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HD-Ⅰ型纳米诱垢剂对硫酸钡垢形成的影响 被引量:3
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作者 宋丽 李庆华 +1 位作者 李小红 张治军 《河南大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2009年第3期251-255,共5页
研究了HD-Ⅰ型纳米诱垢剂对硫酸钡垢形成的影响.首先,通过改变诱垢剂的加量、Ba2+浓度以及实验温度,考察了该诱垢剂对硫酸钡垢形成过程中诱垢性能的影响,结果表明:(1)当钡盐浓度为98.25 mg/L时,加入4mg/L的诱垢剂可使结垢率达到最优;(2... 研究了HD-Ⅰ型纳米诱垢剂对硫酸钡垢形成的影响.首先,通过改变诱垢剂的加量、Ba2+浓度以及实验温度,考察了该诱垢剂对硫酸钡垢形成过程中诱垢性能的影响,结果表明:(1)当钡盐浓度为98.25 mg/L时,加入4mg/L的诱垢剂可使结垢率达到最优;(2)结垢率达到最优时所需诱垢剂的量随Ba2+浓度的增大而减少;(3)该诱垢剂具有很好的抗温性.另外,采用浊度分析、X-射线粉末衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了该诱垢剂对生成的BaSO4沉淀粉末的密度、晶型结构、微粒形貌和颗粒大小的影响.结果表明:诱垢剂的加入,使生成的沉淀晶体发生了晶格畸变,沉淀变得疏松,沉淀密度和颗粒粒径均明显减小.最后,对该诱垢剂的诱垢机理进行了理论解释. 展开更多
关键词 hd-ⅰ型纳米诱垢剂 硫酸钡垢 性能研究
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HD-Ⅰ型微晶蜡乳化液的研制 被引量:1
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作者 冯玉海 沈本贤 高晋生 《精细石油化工》 CAS CSCD 北大核心 2001年第4期32-34,共3页
以阴离子乳化剂 A、非离子表面活性剂 B和助表面活性剂 C对微晶蜡进行乳化 ,研制出稳定的 HD- 型微晶蜡乳化液。并用正交实验确定了该乳液的最佳配方 (质量分数 ) :微晶蜡为 5% ,阴离子乳化剂 A为0 .5% ,非离子表面活性剂 B为 1 % ,助... 以阴离子乳化剂 A、非离子表面活性剂 B和助表面活性剂 C对微晶蜡进行乳化 ,研制出稳定的 HD- 型微晶蜡乳化液。并用正交实验确定了该乳液的最佳配方 (质量分数 ) :微晶蜡为 5% ,阴离子乳化剂 A为0 .5% ,非离子表面活性剂 B为 1 % ,助表面活性剂 C为 1 %。确定的最佳乳化工艺条件为 :乳化温度大于 80℃ ,乳化时间大于 1 5min,搅拌速度 1 50 0~ 2 0 0 0 r/ 展开更多
关键词 hd-ⅰ型 微晶蜡乳化液 乳化 表面活性剂 配方
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