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异质结绝缘栅场效应晶体管(HIGFETs)高场区静态特性模型和栅泄漏电流研究
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作者 顾聪 王德宁 王渭源 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第12期922-930,共9页
本文在改进型电荷控制模型基础上,结合GSW速度场特性,提出了适用于HIGFETs器件的新的高场区(I_D>I_(Ds))的静态特性模型,从而导出了I-V,I_(Ds)-V_(Ds),g_(ms),g_D和C_G等参数的解析表示式。计算结果和文献实测值符合甚好。在此基础上... 本文在改进型电荷控制模型基础上,结合GSW速度场特性,提出了适用于HIGFETs器件的新的高场区(I_D>I_(Ds))的静态特性模型,从而导出了I-V,I_(Ds)-V_(Ds),g_(ms),g_D和C_G等参数的解析表示式。计算结果和文献实测值符合甚好。在此基础上,本文还提出了栅泄漏等效电路模型,对其起因和影响因素,及其对g_(ms),g_D及C_G的影响,以及降低其影响的途径等进行了讨论。计算结果与实测值也较符合。 展开更多
关键词 higfets 静态模型 栅泄漏电流
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异质结绝缘栅场效应晶体管(HIGFETS)高场区静态特性模型和泄漏电流研究
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作者 顾聪 王德宁 《科技通讯(上海船厂)》 1990年第4期20-28,共9页
关键词 higfets 静态特性模型 栅泄漏模型
全文增补中
ANALYTICAL RESEARCH ON THE STATIC CHARACTERISTICS OF HETEROSTRUCTURE ISOLATED GATE FIELD-EFFECT TRANSISTORS
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作者 王德宁 顾聪 王尉源 《Journal of Electronics(China)》 1992年第2期122-128,共7页
Based on improved charge control model and combining GSW velocity-field equa-tion, a series of analytical solutions for the static characteristics of HIGFETs such as I<sub>D</sub>-V<sub>D</sub>... Based on improved charge control model and combining GSW velocity-field equa-tion, a series of analytical solutions for the static characteristics of HIGFETs such as I<sub>D</sub>-V<sub>D</sub>-V<sub>G</sub>,I<sub>DS</sub>-V<sub>G</sub>, G<sub>m</sub> and C<sub>G</sub> are derived. The results of calculation are compared with experimentaldata reported in references, within the range of V<sub>G</sub>【2V, I<sub>D</sub>【I<sub>DS</sub>, they agree very well. Itis pointed out that two-length model must be considered in the high field region due to higherleakage current between the gate and the drain. The effects of temperature on V<sub>th</sub>, and the effectsof gate length and width, temperature, GaAlAs thickness, source resistance, and GaAs mobilityon G<sub>m</sub> are discussed. Possible approaches for improving performances of HIGEFTs are pointedout according to the above analyses. 展开更多
关键词 higfets Low-field CHARACTERISTICS Structure parameters Static CHARACTERISTICS
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InP衬底上的p-沟和n-沟异质结绝缘栅场效应晶体管
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作者 曾庆明 《半导体情报》 1995年第2期23-26,共4页
在InP衬底上用通常的晶格匹配(y=0.53)和晶格失配(y>0.53)In_(0.53)Al_0.48As/In_yGa_(1-y)As层结构同时制作p-沟和n-沟曾强型异质结绝缘栅场效应晶体管(HIGFET)。获... 在InP衬底上用通常的晶格匹配(y=0.53)和晶格失配(y>0.53)In_(0.53)Al_0.48As/In_yGa_(1-y)As层结构同时制作p-沟和n-沟曾强型异质结绝缘栅场效应晶体管(HIGFET)。获得1μm栅长e型p-沟HIGFET,其阈值电压约0.66V,夹断尖锐,栅二极管开启电压0.9V,室温时非本征跨导>20mS/mm。相邻的(互补的)n-小沟HIGFET也显示e型工作(阈值V_th=0.16V),低的漏电,0.9V栅开启电压和高跨导(gm>320mS/mm)。这是首次报道在InP衬底上同时制作具有适合作互补电路特性的p_和n-沟HIGFET。 展开更多
关键词 p-沟 n-沟 异质结 HIGFET INP衬底
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WN/W难熔栅自对准增强型n沟道HFET
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作者 刘伟吉 曾庆明 +4 位作者 李献杰 敖金平 赵永林 郭建魁 徐晓春 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2000年第3期190-192,共3页
发展了WN/W难熔栅自对准工艺。WN/W栅在850oC下退火,保持了较好的形貌。在此工艺基础上研制出了适用于互补逻辑电路的增强型n沟道异质结场效应晶体管。在1×50μm的HFET中,实现了最大跨导约为56mS/mm,阈值电压为3.5V。与p型HFET... 发展了WN/W难熔栅自对准工艺。WN/W栅在850oC下退火,保持了较好的形貌。在此工艺基础上研制出了适用于互补逻辑电路的增强型n沟道异质结场效应晶体管。在1×50μm的HFET中,实现了最大跨导约为56mS/mm,阈值电压为3.5V。与p型HFET的-3V的阈值基本对称。反向击穿电压为4~5V。 展开更多
关键词 WN/W 难熔栅 CHFET HIGFET 场效应晶体管
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