ITO衬底上LiTaO_3薄膜的制备与介电特性

用溶胶凝胶法在ITO衬底上制备了钽酸锂(LiTaO3)薄膜,利用XRD、SEM和AFM对薄膜的晶向、表面形态等作了表征;研究了不同溶剂对LiTaO3溶胶稳定性的影响和不同退火条件对LiTaO3薄膜结晶的影响;利用Al/LiTaO3/ITO结构,测试了薄膜的介电系数和介电损耗.结果表明:每层薄膜都晶化退火比交替使用焦化、结晶退火能生长出质量更好的LiTaO3薄膜;频率1KHz时,介电损耗约0.4,相对介电系数约53.并讨论了介电损耗增大的原因.

ITO/PET衬底上掠射角溅射沉积WO_(3)薄膜及其电致变色性能

采用直流磁控反应溅射法,以不同掠射角度在ITO/PET衬底上沉积WO_(3)薄膜。利用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和能谱仪(EDS)对WO_(3)薄膜表面和断面的形貌及化学组成进行表征;利用电化学工作站和紫外分光光度计对WO_(3)薄膜的电化学性能和光学性能进行分析。结果表明,当掠射角α>60°时,薄膜表面形成类似于山峰状形貌,断面为纳米斜柱状结构,该结构有利于离子和电子的迁移。当掠射角α=80°时,沉积的WO_(3)薄膜具有最快离子扩散速率和最大光调制幅度,着色效率达到27.05 cm^(2)/C。同时,薄膜还表现出快速响应和良好循环稳定性。

V_2O_5光电薄膜的溶胶-凝胶制备及性能研究

以V_2O_5为原料，苯甲醇、异丁醇为溶剂，采用溶胶—凝胶（Sol-Gel）工艺制备了V_2O_5薄膜. 采用差热-失重（DTA-TG）、付里叶红外光谱(FT-IR)、X-射线衍射（XRD）等分析手段研究了V_2O_5薄膜的结构特性. 并研究了V_2O_5薄膜的透射光谱、气敏、伏安特性及温阻特性. 实验发现沉积在ITO导电玻璃衬底上的V_2O_5薄膜，烧结温度越高，透光性能越好；V_2O_5薄膜在常温下对NOx气体具有一定的气敏性能.

ITO／PZT-Ag2O／Pt铁电薄膜的光伏特性

研究了在透明导电ITO玻璃衬底上制备PZT-Ag2O铁电薄膜的工艺条件,并测量和表征了在不同衬底温度下生长的薄膜的相结构、表面形貌、铁电性能和光电特性。结果表明:在ITO玻璃衬底上可制备出铁电性能较好的PZT-Ag2O铁电薄膜;ITO/PZT-Ag2O/Pt铁电器件实现了可见光响应,其短路光电流和开路电压随极化电压的变化呈回线关系;产生这一现象的物理机制为:光生短路电流和开路电压的大小取决于退极化场和界面肖特基势垒的综合作用,不同的外加极化电压在PZT薄膜诱导出强度不同的退极化场,从而使光生短路电流和开路电压与外加极化电压呈回线型关系。