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亚铁氰化钾体系的掠射椭圆偏振技术谱学分析研究 被引量:1
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作者 李念兵 陶长元 +3 位作者 张胜涛 黄文章 叶宏伟 丁培道 《分析化学》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1998年第10期1214-1217,共4页
应用掠射式椭圆偏振谱学方法和循环伏安法现场分析不同浓度K4[Fe(CN)6]不同浓度电解液在镀In2O3玻璃电极上进行的电化学反应,结果表明:当K4[Fe(CN)6]的浓度在1× 10-4~1×10-3 mol... 应用掠射式椭圆偏振谱学方法和循环伏安法现场分析不同浓度K4[Fe(CN)6]不同浓度电解液在镀In2O3玻璃电极上进行的电化学反应,结果表明:当K4[Fe(CN)6]的浓度在1× 10-4~1×10-3 mol/L范围时,掠射式椭圆偏振参量△的峰值增量与其浓度成正比,而ψ的峰值增量与其浓度近似为指数关系。掠射椭圆偏振光学变化速率(Vop)的峰值电位与发生电化学反应的电流峰对应的电位相同,并且Vop峰高与电解液中K4[Fe(CN)6]的浓度也呈较好的线性关系,因此掠射式椭圆偏振方法用于表面反应过程中的定性和定量分析是可行的,进一步拓宽了掠射椭圆偏振技术在现场表面分析中的应用范围。 展开更多
关键词 掠射式 亚铁氰化钾 电化学 椭圆偏振 表面反应
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