期刊文献+
共找到12篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
Nonlinear optical properties of integrated GeSbS chalcogenide waveguides 被引量:4
1
作者 SAMUEL SERNA HONGTAO LIN +7 位作者 CARLOS ALONSO-RAMOS ANUPAMA YADAV XAVIER LE ROUX KATHLEEN RICHARDSON ERIC CASSAN NICOLAS DUBREUIL JUEJUN HU LAURENT VIVIEN 《Photonics Research》 SCIE EI 2018年第5期I0062-I0067,共6页
In this paper, we report the experimental characterization of highly nonlinear Ge Sb S chalcogenide glass waveguides.We used a single-beam characterization protocol that accounts for the magnitude and sign of the real... In this paper, we report the experimental characterization of highly nonlinear Ge Sb S chalcogenide glass waveguides.We used a single-beam characterization protocol that accounts for the magnitude and sign of the real and imaginary parts of the third-order nonlinear susceptibility of integrated Ge23 Sb7 S70(GeSbS) chalcogenide glass waveguides in the near-infrared wavelength range at λ =1580 nm. We measured a waveguide nonlinear parameter of 7.0±0.7 W^(-1)· m(-1), which corresponds to a nonlinear refractive index of n_2=0.93±0.08 × 10^(-18) m^2∕W,comparable to that of silicon, but with an 80 times lower two-photon absorption coefficient βTPA=0.010± 0.003 cm∕GW, accompanied with linear propagation losses as low as 0.5 dB/cm. The outstanding linear and nonlinear properties of Ge Sb S, with a measured nonlinear figure of merit FOMTPA=6.0 ±1.4 at λ =1580 nm, ultimately make it one of the most promising integrated platforms for the realization of nonlinear functionalities. 展开更多
关键词 SB Nonlinear optical properties of integrated gesbs chalcogenide waveguides
原文传递
GeSb_2 Te_4相变薄膜表面形貌的分形特征 被引量:6
2
作者 付永忠 丁建宁 +1 位作者 杨继昌 解国新 《江苏大学学报(自然科学版)》 EI CAS 北大核心 2006年第5期430-433,共4页
在Si(111)基底上用磁控溅射法以不同射频功率制备GeSb2Te4薄膜.利用高度相关函数法对薄膜的原子力显微镜图像进行分形计算,得到表面形貌的分形维.结果表明,分形维的大小与薄膜表面质量成正比,而表面粗糙度不能全面描述薄膜表面形貌;溅... 在Si(111)基底上用磁控溅射法以不同射频功率制备GeSb2Te4薄膜.利用高度相关函数法对薄膜的原子力显微镜图像进行分形计算,得到表面形貌的分形维.结果表明,分形维的大小与薄膜表面质量成正比,而表面粗糙度不能全面描述薄膜表面形貌;溅射功率对薄膜表面微观结构有直接影响,在一定范围内,增大溅射功率可以提高薄膜表面质量,但超过一定值后,又会降低薄膜表面质量.并指出利用分形维可以优化溅射工艺参数. 展开更多
关键词 GeSb2Te4薄膜 分形 高度相关函数 溅射功率
下载PDF
溅射功率对GeSb_2Te_4膜形貌及力学性能的影响 被引量:4
3
作者 丁建宁 解国新 +3 位作者 范真 付永忠 杨继昌 葛世荣 《江苏大学学报(自然科学版)》 EI CAS 北大核心 2005年第5期372-375,共4页
利用电子回旋共振CVD设备的射频磁控溅射方法制备了GeSb2Te4膜,采用原子力显微镜、纳米硬度计以及侧向力显微镜考察了不同溅射功率对GeSb2Te4膜表面微观结构以及力学性能的影响.结果表明:在一定的溅射功率范围内,由于薄膜生长方式从三... 利用电子回旋共振CVD设备的射频磁控溅射方法制备了GeSb2Te4膜,采用原子力显微镜、纳米硬度计以及侧向力显微镜考察了不同溅射功率对GeSb2Te4膜表面微观结构以及力学性能的影响.结果表明:在一定的溅射功率范围内,由于薄膜生长方式从三维向二维的转化,薄膜的表面粗糙度随功率的增大而降低,而且薄膜致密度也随之提高,从而使得非晶态GeSb2Te4膜硬度和弹性模量增大.利用能量密度理论对这一现象进行了分析.另外,由于表面能等因素的影响,功率为63W制备的GeSb2Te4膜粘附力较高,摩擦系数却较小. 展开更多
关键词 GeSb2Te4膜 射频磁控溅射 表面形貌 纳米压痕 摩擦性能
下载PDF
纳米GeSb_2Te_4薄膜在大气环境中的摩擦性能研究 被引量:4
4
作者 朱守星 丁建宁 +3 位作者 范真 李长生 蔡兰 杨继昌 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期411-414,共4页
采用摩擦力显微镜考察了磁控溅射纳米GeSb2Te4薄膜在大气环境中的微观摩擦性能,利用JKRS理论分析了针尖同GeSb2Te4薄膜接触时的粘附力和表面能之间的关系.结果表明:当湿度较大时,粘附力较大;而当湿度较小时,粘附力较小;当针尖表面能一定... 采用摩擦力显微镜考察了磁控溅射纳米GeSb2Te4薄膜在大气环境中的微观摩擦性能,利用JKRS理论分析了针尖同GeSb2Te4薄膜接触时的粘附力和表面能之间的关系.结果表明:当湿度较大时,粘附力较大;而当湿度较小时,粘附力较小;当针尖表面能一定时,粘附力的微小变化可以导致GeSb2Te4薄膜的表面能产生较明显变化;随着扫描范围逐渐减小,摩擦力变化趋于稳定;不同扫描速度下法向力和摩擦力保持较好线性关系,但不同扫描速度下的平均摩擦力随扫描速率变化而呈现非线性变化;为了更好地分析探针和样品表面的微观摩擦机制,宜选择扫描范围为0.1~0.5μm或更小. 展开更多
关键词 GeSb2Te4薄膜 摩擦力显微镜 摩擦性能 粘附力
下载PDF
热处理对GeSb_2Te_4薄膜微观结构及其摩擦性能的影响 被引量:2
5
作者 解国新 丁建宁 +3 位作者 范真 付永忠 朱守星 万春磊 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期108-112,共5页
利用射频溅射法制备了GeSb2Te4薄膜并对其进行热处理,分析热处理前后样品的结晶情况,用纳米硬度计测定硬度,利用静电力显微镜表征样品的表面电势,采用原子力显微镜观察薄膜表面形貌,利用侧向力显微镜对比考察了在考虑相对湿度的情况下,... 利用射频溅射法制备了GeSb2Te4薄膜并对其进行热处理,分析热处理前后样品的结晶情况,用纳米硬度计测定硬度,利用静电力显微镜表征样品的表面电势,采用原子力显微镜观察薄膜表面形貌,利用侧向力显微镜对比考察了在考虑相对湿度的情况下,热处理前后GeSb2Te4薄膜的粘附力和摩擦性能.结果表明:经过退火的沉积态GeSb2Te4薄膜发生从非晶相到fcc亚稳相再到hex稳定相转变;粘附力与表面粗糙度之间没有明显的对应关系,但与样品表面自由能和表面电势有一定关系;在低载荷下GeSb2Te4薄膜的摩擦力很大程度上受粘附力支配,而在高载荷下的摩擦力受犁沟影响显著;经过340℃退火GeSb2Te4薄膜由于具有层状结构,呈现出一定的润滑作用. 展开更多
关键词 GeSb2Te4薄膜 热处理 表面电势 粘附力 摩擦性能
下载PDF
芡实种仁支链淀粉特性与GeSBE1基因的表达 被引量:2
6
作者 徐旭 吴仰风 +2 位作者 张宇 吴鹏 李良俊 《热带作物学报》 CSCD 北大核心 2019年第3期514-521,共8页
为探究芡实种仁支链淀粉特性及淀粉分支酶基因(SBE)在支链淀粉合成过程中的作用,以芡实品种‘紫花苏芡’、‘紫花刺芡’为试材,分析种仁发育过程中支链淀粉含量、淀粉粒形成、淀粉糊化特性,并克隆‘紫花苏芡’淀粉分支酶基因(GeSBE1)cDN... 为探究芡实种仁支链淀粉特性及淀粉分支酶基因(SBE)在支链淀粉合成过程中的作用,以芡实品种‘紫花苏芡’、‘紫花刺芡’为试材,分析种仁发育过程中支链淀粉含量、淀粉粒形成、淀粉糊化特性,并克隆‘紫花苏芡’淀粉分支酶基因(GeSBE1)cDNA全长。结果表明:‘紫花苏芡’种仁的支链淀粉含量及支链淀粉与直链淀粉含量的比值均高于‘紫花刺芡’;‘紫花苏芡’种仁的淀粉粒为不规则多面体、棱角明显、大小较均匀,‘紫花刺芡’种仁淀粉粒多数偏圆、棱角少、大小差异较大;‘紫花苏芡’种仁淀粉较‘紫花刺芡’糊化温度低。GeSBE1 cDNA全长2782 bp,开放阅读框为2466 bp,编码821个氨基酸;该基因的cDNA序列与莲藕SBEI基因的同源性高达78%;种仁发育过程中‘紫花苏芡’GeSBE1的表达量均高于‘紫花刺芡’,表明芡实GeSBE1可能与两品种支链淀粉含量的差异有关。 展开更多
关键词 芡实 支链淀粉 淀粉粒 糊化特性 GeSBE1
下载PDF
GeSb_2Te_4薄膜表面分形维数计算及表征
7
作者 朱守星 朱世根 +1 位作者 范真 丁建宁 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期149-153,共5页
采用低功率直流磁控溅射法制备了GeSb2Te4薄膜,利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和原子力显微镜(AFM)分析了薄膜的微观结构和相组成,研究了薄膜表面的分形特征.结果表明:沉积态GeSb2Te4薄膜为无规则、无择优取向的非晶材料;薄膜表面形貌... 采用低功率直流磁控溅射法制备了GeSb2Te4薄膜,利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和原子力显微镜(AFM)分析了薄膜的微观结构和相组成,研究了薄膜表面的分形特征.结果表明:沉积态GeSb2Te4薄膜为无规则、无择优取向的非晶材料;薄膜表面形貌AFM图像具有分形特征,基于自行编制的采用盒计数法求解随机分形维数的C语言程序,计算得到沉积态GeSb2Te4薄膜的分形维数为1.93;针对一维和二维随机分形多重分形谱的计算表明,沉积态GeSb2Te4薄膜满足分形的标度不变性;通过对沉积态和退火态薄膜进行多维分形谱计算,发现经过230℃退火处理的薄膜样品的多维分形谱较窄且晶化分布均匀. 展开更多
关键词 GeSb2Te4 薄膜 分形维数 多维分形谱
下载PDF
GeSb_2Te_4薄膜表面形貌及力学性能的分形表征
8
作者 付永忠 丁建宁 +1 位作者 杨继昌 解国新 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期282-285,共4页
以不同溅射功率在Si(111)基底上制备了GeSb2Te4薄膜。用原子力显微镜和X射线衍射仪以及高度相关函数法分析了薄膜生长表面形貌的分形维,并用纳米硬度计研究了薄膜表面的力学性能。结果表明,随着溅射功率增大,薄膜表面质量提高,分形维增... 以不同溅射功率在Si(111)基底上制备了GeSb2Te4薄膜。用原子力显微镜和X射线衍射仪以及高度相关函数法分析了薄膜生长表面形貌的分形维,并用纳米硬度计研究了薄膜表面的力学性能。结果表明,随着溅射功率增大,薄膜表面质量提高,分形维增大,且硬度和弹性上升;但超过一定值后,薄膜表面质量又会降低,分形维也随之减小,硬度和弹性下降。并指出借助分形维数可以优化溅射工艺参数,并能够较好地表征薄膜表面力学性能。 展开更多
关键词 GeSb2Te4薄膜 分形 表面形貌 力学性能
下载PDF
GeSb_2Te_4纳米薄膜的原位透射电子显微学研究 被引量:2
9
作者 宋建祥 朱海音 刘显强 《电子显微学报》 CAS CSCD 2017年第3期202-206,共5页
相变材料GeSbTe亚稳相中的局域结构长期以来一直是研究的热点,特别是亚稳相中Ge原子的分布对相变过程的进行具有重要作用。本文主要利用透射电子显微学,电子衍射技术和基于电子衍射技术的径向分布函数对不同时效温度时效过程中GeSb_2Te_... 相变材料GeSbTe亚稳相中的局域结构长期以来一直是研究的热点,特别是亚稳相中Ge原子的分布对相变过程的进行具有重要作用。本文主要利用透射电子显微学,电子衍射技术和基于电子衍射技术的径向分布函数对不同时效温度时效过程中GeSb_2Te_4亚稳相的原子结构进行了深入研究。通过对径向分布函数的研究表明:250℃时效60min时GeSb_2Te_4亚稳相中几乎所有的Ge原子都位于四面体位置,局域形成类尖晶石结构;而时效温度为150℃、200℃下分别时效60min时发现没有或者几乎没有Ge原子位于四面体位置,时效后的结构以岩盐矿结构为主,部分晶化为六方结构。 展开更多
关键词 GeSb2Te4 时效温度 电子显微学 径向分布函数
下载PDF
GeSb_2Te_4亚稳相原子结构的透射电子显微学研究 被引量:1
10
作者 朱海音 宋建祥 刘显强 《电子显微学报》 CAS CSCD 2015年第5期377-381,共5页
由于Ge原子在相变过程中的重要作用,使其在Ge Sb Te合金亚稳相中的局域结构长期以来为人们所关注。本文利用电子衍射技术和基于电子衍射的径向分布函数,以及高分辨电子显微学,对Ge Sb2Te4亚稳相的原子结构进行了深入研究。径向分布函数G... 由于Ge原子在相变过程中的重要作用,使其在Ge Sb Te合金亚稳相中的局域结构长期以来为人们所关注。本文利用电子衍射技术和基于电子衍射的径向分布函数,以及高分辨电子显微学,对Ge Sb2Te4亚稳相的原子结构进行了深入研究。径向分布函数G(r)显示,在Ge Sb2Te4亚稳相中几乎所有的Ge原子都为四面体构型;实验及模拟高分辨像结果表明,由于几乎所有的Ge占据Te四面体的中心,Ge Sb2Te4亚稳相形成了一种类尖晶石结构而非人们广泛接受的岩盐矿结构。 展开更多
关键词 GeSb2 Te4 亚稳相 电子显微学 径向分布函数
下载PDF
非晶N:GeSb薄膜的光致晶化及其相干声子谱表征
11
作者 李忠谕 胡益丰 +2 位作者 文婷 翟继卫 赖天树 《中山大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2014年第2期29-32,37,共5页
利用对微结构变化非常灵敏的相干声子光谱技术研究了非晶N:GeSb薄膜的光致相变特征。发现当激光辐照能流达到某个阈值时,出现了一个新的声子模,表明相变的发生。同时,退火晶化的N:GeSb薄膜也出现此新的声子模,表明激光照射的确导致了薄... 利用对微结构变化非常灵敏的相干声子光谱技术研究了非晶N:GeSb薄膜的光致相变特征。发现当激光辐照能流达到某个阈值时,出现了一个新的声子模,表明相变的发生。同时,退火晶化的N:GeSb薄膜也出现此新的声子模,表明激光照射的确导致了薄膜的晶化。相干光学声子谱的抽运能量密度依赖实验结果表明光致晶化的N:GeSb薄膜的相干光学声子的寿命和频率均随抽运能量密度增加而减小,与晶体中的依赖关系一致。结果表明N:GeSb薄膜的光致晶化质量较好,具有相变光存储应用潜力。 展开更多
关键词 超快光谱 光致相变 相干声子 N GeSb薄膜 抽运-探测
下载PDF
Microstructure and Mechanical Properties of Heat-treated GeSb_2Te_4 Thin Films 被引量:2
12
作者 丁建宁 解国新 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2007年第2期196-200,共5页
The effect of annealing on microstructure, adhesive and frictional properties of GeSb2Te4 films were experimentally studied. The GeSb2Te4 films were prepared by radio frequency (RF) magnetron sputtering, and anneale... The effect of annealing on microstructure, adhesive and frictional properties of GeSb2Te4 films were experimentally studied. The GeSb2Te4 films were prepared by radio frequency (RF) magnetron sputtering, and annealed at 200℃ and 340℃ under vacuum circumstance, respectively. The adhesion and friction experiments were mainly conducted with a lateral force microscope (LFM) for the GeSb2Te4 thin films before and after annealing. Their morphology and phase structure were analyzed by using atomic force microscopy (AFM) and X-ray Diffraction (XRD) techniques, and the nanoindention was employed to evaluate their hardness values. Moreover, an electric force microscope (EFM) was used to measure the surface potential. It is found that the deposited GeSb2Te4 thin film undergoes an amorphous-to-fcc and fcc-to-hex structure transition; the adhesion has a weaker dependence on the surface roughness, but a certain correlation with the surface potential of GeSb2Te4 thin films. And the friction behavior of GeSb2Te4 thin films follows their adhesion behavior under a lower applied load. However, such a relation is replaced by the mechanical behavior when the load is relatively higher. Moreover, the GeSb2Te4 thin film annealed at 340℃ presents a lubricative property. 展开更多
关键词 GeSb2Te4 films ANNEALING MICROSTRUCTURE mechanical properties FRICTION
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部