期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
SUVA工艺改善色偏研究
1
作者 张勇 李林 +3 位作者 任驹 李凡 彭林 吴潘强 《光电子技术》 CAS 2024年第2期168-172,共5页
为优化SUVA3工艺中左右视角色偏(CR_((80/20)))较UV^(2)A工艺差的问题,从工艺、设计等方向,进行了组合曝光(PBS+WGP模式)、ITO狭缝角度、偏光片角度(WGP)等条件的探究。结果表明:组合曝光(PBS+WGP模式)、ITO角度、WGP角度均可优化色偏,... 为优化SUVA3工艺中左右视角色偏(CR_((80/20)))较UV^(2)A工艺差的问题,从工艺、设计等方向,进行了组合曝光(PBS+WGP模式)、ITO狭缝角度、偏光片角度(WGP)等条件的探究。结果表明:组合曝光(PBS+WGP模式)、ITO角度、WGP角度均可优化色偏,但从色偏收益和量产性角度考虑,ITO Slit角度+WGP角度调整更优,其最优条件为:WGP角度为f°(极限角度)+ITO狭缝角度为I°,可将SUVA3工艺色偏优化至UV^(2)A工艺水准,CR_((80/20))可达到35.6%。 展开更多
关键词 方位角 氧化铟锡薄膜狭缝 金属线栅偏振器 色偏
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部