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IC制造中真实缺陷轮廓模型的比较
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作者 姜晓鸿 郝跃 +1 位作者 许冬岗 徐国华 《电子科学学刊》 CSCD 1998年第2期206-212,共7页
本文对现有的IC制造中真实缺陷轮廓的建模方法进行了比较,得到了一些有意义的结果。该结果为进行有效的集成电路(IC)成品率预报及故障分析提供了有益的借鉴。
关键词 ic缺陷 ic故障 制造工艺
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