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不同退火气氛下溶胶-凝胶法制备IZO薄膜晶体管性能研究
1
作者
宋凯安
闫兴振
+1 位作者
李博
张轶强
《吉林建筑大学学报》
CAS
2023年第4期84-88,共5页
使用溶胶-凝胶法制备铟掺氧化锌(IZO)沟道层,并构建了底栅顶接触的薄膜晶体管(TFT)器件.研究不同热处理气氛对其电学性能以及表面形貌的影响.首先将所制备的IZO薄膜分别在空气、氧气、真空环境下进行550℃退火处理1 h.使用半导体参数仪...
使用溶胶-凝胶法制备铟掺氧化锌(IZO)沟道层,并构建了底栅顶接触的薄膜晶体管(TFT)器件.研究不同热处理气氛对其电学性能以及表面形貌的影响.首先将所制备的IZO薄膜分别在空气、氧气、真空环境下进行550℃退火处理1 h.使用半导体参数仪对制备的TFT器件进行电学性能测试,使用原子力显微镜(AFM)表征薄膜的表面形貌.经分析发现,在真空环境退火处理后,IZO-TFT器件综合性能较好,其迁移率达到0.12 cm^(2)/V·S,电流开关比为2.92×10^(5),阈值电压为-8 V.
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关键词
溶胶-凝胶法
izo薄膜晶体管
退火氛围
电学性能
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职称材料
题名
不同退火气氛下溶胶-凝胶法制备IZO薄膜晶体管性能研究
1
作者
宋凯安
闫兴振
李博
张轶强
机构
吉林建筑大学电气与计算机学院
出处
《吉林建筑大学学报》
CAS
2023年第4期84-88,共5页
文摘
使用溶胶-凝胶法制备铟掺氧化锌(IZO)沟道层,并构建了底栅顶接触的薄膜晶体管(TFT)器件.研究不同热处理气氛对其电学性能以及表面形貌的影响.首先将所制备的IZO薄膜分别在空气、氧气、真空环境下进行550℃退火处理1 h.使用半导体参数仪对制备的TFT器件进行电学性能测试,使用原子力显微镜(AFM)表征薄膜的表面形貌.经分析发现,在真空环境退火处理后,IZO-TFT器件综合性能较好,其迁移率达到0.12 cm^(2)/V·S,电流开关比为2.92×10^(5),阈值电压为-8 V.
关键词
溶胶-凝胶法
izo薄膜晶体管
退火氛围
电学性能
Keywords
sol-gel method
izo
thin film transistor
annealing atmosphere
electrical performance
分类号
TN3 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
不同退火气氛下溶胶-凝胶法制备IZO薄膜晶体管性能研究
宋凯安
闫兴振
李博
张轶强
《吉林建筑大学学报》
CAS
2023
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