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HBES玻璃制作菲涅尔透镜灰度掩模的研究
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作者 王丽 董连和 +1 位作者 季振强 陈哲 《技术与市场》 2013年第12期150-150,共1页
从HEBS玻璃能量作用机理和曝光量与透过率关系着手,研究利用电子束直写曝光的方法,在HEBS玻璃上制作8阶菲涅尔透镜变灰阶掩模,得到掩模最大透过率为44.8%,最小透过率为8.7%。利用该掩模制得菲涅尔透镜衍射效率高达91%,证实利用HEBS玻璃... 从HEBS玻璃能量作用机理和曝光量与透过率关系着手,研究利用电子束直写曝光的方法,在HEBS玻璃上制作8阶菲涅尔透镜变灰阶掩模,得到掩模最大透过率为44.8%,最小透过率为8.7%。利用该掩模制得菲涅尔透镜衍射效率高达91%,证实利用HEBS玻璃制作灰阶掩模的可行性及实用性。 展开更多
关键词 hebs玻璃 灰阶掩模 电子束直写 菲涅尔透镜
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