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基区不均匀重掺杂对Si/SiGe/SiHBT基区渡越时间的影响
被引量:
1
1
作者
张万荣
李志国
+3 位作者
孙英华
程尧海
陈建新
沈光地
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第1期5-7,共3页
由于发射结(EB结)价带存在着能量差ΔEv,电流增益β不再主要由发射区和基区杂质浓度比来决定,给HBT设计带来了更大的自由度。为减小基区电阻和防止低温载流子冻析,可增加基区浓度。但基区重掺杂导致禁带变窄,禁带变窄的非均匀性产生的...
由于发射结(EB结)价带存在着能量差ΔEv,电流增益β不再主要由发射区和基区杂质浓度比来决定,给HBT设计带来了更大的自由度。为减小基区电阻和防止低温载流子冻析,可增加基区浓度。但基区重掺杂导致禁带变窄,禁带变窄的非均匀性产生的阻滞电场使基区渡越时间增加,退化了频率特性。
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关键词
异质结晶体管
掺杂
基区渡越时间
硅
锗化硅
HBT
下载PDF
职称材料
题名
基区不均匀重掺杂对Si/SiGe/SiHBT基区渡越时间的影响
被引量:
1
1
作者
张万荣
李志国
孙英华
程尧海
陈建新
沈光地
机构
北京工业大学电子工程系
出处
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第1期5-7,共3页
基金
北京市自然科学基金
北京市科技新星计划
电子元器件可靠性国家重点实验室资助课题
文摘
由于发射结(EB结)价带存在着能量差ΔEv,电流增益β不再主要由发射区和基区杂质浓度比来决定,给HBT设计带来了更大的自由度。为减小基区电阻和防止低温载流子冻析,可增加基区浓度。但基区重掺杂导致禁带变窄,禁带变窄的非均匀性产生的阻滞电场使基区渡越时间增加,退化了频率特性。
关键词
异质结晶体管
掺杂
基区渡越时间
硅
锗化硅
HBT
Keywords
heterojunctio transistor
Base Transit Time
Semiconductor physics
Doping
Si Ge device
分类号
TN322.8 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基区不均匀重掺杂对Si/SiGe/SiHBT基区渡越时间的影响
张万荣
李志国
孙英华
程尧海
陈建新
沈光地
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2000
1
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