基于行业主导、雇主主体的新西兰职业教育与培训模式研究——以行业培训组织(ITOs)为例

全球化背景下各国产业结构转型与升级速度不断加快,为了培养助力新西兰经济高质量发展的技术技能人才,自1992年11月起新西兰各行业自发组建行业培训组织(ITOs)。行业培训组织(ITOs)是政府认可、行业所有的实体组织,在促进学员工作场所学习方面发挥着关键作用,尤其推动了行业主导、雇主深度参与的新西兰职业教育与培训模式的构建。通过分析行业培训组织(ITOs)的定位、特色与支持机制,对我国行业企业深度参与职业教育与培训有一定的启发和借鉴意义,表现在:突出雇主主体地位、行业标准与职业资格建设、法律法规体系完善、组建行业培训联盟、关注受训者基本能力培养等方面。

ITO/AgNWs/ITO薄膜的制备及其性能研究

随着显示面板向超大尺寸、超高清、可触控的方向发展,单一的氧化铟锡(ITO)薄膜难以满足显示器件越来越高的光电性能要求,因此复合导电薄膜得以发展。本文制备了以二维银纳米线(AgNWs)导电网络嵌入ITO薄膜形成的ITO(222)/AgNWs/ITO(400)复合薄膜结构,系统研究了AgNWs添加量和上层ITO薄膜溅射温度对复合薄膜结构与光电性能的影响,AgNWs金属导电网络不仅提升了薄膜的电学性能,还保持了优良的光学性能。结果表明,在旋涂600μL的AgNWs分散液、上层ITO薄膜的溅射温度为175℃时,制备的复合ITO薄膜方阻为7.13Ω/□,在550 nm处透过率为91.52%,且品质因数为57.82×10^(-3)Ω^(-1),实现了超低电阻率和高可见光透过率复合ITO薄膜的制备。

具有双线性发生率的随机酗酒模型

利用随机微分方程定性分析的方法,研究了一类具有双线性发生率的随机酗酒模型。将接触率系数的随机扰动引入确定型酗酒模型,研究了随机酗酒模型正解的存在性及唯一性。通过计算白噪声强度,得到了酗酒群体D(t)消失的充分性条件。研究结果显示,当外部干扰足够大时,酗酒群体、正在戒酒者、永久戒酒者都将消失。

ITO负载单原子钇吸附NO和CO的第一性原理研究

基于密度泛函理论,对氧化铟锡(Indium Tin Oxide,ITO)表面负载单原子Y模型的表面性能进行了第一性原理计算.根据表面能计算结果可知,单原子Y最稳定负载位置为空位(H),即确定了ITO负载单原子钇(Single-atom Y supported on ITO,Y/ITO)稳定模型.对ITO和Y/ITO表面吸附气体分子(NO和CO)模型的吸附性能进行了第一性原理计算.根据对比ITO和Y/ITO表面的吸附能和态密度计算结果可知,单原子钇负载提高了ITO表面的稳定性和吸附性能.根据对比Y/ITO表面吸附NO和CO气体分子的吸附能和态密度计算结果可知,NO和CO气体分子吸附均为自发行为,过程放热.且NO气体分子更容易吸附在Y/ITO表面,即Y/ITO对NO气体分子更敏感.

ITO导电玻璃单颗磨粒切削机理仿真试验研究

为研究氧化铟锡(indium tin oxide,ITO)导电玻璃材料的去除机理,采用单磨粒对材料进行切削仿真,建立了ITO导电玻璃的材料模型,根据加工表面形貌、应力和切削力情况分析了材料去除机理,之后研究了切削参数对切削力和残余应力的影响,并与钠钙玻璃进行对比分析。结果表明:在磨粒的切削过程中,材料的去除受ITO薄膜层、玻璃基底和内聚力接触行为的共同影响,会产生分层、通道开裂和层间断裂等失效形式;随着磨粒的进给,切削力在一定范围内波动,且呈现上升、稳定、降低的变化,同时磨粒的切削力与切削速度和切削深度呈正相关;薄膜上残余应力相比玻璃基底,数值更大且波动更剧烈;当切削深度接近ITO薄膜厚度时,薄膜的存在对磨粒切削行为的影响显著。

基于ITO的Co-ZnO电极的制备及对邻苯二酚的检测评价

采用分布电沉积法在ITO导电玻璃表面制备Co-ZnO电极传感器,并将其用于邻苯二酚的分析检测。利用SEM、EDS和XRD对制备的Co-ZnO电极进行表面形貌、元素组成和晶体结构分析,并利用循环伏安法和计时电流法对其进行电化学分析。结果表明,Co-ZnO电极对邻苯二酚具有非常明显的电催化活性,通过测试分析得到其线性范围为0.01~10 mmol/L、灵敏度为1429.67 mA/(mM·cm^(2))、检出限为0.87μmol/L。通过干扰试验可知,Co-ZnO电极对其有良好的选择性,且电极的重现性良好。

退火处理对低阻LCD屏ITO薄膜光电性能的影响

采用磁控溅射法制备氧化铟锡(ITO)薄膜,对制备好的ITO薄膜样品进行不同温度、不同时间的退火处理。用WGT-S透过率雾度仪、四探针测试仪测量退火后的电阻屏ITO薄膜光电性能参数,并采用扫描电子显微镜观测退火前后薄膜的表面状态,分析退火处理对电阻屏ITO薄膜光电性能的影响。研究结果表明:制备的ITO薄膜的最佳退火温度为400℃,退火时间约为70 min。

射频磁控溅射工艺参数对掺钨氧化铟锡透明导电薄膜性能的影响

ITO薄膜是目前应用最为广泛的透明导电薄膜,通过在ITO中掺杂其他金属可以进一步改善ITO薄膜的光学和电学性能。本文采用射频(RF)磁控溅射法制备了掺钨氧化铟锡(ITO∶W)透明导电薄膜,研究了薄膜厚度、表面形貌、晶体结构以及光学和电学性能与各溅射参数之间的关系。当溅射功率大于40 W时,制备的ITO∶W薄膜为方铁锰矿结构的多晶薄膜,此时薄膜表面光滑平整而且具有良好的结晶性。在基板温度320℃、溅射功率80 W、溅射时间15 min、工作气压0.6 Pa条件下得到了光学和电学性能优良的ITO∶W薄膜,其方块电阻为10.5Ω/、电阻率为4.41×10^(-4)Ω·cm,对应的载流子浓度为2.23×10^(20)cm^(-3)、迁移率为27.3 cm^(2)·V^(-1)·s^(-1)、可见光(400~700 nm)范围内平均透射率为90.97%。此外,本研究还发现通过调节基板温度影响氧元素的状态可以改变ITO∶W薄膜的电学性能。

钛金属双极板表面耐蚀与疏水涂层性能

为提高质子交换膜燃料电池钛双极板的耐蚀性能与疏水性能,采用溶胶-凝胶法在钛基体表面制备不同锡含量的掺锡氧化铟(ITO)涂层,通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和X射线衍射仪(XRD)对涂层表面形貌和组织结构进行表征分析,用粘结法评价涂层与基体的结合情况,并利用水接触角测试仪和电化学测量仪测试涂层的疏水性以及在模拟电池环境下(0.5 mol/L H_(2)SO_(4)+2 mg/L HF)的耐蚀性。结果表明:不同锡含量的ITO涂层对改善钛双极板的疏水性和耐蚀性具有不同程度的效果。ITO In^(3+)∶Sn^(4+)=1∶0.10涂层最为均匀、致密,与基体结合良好;其腐蚀电流密度为2.336μA/cm^(2),与基体相比下降了一个数量级;水接触角与电荷转移阻抗最大,水接触角由基体的43.98°升高至121.87°,表现为疏水性,且其电荷转移阻抗为55455Ω·cm^(2),约为基体电荷转移阻抗值的145倍,对钛金属双极板起到了最佳的耐蚀防护性。

基于MSM群体的随机HIV/AIDS传染病模型分析

艾滋病(AIDS)是人类感染HIV病毒而导致免疫系统受到破坏的一种危害性极高的传染病,同性恋是传播HIV的重要途经之一。考虑到男男性行为(MSM)的传播特征,以及环境中随机因素的影响,一个基于MSM群体的随机HIV/AIDS传染病动力学模型被建立。利用随机微分方程的基本理论,分析了系统的动力学行为。首先,对于任意给定的正初值,证明了系统存在唯一的全局正解。从生物学的角度来看,这是必须成立的,这一结论确保了理论研究的合理性。进一步,鉴于在研究传染病模型的动态变化时,讨论疾病的消失与流行具有重要的应用价值。因此,对所建立的随机HIV/AIDS动力学模型中疾病的灭绝与流行进行了重点分析。特别地,利用伊藤公式,并通过构造一些特殊的函数,给出了疾病灭绝的充分条件;研究了系统唯一正的遍历平稳分布的存在性,即疾病盛行的存在性。最后,通过数值模拟,验证了疾病灭绝和盛行的理论结果,并通过与确定性系统的理论结果相比较,分析了随机扰动对系统动力学行为的影响。

Effects of power on ion behaviors in radio-frequency magnetron sputtering of indium tin oxide(ITO)

This study delves into ion behavior at the substrate position within RF magnetron discharges utilizing an indium tin oxide(ITO)target.The positive ion energies exhibit an upward trajectory with increasing RF power,attributed to heightened plasma potential and initial emergent energy.Simultaneously,the positive ion flux escalates owing to amplified sputtering rates and electron density.Conversely,negative ions exhibit broad ion energy distribution functions(IEDFs)characterized by multiple peaks.These patterns are clarified by a combination of radiofrequency oscillation of cathode voltage and plasma potential,alongside ion transport time.This elucidation finds validation in a one-dimensional model encompassing the initial ion energy.At higher RF power,negative ions surpassing 100 e V escalate in both flux and energy,posing a potential risk of sputtering damages to ITO layers.

ITO靶材烧结用垫片自动磨床设计研究

针对ITO靶材烧结用垫片生产成本高、效率低、质量差的难题,设计了一款加工该垫片的自动磨床。通过研究其功能需求,确定磨削方式,进行了总体、机构设计。结构设计通过集成创新方式设计了新颖的分料、上料、磨削、下料、砂轮修整、除尘、清洁及安全等机构,并对其进行可靠性计算及实验验证。该自动磨床设计巧妙,结构简单,安全高效,实现了垫片自动化加工,已应用于生产中,效果显著。

ITO薄膜的制备及其光电性能研究

随着HJT太阳电池的发展,对其氧化铟锡(ITO)薄膜的研究日益增多。通过直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备ITO薄膜,研究了氧含量、溅射功率、沉积温度及溅射气压对ITO薄膜光电性能的影响。研究结果显示:1)ITO薄膜的光电性能对氧含量较为敏感,随着氧含量增加,ITO薄膜的电阻率也随之增加,而透过率则呈先上升后下降,然后基本保持不变的趋势;2)随着沉积温度升高,ITO薄膜的透过率也随之升高,而电阻率则呈先下降后上升的趋势;3)随着溅射气压的升高,ITO薄膜的电阻率呈上升趋势,而透过率则是先降低再略微升高;4)当氧含量在1.8%~2.0%,溅射功率在3000~4000 W,沉积温度在150~190℃,溅射气压在0.5~0.7 Pa时,ITO薄膜具有较优的光电性能。因此,在合理范围内提高沉积温度,其则会具有退火作用,有助于进一步改善ITO薄膜的光电性能。

柔性精细铜引线Cu/ITO蚀刻液的制备及工艺研究

目的:为实现柔性精细铜引线,通过配制Cu/ITO双膜系蚀刻液并对其蚀刻工艺进行研究,得到蚀刻液的合理配比和最佳的工艺参数。方法:通过配制的蚀刻液进行分析,测试其对Cu膜的蚀刻程度,通过对蚀刻温度、喷淋压力、蚀刻时间、药液浓度等工艺参数进行调整控制,利用蚀刻液的高选择性,使Cu/ITO双膜系刻蚀一步完成图案化。结果:通过试验得到Cu/ITO双膜系蚀刻液的合理配比和最佳的工艺参数,进行批量化试验生产得到线宽线距L/S规格为(35±5)μm的产品,生产的Cu-Film Sensor在外观及功能测试方面可达到规格要求,金属铜线路边缘整齐美观,绝缘性在50 MΩ以上,蚀刻后膜层附着力达到5B,产品高温高湿可靠性均符合规格要求,制程C pK大于1.33。意义:该工艺整个过程操作简练、安全环保而且配制的药液体系更加均匀稳定,可进行批量化稳定生产。

基于(G'/G)展开法求解(1 + 1)维积分微分Ito方程的新精确解

(G'/G)展开法可以有效的求解出非线性偏微分方程的精确解。本文利用(G'/G)展开法及齐次平衡原则,对(1 + 1)维积分微分Ito方程进行求解,得到该方程新的精确解,这些解包括双曲函数解、三角函数解以及有理函数解。根据待定参数之间的关系对参数进行取值,运用数学软件Maple画出精确解的图像。

应用于LED的ITO薄膜光电性能研究

为提高出光效率,在出光面和电极之间需要一种导电性好、透光性高的薄膜材料。文章研究了直流磁控溅射法制备应用于LED的ITO薄膜时,O2流量、溅射功率、溅射气压等工艺参数对薄膜光电性能的影响,并通过实验得出结论。

ITO靶材废料回收铟技术研究进展

ITO靶材废料的高效回收利用对全球铟资源循环与环境保护具有重要意义。本文概述了ITO靶材废料回收铟的现有技术,分析其优缺点,并提出适用于产业化应用的高效绿色回收铟技术。

面向隐身需求的飞机机表灯罩镀膜技术研究

随着低可探测技术的发展以及飞机隐身作战的需求,隐身镀膜技术在航空领域越来越受到关注。本文面向机载隐身透明件需同时兼具光学透光性能、导电性及苛刻的环境使用性三方面的要求,在总结近年来国内外透明件表面镀膜技术的的基础上,根据隐身需要设计研究了一种飞机机表灯罩ITO膜层类镀膜方案,并通过试验论证了该方案的可行性。通过ITO/Au/ITO复合多层薄膜法制备的薄膜性能优异,满足灯罩使用环境的要求。该方案有效解决了灯罩在使用过程中的镀膜开裂及脱落问题,提高了灯罩膜层的可靠性。

离线磁控溅射制备ITO镀膜玻璃及其应用

低辐射镀膜玻璃具有良好的透光性、优异的隔热性、保温性,被广泛地应用到节能门窗及节能建筑领域。基于对离线磁控溅射生产ITO导电膜玻璃进行详细介绍,分析其制备工艺、产品特点,通过与常规含Ag的Low-E玻璃样品进行理化试验对比,在此工艺下制备的ITO镀膜玻璃透过率高、具有良好的耐酸碱腐蚀性和耐磨性,应用前景广阔。

Ito方程的Painlevé分析与精确解

该文用Painlevé方法验证了Ito方程的可积性.从Ito方程的Laurent展开式出发,通过有限项截断得到一个B cklund变换然后用B cklund变换构造了Ito方程的一些有趣的精确解.