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硅单晶片研磨液的研究
被引量:
11
1
作者
刘玉岭
檀柏梅
+1 位作者
孙光英
蒋建国
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第6期431-433,共3页
论述了研磨液在硅单晶片加工中所起的重要作用以及当今国内外研磨液的发展状况 ,通过实验研究有效地解决了目前研磨液存在的悬浮、金属离子的去除及表面颗粒吸附问题 ,并对研磨液的污染及其净化处理进行了分析。
关键词
研磨液
悬浮
金属离子
颗粒吸附
表面活性剂
单晶硅
下载PDF
职称材料
题名
硅单晶片研磨液的研究
被引量:
11
1
作者
刘玉岭
檀柏梅
孙光英
蒋建国
机构
河北工业大学微电子研究所
出处
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第6期431-433,共3页
文摘
论述了研磨液在硅单晶片加工中所起的重要作用以及当今国内外研磨液的发展状况 ,通过实验研究有效地解决了目前研磨液存在的悬浮、金属离子的去除及表面颗粒吸附问题 ,并对研磨液的污染及其净化处理进行了分析。
关键词
研磨液
悬浮
金属离子
颗粒吸附
表面活性剂
单晶硅
Keywords
grinding fluid
,
suspension
,
metallic ion
,
abso rbed particle
,
surfacant
分类号
TN305.2 [电子电信—物理电子学]
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
硅单晶片研磨液的研究
刘玉岭
檀柏梅
孙光英
蒋建国
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001
11
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