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高温超导平面电路光刻工艺 被引量:1
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作者 刘娟秀 羊恺 罗正祥 《低温与超导》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期39-41,共3页
在研究了传统光刻工艺的基础上 ,针对高温超导平面电路自身对工艺的要求 ,结合高温超导薄膜的特点 ,提出了几点工艺方法上的改进 ,解决了传统光刻工艺中存在的几个问题。实验结果表明 ,这种新的工艺方法不仅增加了高温超导平面电路制备... 在研究了传统光刻工艺的基础上 ,针对高温超导平面电路自身对工艺的要求 ,结合高温超导薄膜的特点 ,提出了几点工艺方法上的改进 ,解决了传统光刻工艺中存在的几个问题。实验结果表明 ,这种新的工艺方法不仅增加了高温超导平面电路制备工艺的稳定性 ,而且提高了样品的可重复性。 展开更多
关键词 高温超导平面电路 光刻工艺 高温超导薄膜 稳定性 腐蚀液
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