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β-Ga_2O_3单晶浮区法生长及其光学性质 被引量:9
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作者 张俊刚 夏长泰 +5 位作者 吴锋 裴广庆 徐军 邓群 徐悟生 史宏生 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期358-360,363,共4页
用浮区法生长得到了宽禁带半导体材料β-Ga2O3单晶,对其吸收光谱、荧光光谱进行了分析。解释了禁带部分展宽的原因。并研究了Sn4+和Ti4+的掺杂对其紫外吸收边影响。-βGa2O3单晶的荧光谱不仅观察到了3个特征峰:紫外光(395nm)、蓝光(471... 用浮区法生长得到了宽禁带半导体材料β-Ga2O3单晶,对其吸收光谱、荧光光谱进行了分析。解释了禁带部分展宽的原因。并研究了Sn4+和Ti4+的掺杂对其紫外吸收边影响。-βGa2O3单晶的荧光谱不仅观察到了3个特征峰:紫外光(395nm)、蓝光(471nm)、绿光(559nm),还观察到了在277和297nm的紫外光和692nm的红光荧光发射。 展开更多
关键词 浮区法 宽禁带半导体 β-ga2o3单晶
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超宽禁带半导体β-Ga2O3单晶生长突破2英寸 被引量:8
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作者 唐慧丽 何诺天 +7 位作者 罗平 郭超 李秋 吴锋 王庆国 潘星宇 刘波 徐军 《人工晶体学报》 CSCD 北大核心 2017年第12期2533-2534,共2页
氧化镓(β—Ga2O3)单品是一种第四代超宽禁带氧化物半导体,其禁带宽度为4.8~4.9eV,具有独特的紫外透过特性(吸收截止边~260nm);击穿电场强度高达8MV/cm,是si的近27倍、SiC及GaN的2倍以上,巴利加优值分别是SiC、GaN的10倍... 氧化镓(β—Ga2O3)单品是一种第四代超宽禁带氧化物半导体,其禁带宽度为4.8~4.9eV,具有独特的紫外透过特性(吸收截止边~260nm);击穿电场强度高达8MV/cm,是si的近27倍、SiC及GaN的2倍以上,巴利加优值分别是SiC、GaN的10倍、4倍以上. 展开更多
关键词 宽禁带半导体 β-ga2o3 单晶生长 氧化物半导体 击穿电场强度 禁带宽度 透过特性 GaN
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导模法生长大尺寸高质量β-Ga2O3单晶 被引量:5
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作者 练小正 张胜男 +3 位作者 程红娟 齐海涛 金雷 徐永宽 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第8期622-626,共5页
以高纯Ga2O3为原料,使用自主设计的单晶生长炉,采用导模(EFG)法生长了2英寸(1英寸=2.54 cm)未掺杂的高质量β-Ga2O3单晶。研究了保护气氛对抑制Ga2O3原料高温分解速率的影响,对制备的β-Ga2O3单晶的晶体质量、位错和光学性能进行了... 以高纯Ga2O3为原料,使用自主设计的单晶生长炉,采用导模(EFG)法生长了2英寸(1英寸=2.54 cm)未掺杂的高质量β-Ga2O3单晶。研究了保护气氛对抑制Ga2O3原料高温分解速率的影响,对制备的β-Ga2O3单晶的晶体质量、位错和光学性能进行了测试和表征。结果表明,CO2保护气氛能够极大地抑制Ga2O3材料的高温分解,当CO2生长气压为1.5×105Pa时,Ga2O3的平均分解速率低于1 g/h。(100)面β-Ga2O3单晶的X射线衍射(XRD)摇摆曲线测试结果表明,其半高宽低至29 arcsec,表明晶体具有较高的质量;对晶体(100)面进行了位错腐蚀,结果显示其位错密度较低,约为4.9×10^4cm^-2;傅里叶变换红外光谱仪测试结果显示,β-Ga2O3单晶在紫外、可见光透过率达到80%以上。 展开更多
关键词 β-ga2o3单晶 宽带隙半导体 导模(EFG)法 晶体生长 透过率
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β-Ga_2O_3单晶腐蚀坑形貌研究 被引量:1
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作者 杨丹丹 金雷 +4 位作者 张胜男 练小正 孙科伟 程红娟 徐永宽 《微纳电子技术》 北大核心 2019年第6期435-439,共5页
详细介绍了(100)、(010)和(■01)三种不同晶面的β-Ga_2O_3单晶腐蚀坑形貌状态及不同形貌的演变过程。所用β-Ga_2O_3单晶样品均为导模法(EFG)制备,且经过研磨、化学机械抛光(CMP),表面质量良好。以质量分数为85%的分析纯H_3PO_4溶液为... 详细介绍了(100)、(010)和(■01)三种不同晶面的β-Ga_2O_3单晶腐蚀坑形貌状态及不同形貌的演变过程。所用β-Ga_2O_3单晶样品均为导模法(EFG)制备,且经过研磨、化学机械抛光(CMP),表面质量良好。以质量分数为85%的分析纯H_3PO_4溶液为腐蚀液,腐蚀时间为1.5 h,腐蚀温度为90℃时,(100)、(010)和(■01)晶面腐蚀坑密度分别约为6.9×10^(4 )cm^(-2)、2.3×10^(4 )cm^(-2)和7.7×10^(4 )cm^(-2)。通过光学显微镜和扫描电子显微镜(SEM)观察,结果表明(100)面腐蚀坑形状为非对称六边形,(010)面腐蚀坑形貌为菱形,(■01)面腐蚀坑形貌为倾斜的五边形,并确定了(100)面、(010)面、(■01)面的最终腐蚀坑状态,腐蚀坑的不同形状可能与不同晶向β-Ga_2O_3表面状态的耐化学腐蚀差异有关。 展开更多
关键词 导模法(EFG) β-ga2o3单晶 位错密度 腐蚀坑形貌 扫描电子显微镜(SEM)
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β-Ga_2O_3体单晶X射线光电子能谱分析
5
作者 程红娟 张胜男 +2 位作者 练小正 金雷 徐永宽 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2019年第1期8-12,共5页
通过对导模法制备的非故意掺杂、Si掺杂β-Ga_2O_3晶体和Si掺杂后退火处理的β-Ga_2O_3晶体进行了X射线光电子能谱分析(XPS),对比分析不同样品的Ga3d、Ga2p、O1s特征峰位和峰强度变化,并结合文献报道中β-Ga_2O_3薄膜及单晶材料的报道结... 通过对导模法制备的非故意掺杂、Si掺杂β-Ga_2O_3晶体和Si掺杂后退火处理的β-Ga_2O_3晶体进行了X射线光电子能谱分析(XPS),对比分析不同样品的Ga3d、Ga2p、O1s特征峰位和峰强度变化,并结合文献报道中β-Ga_2O_3薄膜及单晶材料的报道结果,进一步确认β-Ga_2O_3体单晶特征峰峰值。同时,通过对各峰强度的变化进行对比分析,对次峰产生的原因进行推测,获得Si掺杂及退火对晶体表面及晶体内部个特征峰的变化规律。 展开更多
关键词 β-ga2o3晶体 导模法 X射线光电子能谱分析 特征峰
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低缺陷β-Ga_2O_3单晶材料生长技术研究
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作者 张颖武 练小正 +1 位作者 张政 程红娟 《河南科技》 2016年第13期140-142,共3页
β-Ga_2O_3是一种光电性能优异的宽带隙氧化物半导体材料,基于此,介绍β-Ga_2O_3的特性及应用潜力,阐述大尺寸β-Ga_2O_3单晶生长面临的难点,并结合国内外β-Ga_2O_3单晶生长技术进展,分析低缺陷β-Ga_2O_3单晶材料生长方法。
关键词 β-ga2o3 宽带隙 单晶
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宽禁带半导体β-Ga_2O_3单晶的研究进展 被引量:9
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作者 张宏哲 王林军 +2 位作者 夏长泰 赛青林 肖海林 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第11期2943-2953,共11页
本论文综述了宽禁带半导体β-Ga_2O_3材料的研究进展,包括晶体结构,生长方法,掺杂离子,光学性质和电学性质。β-Ga_2O_3可以作为GaN基LEDs的潜在衬底,同时它也在MOSFET和紫外光探测器方面有着重要的应用前景。
关键词 β-ga2o3 晶体生长 LED MoSFET 紫外光探测器
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光学浮区法生长Si∶β-Ga_2O_3单晶及其光谱研究 被引量:3
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作者 王璐璐 夏长泰 +2 位作者 赛青林 狄聚青 牟菲 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期607-610,共4页
采用浮区法生长了质量较好的Si∶β-Ga2O3单晶,直径约为8 mm,长度约为2 cm。进行了X射线粉末衍射和X射线荧光分析,结果表明所得Si∶β-Ga2O3单晶属于单斜晶系,而且Si确实进入了β-Ga2O3格位中;在室温下测试了Si∶β-Ga2O3吸收光谱,吸收... 采用浮区法生长了质量较好的Si∶β-Ga2O3单晶,直径约为8 mm,长度约为2 cm。进行了X射线粉末衍射和X射线荧光分析,结果表明所得Si∶β-Ga2O3单晶属于单斜晶系,而且Si确实进入了β-Ga2O3格位中;在室温下测试了Si∶β-Ga2O3吸收光谱,吸收截止边约为255 nm,并分析了退火对吸收截止边的影响;测试了荧光发射谱,研究了不同激发波长对其紫外及紫色波段发光的影响。 展开更多
关键词 Si∶β-ga2o3 浮区法 光谱
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β-Ga2O3单晶制备工艺的研究进展 被引量:2
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作者 陈博利 杨依帆 +3 位作者 冷国琴 黄朝晖 孙峙 陶天一 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第1期1070-1077,共8页
β型氧化镓(β-Ga2O3)具有宽禁带、高击穿强度和低制造成本等优点,是制备第三代半导体的优质备选材料。制备β-Ga2O3材料的方法有直拉法、导模法、浮区法、布里奇曼法等。由于该材料在高温下易挥发,易产生较多杂质气体、晶体形状难以控... β型氧化镓(β-Ga2O3)具有宽禁带、高击穿强度和低制造成本等优点,是制备第三代半导体的优质备选材料。制备β-Ga2O3材料的方法有直拉法、导模法、浮区法、布里奇曼法等。由于该材料在高温下易挥发,易产生较多杂质气体、晶体形状难以控制、单晶中产生较多缺陷等问题。对目前β-Ga2O3制备方法进行综述,对多种制备方法的工艺、原理以及相关应用进行介绍,并对这些方法及工艺的特点进行对比,分析产品低质量的主要原因并提出解决建议,为未来优化β-Ga2O3材料制备工艺的研究提供参考。 展开更多
关键词 β-ga2o3 宽禁带半导体 单晶生长 制备工艺
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单晶β-Ga_2O_3纳米线的原位生长及其光致发光性能
10
作者 刘瑞妮 赵桦 +5 位作者 陈晓波 焦华 张建英 郑海荣 张喜生 杨合情 《陕西师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2008年第6期52-57,共6页
通过在N2气氛中将金属镓加热到900℃,在镓颗粒表面大面积生长出-βGa2O3纳米线.采用激光拉曼光谱仪、扫描电子显微镜和透射电子显微镜对产物的结构和形貌进行了表征.结果表明,所得产物为单斜相单晶结构Ga2O3纳米线,其直径为50-100 nm,... 通过在N2气氛中将金属镓加热到900℃,在镓颗粒表面大面积生长出-βGa2O3纳米线.采用激光拉曼光谱仪、扫描电子显微镜和透射电子显微镜对产物的结构和形貌进行了表征.结果表明,所得产物为单斜相单晶结构Ga2O3纳米线,其直径为50-100 nm,长度为30-100μm.提出了Ga2O3纳米线可能的生长机理.室温下研究了所得Ga2O3纳米线的光致发光特性,观察到起源于氧空位的电子与镓-氧空位对上的空穴复合产生的发光峰在457 nm的蓝光发光. 展开更多
关键词 β-ga2o3 纳米线 原位生长 光致发光
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Si/Mg/Fe掺杂β-Ga2O3单晶拉曼光谱表征及分析
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作者 张胜男 练小正 +3 位作者 张颖 王健 刘卫丹 程红娟 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第2期158-162,共5页
β-Ga2O3单晶材料由于其优异的性能得到了广泛关注,但是对于其掺杂、能级、电学性能等方面的研究仍然比较欠缺。采用导模法分别制备了非故意掺杂β-Ga2O3单晶和Si/Mg/Fe掺杂的β-Ga2O3单晶,对样品进行了拉曼光谱测试和电学性能测试,研... β-Ga2O3单晶材料由于其优异的性能得到了广泛关注,但是对于其掺杂、能级、电学性能等方面的研究仍然比较欠缺。采用导模法分别制备了非故意掺杂β-Ga2O3单晶和Si/Mg/Fe掺杂的β-Ga2O3单晶,对样品进行了拉曼光谱测试和电学性能测试,研究不同掺杂元素对拉曼光谱的影响。对β-Ga2O3单晶的声子谱进行计算,并通过拉曼光谱测试进行了验证,对掺杂元素的取代位置进行了分析。结果表明,掺杂元素会对拉曼峰强度产生显著影响,Si、Mg、Fe均倾向于取代GaⅡO6八面体中心的GaⅡ原子。根据电学性能测试结果,Si掺杂会使β-Ga2O3单晶呈n型导电,Mg或Fe掺杂会使β-Ga2O3单晶呈半绝缘态。 展开更多
关键词 β-ga2o3单晶 拉曼光谱 电学性能 非故意掺杂 Si/Mg/Fe掺杂
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下降法生长Bi_4Ge_3O_(12)大尺寸单晶中散射芯的形成和消除
12
作者 肖海斌 胡关钦 +1 位作者 王绍华 徐力 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期135-139,共5页
本文报道了以Bi2 O3 和GeO2 粉末为原料 ,采用改进的Bridgman法生长的大尺寸单晶中的散射芯现象。借助于显微镜和电子探针对散射芯进行了研究 ,发现散射芯主要是由铂金微颗粒组成。分析了散射芯产生的原因 。
关键词 下降法 Bi4ge3o12 大尺寸单晶 散射芯 形成 消除 BRIDGMAN法 宏观缺陷 晶体生长 BGo晶体
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Electronic structure and optical properties of Ge-and F-doped α-Ga2O3:First-principles investigations 被引量:1
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作者 Ti-Kang Shu Rui-Xia Miao +3 位作者 San-Dong Guo Shao-Qing Wang Chen-He Zhao Xue-Lan Zhang 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第12期402-407,共6页
The prospect ofα-Ga2O3 in optical and electrical devices application is fascinating.In order to obtain better performance,Ge and F elements with similar electronegativity and atomic size are selected as dopants.Based... The prospect ofα-Ga2O3 in optical and electrical devices application is fascinating.In order to obtain better performance,Ge and F elements with similar electronegativity and atomic size are selected as dopants.Based on density functional theory(DFT),we systematically research the electronic structure and optical properties of dopedα-Ga2O3 by GGA+U calculation method.The results show that Ge atoms and F atoms are effective n-type dopants.For Ge-dopedα-Ga2O3,it is probably obtained under O-poor conditions.However,for F-dopedα-Ga2O3,it is probably obtained under O-rich conditions.The doping system of F element is more stable due to the lower formation energy.In this investigation,it is found that two kinds of doping can reduce theα-Ga2O3 band gap and improve the conductivity.What is more,it is observed that the absorption edge after doping has a blue shift and causes certain absorption effect on the visible region.Through the whole scale of comparison,Ge doping is more suitable for the application of transmittance materials,yet F doping is more appropriate for the application of deep ultraviolet devices.We expect that our research can provide guidance and reference for preparation ofα-Ga2O3 thin films and photoelectric devices. 展开更多
关键词 DFT GGA+U calculation method α-ga2o3 DoPING
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外电场辅助化学气相沉积方法制备网格状β-Ga_2O_3纳米线及其特性研究 被引量:7
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作者 冯秋菊 李芳 +4 位作者 李彤彤 李昀铮 石博 李梦轲 梁红伟 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第21期360-365,共6页
利用外电场辅助化学气相沉积(CVD)方法,在蓝宝石衬底上制备出了由三组生长方向构成的网格状β-Ga_2O_3纳米线.研究了不同外加电压大小对β-Ga_2O_3纳米线表面形貌、晶体结构以及光学特性的影响.结果表明:外加电压的大小对样品的表面形... 利用外电场辅助化学气相沉积(CVD)方法,在蓝宝石衬底上制备出了由三组生长方向构成的网格状β-Ga_2O_3纳米线.研究了不同外加电压大小对β-Ga_2O_3纳米线表面形貌、晶体结构以及光学特性的影响.结果表明:外加电压的大小对样品的表面形貌有着非常大的影响,有外加电场作用时生长的β-Ga_2O_3纳米线取向性开始变好,只出现了由三组不同生长方向构成的网格状β-Ga_2O_3纳米线;并且随着外加电压的增加,纳米线分布变得更加密集、长度明显增长.此外,采用这种外电场辅助的CVD方法可以明显改善样品的结晶和光学质量. 展开更多
关键词 外电场 化学气相沉积 β-ga2o3 纳米线
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透明导电氧化物-βGa_2O_3单晶生长的研究进展 被引量:4
15
作者 张俊刚 夏长泰 +2 位作者 吴锋 裴广庆 徐军 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期676-681,共6页
本文对β-Ga2O3单晶体的研究情况进行了综合,主要介绍了β-Ga2O3单晶体的生长方法:Verneuil法、提拉法和浮区法生长技术,并简单介绍了β-Ga2O3单晶体的光学和电学性质及其在GaN衬底方面的应用。β-Ga2O3单晶体的优异性质使其可以成为新... 本文对β-Ga2O3单晶体的研究情况进行了综合,主要介绍了β-Ga2O3单晶体的生长方法:Verneuil法、提拉法和浮区法生长技术,并简单介绍了β-Ga2O3单晶体的光学和电学性质及其在GaN衬底方面的应用。β-Ga2O3单晶体的优异性质使其可以成为新一代的透明导电材料。 展开更多
关键词 透明导电材料 β-ga2o3 单晶 浮区法 衬底
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回流水热合成均分散纳米α- Fe_2O_3单晶粒子 被引量:7
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作者 吴东辉 章忠秀 +2 位作者 徐玲芳 沈玲玲 汪信 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2004年第1期31-36,共6页
系统地研究了以Fe(NO 3 ) 3 为原料,回流水热合成均分散α-Fe 2 O 3 纳米粒子。实验结果显示:当pH=1时,随着水热时间的增加,由透射电镜测试可知,多 孔性纺锤形α-Fe 2 O 3 单晶转变成粒径在45nm左右的均分散菱形单晶;而Fe(NO 3 ) 3... 系统地研究了以Fe(NO 3 ) 3 为原料,回流水热合成均分散α-Fe 2 O 3 纳米粒子。实验结果显示:当pH=1时,随着水热时间的增加,由透射电镜测试可知,多 孔性纺锤形α-Fe 2 O 3 单晶转变成粒径在45nm左右的均分散菱形单晶;而Fe(NO 3 ) 3 用氨水中和形成Fe(OH) 3 凝胶后,随着初始pH值的增加,完全转变成α-Fe 2 O 3 所需的时间增加、粒径减小,但产物的结构更为完整。另外通过实验发现,反应体系中 存在的电解质对α-Fe 2 O 3 晶体的生成有促进作用。同时对初始pH值及电解质对α-Fe 2 O 3 生成速率的影响机理进行了分析。 展开更多
关键词 回流水热合成 均分散纳米粒子 Α-FE2o3 单晶 三氧化二铁 功能材料
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Ti掺杂β-Ga_2O_3电子结构和光学性质的第一性原理计算 被引量:5
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作者 郭艳蕊 严慧羽 +2 位作者 宋庆功 陈逸飞 郭松青 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第8期142-145,149,共5页
采用基于密度泛函理论框架下的第一性原理计算方法,研究了Ti掺杂β-Ga2O3系统的电子结构和光学性质。计算结果表明,Ti替代八面体的Ga(2)时系统形成能最低,容易在实验上合成;Ti掺杂在导带底附近引入了浅施主能级,极大地提高了β-Ga2O3系... 采用基于密度泛函理论框架下的第一性原理计算方法,研究了Ti掺杂β-Ga2O3系统的电子结构和光学性质。计算结果表明,Ti替代八面体的Ga(2)时系统形成能最低,容易在实验上合成;Ti掺杂在导带底附近引入了浅施主能级,极大地提高了β-Ga2O3系统的导电性。Ti掺杂时稳定体系倾向于自旋极化态,且费米面处自旋极化率接近100%。光学性质的计算结果显示,Ti掺杂β-Ga2O3是极具潜力的n型紫外透明的半导体。 展开更多
关键词 第一性原理 Ti掺杂β-ga2o3 电子结构 光学性质
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单晶高温合金/Al_2O_3型壳界面行为研究 被引量:8
18
作者 李爱兰 曹腊梅 +1 位作者 薛明 张勇 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2007年第5期48-50,共3页
采用直接浇注法制备金属型壳界面行为试样,其金属为单晶高温合金DD3、DD6,型壳为Al2O3。通过金相显微镜、扫描电镜及能谱分析对试样表面进行研究。结果表明,采用Al2O3型壳铸造出的DD3、DD6单晶铸件外表面光洁,Al2O3型壳可用于DD3、DD6... 采用直接浇注法制备金属型壳界面行为试样,其金属为单晶高温合金DD3、DD6,型壳为Al2O3。通过金相显微镜、扫描电镜及能谱分析对试样表面进行研究。结果表明,采用Al2O3型壳铸造出的DD3、DD6单晶铸件外表面光洁,Al2O3型壳可用于DD3、DD6单晶高温合金的熔模铸造工艺。 展开更多
关键词 Al2o3型壳 单晶 界面行为
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Double spin-glass-like behavior and antiferromagnetic superexchange interaction between Fe^(3+) ions in α-Ga_(2-x)Fe_xO_3(0≤x≤0.4)
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作者 吕益飞 向建勇 +3 位作者 温福昇 吕伟明 胡文涛 柳忠元 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第3期336-344,共9页
Single phase of Fe^3+-doped α-Ga2-xFexO3(α-GF x O, x = 0.1, 0.2, 0.3, 0.4) is synthesized by treating the β-Ga2-x Fe x O3(β-GF x O) precursors at high temperatures and high pressures. Rietveld refinements of ... Single phase of Fe^3+-doped α-Ga2-xFexO3(α-GF x O, x = 0.1, 0.2, 0.3, 0.4) is synthesized by treating the β-Ga2-x Fe x O3(β-GF x O) precursors at high temperatures and high pressures. Rietveld refinements of the X-ray diffraction data show that the lattice constants increase monotonically with the increase of Fe^3+content. Calorimetric measurements show that the temperature of the phase transition from α-GF x O to β-GF x O increases, while the associated enthalpy change decreases upon increasing Fe^3+content. The optical energy gap deduced from the reflectance measurement is found to decrease monotonically with the increase in Fe3+content. From the measurements of magnetic field-dependent magnetization and temperature-dependent inverse molar susceptibility, we find that the superexchange interaction between Fe^3+ions is antiferromagnetic. Remnant magnetization is observed in the Fe^3+-doped α-GF x O and is attributed to the spin glass in the magnetic sublattice. At high Fe^3+doping level(x = 0.4), two evident peaks are observed in the image part of the AC susceptibility χ ac. The frequency dependence in intensity of these two peaks as well as two spin freezing temperatures observed in the DC magnetization measurements of α-GF0.4O is suggested to be the behavior of two spin glasses. 展开更多
关键词 α-ga2o3 susceptibility superexchange interaction spin glass
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纳米γ-Al_2O_3吸附Ge(Ⅳ)的机理及性能 被引量:7
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作者 张蕾 李红梅 +1 位作者 韩光喜 康平利 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期135-140,共6页
研究了纳米γ-Al2O3吸附剂对Ge(Ⅳ)的吸附行为,考察了吸附平衡时间、温度和溶液的pH值等因素对吸附过程的影响.结果表明,纳米Al2O3对Ge(Ⅳ)的吸附在2min时基本达到平衡,在pH=4~11范围内,Ge(Ⅳ)可以被纳米Al2O3定量富集,吸附率大于95%;... 研究了纳米γ-Al2O3吸附剂对Ge(Ⅳ)的吸附行为,考察了吸附平衡时间、温度和溶液的pH值等因素对吸附过程的影响.结果表明,纳米Al2O3对Ge(Ⅳ)的吸附在2min时基本达到平衡,在pH=4~11范围内,Ge(Ⅳ)可以被纳米Al2O3定量富集,吸附率大于95%;吸附于纳米Al2O3上的Ge(Ⅳ)可以用0.3mol/LK3PO4和1mol/LH2SO4混合溶液洗脱,5min后基本达到解析平衡,解析率能达到97%;该吸附过程符合准二级反应动力学模型,计算了不同温度下的吸附速率常数,并求得纳米Al2O3对Ge(Ⅳ)的吸附活化能(Ea)为11.63kJ/mol;该体系的吸附过程符合Freundlich等温式,由D-R等温式求得常温下纳米Al2O3对Ge(Ⅳ)的平均吸附能为10.87kJ/mol.Ge(Ⅳ)吸附反应的ΔG0为负值,焓变ΔH0为正值,说明该吸附过程是自发的吸热反应. 展开更多
关键词 ge(Ⅳ) 纳米γ-Al2o3吸附 动力学 热力学
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