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纳米Al_2O_3颗粒对镍电结晶过程的影响
1
作者
谭澄宇
胡炜
+1 位作者
崔航
刘宇
《电化学》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第2期228-232,共5页
借助循环伏安(CV)和计时安培(CA)研究了在不同电位下,纳米Al2O3微粒对镍由硫酸盐混合溶液在铜基底上电结晶沉积的影响.结果表明,Ni-Al2O3镀液体系电沉积的起始电位约为-740 mV.随着阶跃电位负移,Ni-Al2O3镀液体系电沉积成核时间tm逐渐缩...
借助循环伏安(CV)和计时安培(CA)研究了在不同电位下,纳米Al2O3微粒对镍由硫酸盐混合溶液在铜基底上电结晶沉积的影响.结果表明,Ni-Al2O3镀液体系电沉积的起始电位约为-740 mV.随着阶跃电位负移,Ni-Al2O3镀液体系电沉积成核时间tm逐渐缩短.与纯Ni镀液体系电沉积的tm相比,在-740^-830mV较低阶跃电位下,Ni-Al2O3镀液体系电沉积的成核时间tm明显缩短,表明Al2O3微粒有助于镍的电结晶成核.在-890 mV阶跃电位下,Ni-Al2O3镀液体系电沉积初始阶段的成核过程满足Scharifker-Hills三维瞬时成核模型.
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关键词
Ni—Al2O3膜
电结晶形核
I^t
曲线
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职称材料
题名
纳米Al_2O_3颗粒对镍电结晶过程的影响
1
作者
谭澄宇
胡炜
崔航
刘宇
机构
中南大学材料科学与工程教育部重点实验室
出处
《电化学》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第2期228-232,共5页
基金
国防科工委民口配套项目(MKPT04-106)资助
文摘
借助循环伏安(CV)和计时安培(CA)研究了在不同电位下,纳米Al2O3微粒对镍由硫酸盐混合溶液在铜基底上电结晶沉积的影响.结果表明,Ni-Al2O3镀液体系电沉积的起始电位约为-740 mV.随着阶跃电位负移,Ni-Al2O3镀液体系电沉积成核时间tm逐渐缩短.与纯Ni镀液体系电沉积的tm相比,在-740^-830mV较低阶跃电位下,Ni-Al2O3镀液体系电沉积的成核时间tm明显缩短,表明Al2O3微粒有助于镍的电结晶成核.在-890 mV阶跃电位下,Ni-Al2O3镀液体系电沉积初始阶段的成核过程满足Scharifker-Hills三维瞬时成核模型.
关键词
Ni—Al2O3膜
电结晶形核
I^t
曲线
Keywords
Ni-nanoAl2O3 coating
electro-crystallization nucleation
I- t curve
分类号
TB383.1 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
纳米Al_2O_3颗粒对镍电结晶过程的影响
谭澄宇
胡炜
崔航
刘宇
《电化学》
CAS
CSCD
北大核心
2009
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