化学研磨抛光技术在IC制造设备中的应用

IC制造设备中的关键零部件对于其内外表面粗糙度有着很高的要求。传统的研磨抛光技术很难达到这一要求,从而直接影响了IC制造设备的国产化进程。化学研磨抛光技术作为一种新兴的材料表面处理技术,通过化学药液浸蚀方式,可以在短时间内完成对于各种复杂形状零件的内外表面研磨抛光,同时可以使工件表面满足较高的物理化学性能要求,非常适合于IC制造设备中高真空度、高洁净度要求的零部件生产加工。

IC制造设备业曙光初露

期盼已久的经济复苏在2003年第四季度初露端倪，全球市场开始走出阴影，并将于今年迎来恢复性的增长。以IC制造业来说，2003年的销售额达到1427亿美元，同比增长18．4％；预计2004年销售额将超过1896亿美元，同比增长328％以上。这是VLSI研究公司2004年年初公布的数字。

全球IC和设备产业难以在今年下半年内复苏

著名投资银行Adams Harkness Ine．日前指出，与人们的广泛预期相反，没有迹象显示全球半导体和芯片制造设备产业将在2005年下半年复苏。