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基区不均匀重掺杂对Si/SiGe/SiHBT基区渡越时间的影响 被引量:1
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作者 张万荣 李志国 +3 位作者 孙英华 程尧海 陈建新 沈光地 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2000年第1期5-7,共3页
由于发射结(EB结)价带存在着能量差ΔEv,电流增益β不再主要由发射区和基区杂质浓度比来决定,给HBT设计带来了更大的自由度。为减小基区电阻和防止低温载流子冻析,可增加基区浓度。但基区重掺杂导致禁带变窄,禁带变窄的非均匀性产生的... 由于发射结(EB结)价带存在着能量差ΔEv,电流增益β不再主要由发射区和基区杂质浓度比来决定,给HBT设计带来了更大的自由度。为减小基区电阻和防止低温载流子冻析,可增加基区浓度。但基区重掺杂导致禁带变窄,禁带变窄的非均匀性产生的阻滞电场使基区渡越时间增加,退化了频率特性。 展开更多
关键词 异质结晶体管 掺杂 基区渡越时间 锗化硅 HBT
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