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In2Ge2O7薄膜制备及其紫外光敏特性研究
1
作者
冯琳
褚夫同
+2 位作者
唐永旭
李瑶
刘兴钊
《半导体光电》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期204-206,共3页
以In2O3和GeO2为原料,采用碳还原法制备了In2Ge2O7多晶薄膜,利用XRD和SEM对薄膜的结构和形貌进行了表征。对基于In2Ge2O7薄膜的金属-半导体-金属(MSM)紫外探测器进行了紫外光电导特性测量,结果显示:在波长为250nm的紫外光照射下,在5V偏...
以In2O3和GeO2为原料,采用碳还原法制备了In2Ge2O7多晶薄膜,利用XRD和SEM对薄膜的结构和形貌进行了表征。对基于In2Ge2O7薄膜的金属-半导体-金属(MSM)紫外探测器进行了紫外光电导特性测量,结果显示:在波长为250nm的紫外光照射下,在5V偏压下,器件的光电流为727μA(暗电流为12μA),光响应度达到262.9A.W-1,光响应上升时间约为67s,下降时间约为15s。分析认为较长的响应时间是由于内部的缺陷与位错造成的。初步研究结果表明:In2Ge2O7薄膜可以作为一种良好的日盲紫外探测材料。
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关键词
in2ge2o7
薄膜
碳还原法
紫外探测器
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职称材料
题名
In2Ge2O7薄膜制备及其紫外光敏特性研究
1
作者
冯琳
褚夫同
唐永旭
李瑶
刘兴钊
机构
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
出处
《半导体光电》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期204-206,共3页
文摘
以In2O3和GeO2为原料,采用碳还原法制备了In2Ge2O7多晶薄膜,利用XRD和SEM对薄膜的结构和形貌进行了表征。对基于In2Ge2O7薄膜的金属-半导体-金属(MSM)紫外探测器进行了紫外光电导特性测量,结果显示:在波长为250nm的紫外光照射下,在5V偏压下,器件的光电流为727μA(暗电流为12μA),光响应度达到262.9A.W-1,光响应上升时间约为67s,下降时间约为15s。分析认为较长的响应时间是由于内部的缺陷与位错造成的。初步研究结果表明:In2Ge2O7薄膜可以作为一种良好的日盲紫外探测材料。
关键词
in2ge2o7
薄膜
碳还原法
紫外探测器
Keywords
in2ge2o7 thin film
carbothermal reduction method
ultraviolet photodetector
分类号
O484.41 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
In2Ge2O7薄膜制备及其紫外光敏特性研究
冯琳
褚夫同
唐永旭
李瑶
刘兴钊
《半导体光电》
CAS
CSCD
北大核心
2012
0
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