苹果砧木CX5组织培养体系的建立

以苹果半矮化砧CX5的休眠枝条茎段和4月底至6月初的新生枝条茎段为试验材料,采用离体组织培养方法,研究了适宜CX5组培快繁的外植体类型、灭菌方式、灭菌时间,以及不同植物生长调节剂浓度对增殖培养的影响。结果表明:适合用作灭菌的CX5外植体类型为新生枝条茎段,其外植体褐化率和污染率都相对较低;外植体0.1%HgCl2灭菌时间控制在6min左右,伤害最小;CX5茎段腋芽诱导培养基为MS+0.75mg/L6-BA+0.3mg/LIBA,适宜组培苗增殖继代的培养基为MS+0.7mg/L6-BA+0.5mg/LIBA,生根培养基为1/2MS+0.2mg/LIAA。初步构建了CX5组培快繁技术体系。

大樱桃矮化砧吉塞拉(Gisela)的微体快繁技术体系研究

以从国外引进的大樱桃矮化砧吉塞拉 5、 6为材料 ,在MS +6 -BA1mg L +IBA0 1mg L培养基上诱导出丛生芽 ;在MS +6 -BA 0 5mg L +IBA 0 1mg L的增殖培养基上 3周增殖倍数可达 1 0倍 ;在 1 2MS+IBA 0 3mg L的生根培养基上生根率可达 70 %～ 1 0 0 % ;温室炼苗后 ,移栽成活率可达 90 %以上。

大樱桃矮化砧吉塞拉(Gisela)的快繁技术研究

以从国外引进的大樱桃矮化砧吉塞拉 5、6、7为快繁试验材料 ,在MS +6-BA 1mg/L +IBA 0 .1mg/L培养基上诱导出丛生芽 ;在MS +6-BA 0 .5mg/L +IBA 0 .1mg/L的增殖培养基上 3周增殖倍数达 1 0倍 ;在 1 /2MS +IBA 0 .3mg/L的生根培养基上生根率达 70 %以上 ;温室炼苗后 ,移栽成活率达 90 %以上。

樱桃矮化砧的组培快繁技术研究

以中华矮樱、G isela-5、G isela-7为供试材料,进行组培快繁技术研究,结果表明中华矮樱适宜的初代培养基为M S+6-BA 1.0 m g.L-1+NAA 0.1 m g.L-1,增殖培养基为M S+6-BA 1.0 m g.L-1+NAA 0.2 m g.L-1,生根培养基为1/2M S+NAA 0.8 m g.L-1;G isela-5号适宜的初代培养基为M S+6-BA 0.8 m g.L-1+NAA 0.1 m g.L-1,增殖培养基为M S+6-BA 0.8 m g.L-1+NAA 0.2 m g.-L 1,生根培养基为1/2M S+NAA 0.5 m g.-L 1;G isela-7适宜的初代培养基为M S+6-BA 0.8 m g.L-1+NAA 0.1 m g.L-1,增殖培养基为M S+6-BA 0.8 m g.L-1+NAA0.1 m g.-L 1,生根培养基为1/2M S+NAA 0.5 m g.L-1。

梨矮化中间砧PDR_(54)、S_5和S_2对金花梨的矮化性能初探

通过梨砧木嫁接实验,以棠梨为基砧,嫁接‘金花梨’,对具有矮化潜力的梨中间砧PDR54、S5和S2进行矮化性能研究表明,PDR54、S2和S5对‘金花梨’所表现的矮化性能差异较大.当中间砧砧段长为10cm时,三者矮化性能均不明显,仅PDR54的致矮程度达76.7%,属于半矮化砧;但当中间砧砧段长增至20cm时,PDR54、S5和S2表现了良好的矮化效应,其致矮程度分别为44.4%,41.5%和75.2%,属于矮化和半矮化砧木.

不同IBA浓度对樱桃吉塞拉5号嫩枝扦插生根的影响

[目的]提高樱桃矮化砧木吉塞拉5号的繁殖系数,促进樱桃品种的推广。[方法]在高温高湿条件下,研究500、1000和1500mg/LIBA对吉塞拉5号扦插生根的影响。[结果]吉塞拉5号的生根率为88.6%～90.7%,单株生根均达5条以上,生根长度在3.5cm以上,均明显高于对照。[结论]在不同浓度生长调节剂处理的情况下,吉塞拉5号均具有较好的生根能力。

苹果树乔化改矮化新法

为使乔化树矮化，可采用移植矮化砧皮层的方法进行改造。4～5月树皮能剥离时进行。