期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
半导体IC清洗技术
被引量:
29
1
作者
李仁
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第9期44-47,共4页
介绍了半导体IC制程中存在的各种污染物类型及其对IC制程的影响和各种污染物的去除方法,并对湿法和干法清洗的特点及去除效果进行了分析比较。
关键词
半导体
IC
清洗
技术
湿
法
清洗
RCA
清洗
稀释化学
法
imec清洗法
单晶片
清洗
干
法
清洗
下载PDF
职称材料
题名
半导体IC清洗技术
被引量:
29
1
作者
李仁
机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第9期44-47,共4页
文摘
介绍了半导体IC制程中存在的各种污染物类型及其对IC制程的影响和各种污染物的去除方法,并对湿法和干法清洗的特点及去除效果进行了分析比较。
关键词
半导体
IC
清洗
技术
湿
法
清洗
RCA
清洗
稀释化学
法
imec清洗法
单晶片
清洗
干
法
清洗
Keywords
wet cleaning
RCA cleaning
diluted chemistry
imec
cleaning
single wafer cleaning
dry cleaning
分类号
TN305.97 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
半导体IC清洗技术
李仁
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2003
29
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部