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半导体硅片废水处理工艺及应用研究
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作者 李宏伟 《现代工程科技》 2024年第9期65-68,共4页
为研究半导体硅片废水处理工艺及具体应用,以某企业二期半导体硅片废水处理项目为案例,基于项目实际情况,阐述了半导体硅片废水处理工艺应用、重难点问题及技术措施,包括HUBF水解酸化+HFST好氧工艺(钢制罐体)、前端物化预处理、末端气... 为研究半导体硅片废水处理工艺及具体应用,以某企业二期半导体硅片废水处理项目为案例,基于项目实际情况,阐述了半导体硅片废水处理工艺应用、重难点问题及技术措施,包括HUBF水解酸化+HFST好氧工艺(钢制罐体)、前端物化预处理、末端气浮及置换、钢罐内部聚脲防腐等主要方面,最终取得了较为理想的废水处理成效。 展开更多
关键词 硅片废水 HUBF水解酸化 hfst好氧工艺
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