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HEMT材料的电子辐射效应 被引量:4
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作者 林理彬 李有梅 +2 位作者 陈卫东 蒋锦江 孔梅影 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1995年第1期39-43,共5页
用能量为1~1.8MeV、注量为10 ̄(13)~10 ̄(10)/cm ̄2的电子,对HEMT(高电子迁移率晶体管)材料进行辐照,得到了材料结构中的2维电子气(2DEG)的电输运性质随辐照电子能量和注量的变化关系,井进行... 用能量为1~1.8MeV、注量为10 ̄(13)~10 ̄(10)/cm ̄2的电子,对HEMT(高电子迁移率晶体管)材料进行辐照,得到了材料结构中的2维电子气(2DEG)的电输运性质随辐照电子能量和注量的变化关系,井进行了讨论.还将该结果与电子辐照P-HEMT和LT-HEMT材料的结果进行了比较,对异质结界面的辐照效应进行了分析。 展开更多
关键词 辐射效应 hemt材料 异质结 晶体管
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MBE生长InGaAs/In_(0.32≤x≤0.52)Al_(1-x)As MM-HEMT材料
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作者 邱凯 张晓娟 陈建炉 《微纳电子技术》 CAS 2003年第6期26-28,共3页
在GaAs衬底上利用分子束外延技术生长了不同In组分的MetamorphicHEMT(简称MM-HEMT)。通过对MM-HEMT材料中台阶式缓冲层材料种类、台阶宽度、初始组分以及生长温度等生长参数、生长条件和结构参数进行优化,得到了具有良好电学性能的MM-H... 在GaAs衬底上利用分子束外延技术生长了不同In组分的MetamorphicHEMT(简称MM-HEMT)。通过对MM-HEMT材料中台阶式缓冲层材料种类、台阶宽度、初始组分以及生长温度等生长参数、生长条件和结构参数进行优化,得到了具有良好电学性能的MM-HEMT材料,其二维电子气迁移率和浓度指标与国外同期水平相当。 展开更多
关键词 高电子迁移率晶体管 分子来外延 缓冲层 INGAAS 铟钙砷化合物 MM—hemt材料 二维电子气迁移率 生长温度
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Depletion Mode HEMT with Refractory Metal Silicide WSi Gate
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作者 CHEN Dingqin ZHOU Fan(Institute of Semiconductors, Academia Sinica, Beijing 100083, CHN) 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 1996年第1期54-56,共3页
Depletion mode HEMT with refractory metal silicide WSi gate has been designed and fabricated. Epitaxial modulation doping materials were grown by a home-made MBE system. The gate length and width for low noise depleti... Depletion mode HEMT with refractory metal silicide WSi gate has been designed and fabricated. Epitaxial modulation doping materials were grown by a home-made MBE system. The gate length and width for low noise depletion devices were 1.2-1.5 μm and 2 × 160 μm respectively. The electron mobility of the fabricated devices is typically 6 080 cm2/V.s at 300K and 68 000 cm2/V.s at 77K. The sheet electron concentration ns is 9 × 10 11 cm-2. The source-drain contacts with AuGeNi/Au were fabricated using evaporating and lift-off technique. to further reduce the contact resistance, the wafer was alloyed at 520 ℃ for 3 min in the hydrogen (H2) gas. Schottky gate was formed using WSi. The transconductance of the depletion mode device is 110~130 mS/mm at room temperature. The devices can be applied in communication satellite at microwave frequency of 3. 83 GHz and radar receiver at 1. 5 GHz. Its noise figure is about 2~3 dB. 展开更多
关键词 Semiconductor Devices Semiconductor Technology MBE Material TRANSCONDUCTANCE Depletion Mode hemt
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