催化活性
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溅射制备Ge,Nb共掺杂窄光学带隙和低电阻率的TiO2薄膜 被引量:2
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作者 罗晓东 狄国庆 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第20期391-397,共7页
采用射频磁控溅射技术制备了Ge,Nb共掺杂的锐钛矿结构TiO_2薄膜,详细探讨了薄膜的结构、电阻率及光学带隙等性质随Ge,Nb掺杂量、溅射功率和热处理温度等参数的变化,发现Ge,Nb共掺杂可以同时调节TiO_2薄膜的光学带隙和电阻率.体积分数约... 采用射频磁控溅射技术制备了Ge,Nb共掺杂的锐钛矿结构TiO_2薄膜,详细探讨了薄膜的结构、电阻率及光学带隙等性质随Ge,Nb掺杂量、溅射功率和热处理温度等参数的变化,发现Ge,Nb共掺杂可以同时调节TiO_2薄膜的光学带隙和电阻率.体积分数约为6%Nb和20%Ge的共掺杂TiO_2薄膜电阻率由10~4Ω/cm减小至10^(-1)Ω/cm,光学带隙由3.2 eV减小至1.9 eV.退火后掺杂TiO_2薄膜不仅显示更低的电阻率,还表现出更强的可见-红外光吸收.结果表明,改变Ge,Nb的掺杂量和退火条件能够制备出电阻率和带隙都可调的TiO_2薄膜. 展开更多
关键词 ge.Nb—tio2薄膜 电阻率 光学带隙 磁控溅射
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Effect of Ge–GeO_2 co-doping on non-ohmic behaviour of TiO_2–V_2O_5–Y_2O_3 varistor ceramics 被引量:2
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作者 康昆勇 甘国友 +5 位作者 严继康 易建宏 张家敏 杜景红 赵文超 荣雪全 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2015年第7期39-44,共6页
An investigation was made into the effect of doping with the elemental crystal Ge or/and GeO2 on the TiO2-V2O5-Y2O3 varistor ceramics. The result shows that as the doping contents of V2O5 and Y2O3 are 0.5 tool%, respe... An investigation was made into the effect of doping with the elemental crystal Ge or/and GeO2 on the TiO2-V2O5-Y2O3 varistor ceramics. The result shows that as the doping contents of V2O5 and Y2O3 are 0.5 tool%, respectively, co-doping with 0.3 mol% Ge and 0.9 mol% GeO2 makes the highest α value (α = 12.8), the lowest breakdown voltage Vlmg (VlmA = 15.8 V/ram) and the highest grain boundary barrier ФB (ФB = 1.48 eV), which is remarkably superior to the TiO2-V2Os-Y203 varistor ceramics undoped with Ge and GeO2 and mono-doped with Ge or GeO2. The TiO2-V2Os-YEO3-Ge-GeO2 ceramic has the prospect of becoming a novel varistor ceramic with excellent electrical properties. 展开更多
关键词 tio2 varistor CO-DOPING nonlinear coefficient breakdown voltage ge and geO2
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锗掺杂二氧化钛薄膜的溶胶凝胶法制备和性能研究 被引量:7
8
作者 周婧 赵高凌 韩高荣 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第12期2000-2003,共4页
二氧化钛是一种无毒、廉价、稳定的半导体材料,被广泛用作光电化学太阳能电池的电极材料,适当掺杂可以增强其光电性能。以钛酸丁酯和四正丁氧基锗烷为主要原料,采用溶胶-凝胶提拉涂膜法制备了Ge掺杂的TiO2薄膜。通过X射线衍射、扫描电... 二氧化钛是一种无毒、廉价、稳定的半导体材料,被广泛用作光电化学太阳能电池的电极材料,适当掺杂可以增强其光电性能。以钛酸丁酯和四正丁氧基锗烷为主要原料,采用溶胶-凝胶提拉涂膜法制备了Ge掺杂的TiO2薄膜。通过X射线衍射、扫描电镜、紫外-可见吸收光谱、电流-电压曲线等测试手段研究了薄膜的结晶性能、微观结构和光电性能随Ge掺杂量的变化规律。结果表明,Ge掺杂量x=0.10时,形成Ti1-xGexO2固溶体,x=0.15时,形成非晶态。掺锗后薄膜表面颗粒密度增大,薄膜比较致密。随着Ge掺杂量的增加,吸收光谱吸收边蓝移,光电化学性能也得到一定提高。在Ge掺杂量为0.05时,光电流达到最大值17A/m2。同时,研究了锗掺杂对光电流的影响。 展开更多
关键词 锗掺杂 tio2薄膜 光电化学性能 溶胶凝胶法
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316L不锈钢和NiTi合金微磁场表面粗糙度对血液相容性的影响 被引量:3
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作者 刘强 程晓农 +1 位作者 徐红星 费黄霞 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期323-326,共4页
在316L不锈钢、NiTi合金的含SrFe_(12)O_(19)磁性粉末的TiO_2薄膜表面用溶胶-凝胶法再涂覆不同层数的TiO_2薄膜,以降低材料微磁场表面的微粗糙度,并用扫描电镜、粗糙度仪分析薄膜的表面粗糙度。测试了不同粗糙度的微磁场表面的动态凝血... 在316L不锈钢、NiTi合金的含SrFe_(12)O_(19)磁性粉末的TiO_2薄膜表面用溶胶-凝胶法再涂覆不同层数的TiO_2薄膜,以降低材料微磁场表面的微粗糙度,并用扫描电镜、粗糙度仪分析薄膜的表面粗糙度。测试了不同粗糙度的微磁场表面的动态凝血时间和溶血率,研究了微磁场表面的粗糙度对材料血液相容性的影响。结果表明,粗糙度小的微磁场表面的血液相容性比粗糙度大的微磁场表面的血液相容性好。即对于平整光滑的微磁场表面,可以利用微磁场提高材料血液相容性的同时,进一步改善材料的血液相容性。 展开更多
关键词 金属材料 表面粗糙度 微磁场 血液相容性 溶胶-凝胶法 tio2薄膜
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