1064 nm和532 nm激光对HfO_(2)/SiO_(2)非规整高反膜的激光诱导损伤研究

规整膜系是常见的薄膜结构,但往往无法满足理想激光传输效果和仪器使用效果,由此在满足激光系统及传输的窗口要求下,以规整膜系为设计基础优化得到非规整膜系,以获得良好的激光传输效果。采用电子束热蒸发法制备了HfO_(2)/SiO_(2)非规整高反射率薄膜,该薄膜的激光诱导损伤分别通过1064 nm、10 ns脉冲和532 nm、10 ns脉冲进行测试。损伤形貌分别使用尼康L150光学显微镜和ZYGO白光干涉仪进行表征。对两种波长下的激光诱导损伤阈值和损伤形貌进行比较。得到以下结果:两种波长下激光诱导损伤的典型损伤形貌在低能量脉冲辐照下表现出凹坑,周围有一定面积的烧蚀区域,在高能量脉冲辐照下表现出材料分层现象;两个波长对薄膜损伤测试过程中,1064 nm激光损伤阈值为5.64 J/cm^(2),532 nm激光损伤阈值为1.54 J/cm^(2),损伤通常起始于电场的峰值附近;不同波长下损伤形貌可能与缺陷吸收引起的热应力有关,1064 nm损伤测试中损伤形貌近似圆形,532 nm损伤形貌不规则。分析可得以下结论:该薄膜于1064 nm激光下的薄膜抗激光损伤能力优于532nm激光;1064 nm和532 nm激光下损伤形貌均为凹陷状损伤;1064 nm激光下薄膜界面场强值和峰值场强均高于532 nm激光。