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高温超导平面电路光刻工艺
被引量:
1
1
作者
刘娟秀
羊恺
罗正祥
《低温与超导》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第4期39-41,共3页
在研究了传统光刻工艺的基础上 ,针对高温超导平面电路自身对工艺的要求 ,结合高温超导薄膜的特点 ,提出了几点工艺方法上的改进 ,解决了传统光刻工艺中存在的几个问题。实验结果表明 ,这种新的工艺方法不仅增加了高温超导平面电路制备...
在研究了传统光刻工艺的基础上 ,针对高温超导平面电路自身对工艺的要求 ,结合高温超导薄膜的特点 ,提出了几点工艺方法上的改进 ,解决了传统光刻工艺中存在的几个问题。实验结果表明 ,这种新的工艺方法不仅增加了高温超导平面电路制备工艺的稳定性 ,而且提高了样品的可重复性。
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关键词
高温超导平面电路
光刻工艺
高温超导薄膜
稳定性
腐蚀液
下载PDF
职称材料
题名
高温超导平面电路光刻工艺
被引量:
1
1
作者
刘娟秀
羊恺
罗正祥
机构
电子科技大学微波中心
出处
《低温与超导》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第4期39-41,共3页
文摘
在研究了传统光刻工艺的基础上 ,针对高温超导平面电路自身对工艺的要求 ,结合高温超导薄膜的特点 ,提出了几点工艺方法上的改进 ,解决了传统光刻工艺中存在的几个问题。实验结果表明 ,这种新的工艺方法不仅增加了高温超导平面电路制备工艺的稳定性 ,而且提高了样品的可重复性。
关键词
高温超导平面电路
光刻工艺
高温超导薄膜
稳定性
腐蚀液
Keywords
htsc
,
thin-film circuits
,
lithography
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
O484 [理学—固体物理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高温超导平面电路光刻工艺
刘娟秀
羊恺
罗正祥
《低温与超导》
CAS
CSCD
北大核心
2003
1
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职称材料
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