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Molecular Beam Epitaxy of Zero Lattice-Mismatch InAs/GaSb Type-Ⅱ Superlattice 被引量:2
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作者 于海龙 吴皓越 +2 位作者 朱海军 宋国峰 徐云 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2016年第12期142-145,共4页
Type-Ⅱ InAs/GaSb superlattiees made of 13 InAs monolayers (MLs) and 7 GaSb MLs are grown on GaSb substrates by solid source molecular beam epitaxy. To obtain lattice-matched structures, thin InSb layers are inserte... Type-Ⅱ InAs/GaSb superlattiees made of 13 InAs monolayers (MLs) and 7 GaSb MLs are grown on GaSb substrates by solid source molecular beam epitaxy. To obtain lattice-matched structures, thin InSb layers are inserted between InAs and GaSb layers. We complete a series of experiments to investigate the influence of the InSb deposition time, Ⅴ/Ⅲ beam-equivalent pressure ratio and interruption time between each layer, and then characterize the superlattice (SL) structures with high-resolution x-ray diffraction and atomic force microscopy. The optimized growth parameters are applied to grow the 100-period SL structure, resulting in the full-width half-maximum of 29.55 arcsee for the first SL satellite peak and zero lattice-mismatch between the zero-order SL peak and the GaSb substrate peak. 展开更多
关键词 gasb is InSb Molecular Beam Epitaxy of Zero Lattice-Mismatch inas/gasb type superlattice inas of
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Interface effect on superlattice quality and optical properties of InAs/GaSb type-Ⅱ superlattices grown by molecular beam epitaxy 被引量:2
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作者 刘昭君 祝连庆 +3 位作者 郑显通 柳渊 鹿利单 张东亮 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第12期671-676,共6页
We systematically investigate the influence of InSb interface(IF)engineering on the crystal quality and optical properties of strain-balanced InAs/GaSb type-Ⅱsuperlattices(T2SLs).The type-Ⅱsuperlattice structure is ... We systematically investigate the influence of InSb interface(IF)engineering on the crystal quality and optical properties of strain-balanced InAs/GaSb type-Ⅱsuperlattices(T2SLs).The type-Ⅱsuperlattice structure is 120 periods InAs(8 ML)/GaSb(6 ML)with different thicknesses of InSb interface grown by molecular beam epitaxy(MBE).The highresolution x-ray diffraction(XRD)curves display sharp satellite peaks,and the narrow full width at half maximum(FWHM)of the 0th is only 30-39 arcsec.From high-resolution cross-sectional transmission electron microscopy(HRTEM)characterization,the InSb heterointerfaces and the clear spatial separation between the InAs and GaSb layers can be more intuitively distinguished.As the InSb interface thickness increases,the compressive strain increases,and the surface“bright spots”appear to be more apparent from the atomic force microscopy(AFM)results.Also,photoluminescence(PL)measurements verify that,with the increase in the strain,the bandgap of the superlattice narrows.By optimizing the InSb interface,a high-quality crystal with a well-defined surface and interface is obtained with a PL wavelength of 4.78μm,which can be used for mid-wave infrared(MWIR)detection. 展开更多
关键词 inas/gasb type-superlattice molecular beam epitaxy interface mid-wave infrared
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Strain-induced the dark current characteristics in InAs/GaSb type-Ⅱ superlattice for mid-wave detector 被引量:2
3
作者 H.J.Lee S.Y.Ko +1 位作者 Y.H.Kim J.Nah 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2020年第6期35-38,共4页
Type-Ⅱsuperlattice(T2SL)materials are the key element for infrared(IR)detectors.However,it is well known that the characteristics of the detectors with the T2SL layer are greatly affected by the strain developed duri... Type-Ⅱsuperlattice(T2SL)materials are the key element for infrared(IR)detectors.However,it is well known that the characteristics of the detectors with the T2SL layer are greatly affected by the strain developed during the growth process,which determines the performance of IR detectors.Therefore,great efforts have been made to properly control the strain effect and develop relevant analysis methods to evaluate the strain-induced dark current characteristics.In this work,we report the strain-induced dark current characteristics in InAs/GaSb T2SL MWIR photodetector.The overall strain of InAs/GaSb T2SL layer was analyzed by both high-resolution X-ray diffraction(HRXRD)and the dark current measured from the absorber layer at the elevated temperatures(≥110 K),where the major leakage current component is originated from the reduced minority carrier lifetime in the absorber layer.Our findings indicate that minority carrier lifetime increases as the tensile strain on the InAs/GaSb T2SL is more compensated by the compressive strain through‘InSb-like’interface,which reduces the dark current density of the device.Specifically,tensile strain compensated devices exhibited the dark current density of less than 2×10^-5 A/cm^2 at 120 K,which is more than one order of magnitude lower value compared to that of the device without tensile strain relaxation. 展开更多
关键词 mid-wave detector inas/gasb typesuper lattice dark current
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Growth of high material quality InAs/GaSb type-Ⅱ superlattice for long-wavelength infrared range by molecular beam epitaxy
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作者 林芳祁 李农 +10 位作者 周文广 蒋俊锴 常发冉 李勇 崔素宁 陈伟强 蒋洞微 郝宏玥 王国伟 徐应强 牛智川 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第9期624-627,共4页
By optimizing theⅤ/Ⅲbeam-equivalent pressure ratio,a high-quality InAs/GaSb type-Ⅱsuperlattice material for the long-wavelength infrared(LWIR)range is achieved by molecular beam epitaxy(MBE).High-resolution x-ray d... By optimizing theⅤ/Ⅲbeam-equivalent pressure ratio,a high-quality InAs/GaSb type-Ⅱsuperlattice material for the long-wavelength infrared(LWIR)range is achieved by molecular beam epitaxy(MBE).High-resolution x-ray diffraction(HRXRD),atomic force microscopy(AFM),and Fourier transform infrared(FTIR)spectrometer are used to characterize the material growth quality.The results show that the full width at half maximum(FWHM)of the superlattice zero-order diffraction peak,the mismatching of the superlattice zero-order diffraction peak between the substrate diffraction peaks,and the surface roughness get the best results when the beam-equivalent pressure(BEP)ratio reaches the optimal value,which are 28 arcsec,13 arcsec,and 1.63?,respectively.The intensity of the zero-order diffraction peak is strongest at the optimal value.The relative spectral response of the LWIR detector shows that it exhibits a 100%cut-off wavelength of 12.6μm at 77 K.High-quality epitaxial materials have laid a good foundation for preparing high-performance LWIR detector. 展开更多
关键词 type-superlattice inas/gasb LONG-WAVELENGTH strain-balanced
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InAs/GaSbⅡ类超晶格长波红外探测器研究进展
5
作者 田亚芳 史衍丽 李方江 《红外技术》 CSCD 北大核心 2023年第8期799-807,共9页
本文系统报道了基于InAs/GaSbⅡ类超晶格(T2SLs)的长波红外探测器的研究进展。从衬底、材料生长以及器件性能角度对比分析了基于GaSb、InAs衬底的各种器件结构的优缺点。分析结果表明,以InAs为衬底、吸收区材料为InAs/InAs1-xSbx、PB1I... 本文系统报道了基于InAs/GaSbⅡ类超晶格(T2SLs)的长波红外探测器的研究进展。从衬底、材料生长以及器件性能角度对比分析了基于GaSb、InAs衬底的各种器件结构的优缺点。分析结果表明,以InAs为衬底、吸收区材料为InAs/InAs1-xSbx、PB1IB2N型的结构为相对优化的器件结构设计,结合ZnS和Ge的多层膜结构设计或者重掺杂缓冲层,同时采用电感耦合等离子体(inductively coupled plasma)干法刻蚀工艺,该器件的50%截止波长可达12μm,量子效率(quantum efficiency)可提升到65%以上,暗电流密度降低至1×10^(-5) A/cm^(2)。并归纳总结了InAs/GaSb T2SLs长波红外探测器未来的发展趋势。 展开更多
关键词 inas/gasb类超晶格 器件结构 暗电流 量子效率 结构优化
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InAs/GaSbⅡ类超晶格双色红外焦平面器件的干法刻蚀与湿法腐蚀制备对比研究
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作者 温涛 胡雨农 +3 位作者 李景峰 赵成城 王国伟 刘铭 《红外》 CAS 2023年第4期1-6,共6页
分别采用干法刻蚀工艺路线和湿法腐蚀工艺路线制备了面阵规模为320×256、像元中心距为30μm的InAs/GaSbⅡ类超晶格长/长波双色红外焦平面器件,并对其台面形貌、接触孔形貌、伏安特性以及互连读出电路并封入杜瓦后的中测性能进行了... 分别采用干法刻蚀工艺路线和湿法腐蚀工艺路线制备了面阵规模为320×256、像元中心距为30μm的InAs/GaSbⅡ类超晶格长/长波双色红外焦平面器件,并对其台面形貌、接触孔形貌、伏安特性以及互连读出电路并封入杜瓦后的中测性能进行了对比研究。总结了采用干法工艺和湿法工艺制备双色InAs/GaSbⅡ类超晶格焦平面器件的特点。该研究对InAs/GaSbⅡ类超晶格焦平面器件的研制具有参考意义。 展开更多
关键词 inas/gasb 类超晶格 焦平面 双色
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Low Crosstalk Three-Color Infrared Detector by Controlling the Minority Carriers Type of InAs/GaSb Superlattices for Middle-Long and Very-Long Wavelength 被引量:5
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作者 蒋洞微 向伟 +7 位作者 国凤云 郝宏玥 韩玺 李晓超 王国伟 徐应强 于清江 牛智川 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2016年第4期151-154,共4页
We report a type-Ⅱ InAs/GaSb superlattice three-color infrared detector for mid-wave (MW), long-wave (LW), and very long-wave (VLW) detections. The detector structure consists of three contacts of NIPIN archite... We report a type-Ⅱ InAs/GaSb superlattice three-color infrared detector for mid-wave (MW), long-wave (LW), and very long-wave (VLW) detections. The detector structure consists of three contacts of NIPIN architecture for MW and LW detections, and hetero-junction NIP architecture for VLW detection. It is found that the spectral crosstalks can be significantly reduced by controlling the minority carriers transport via doping beryllium in the two active regions of NIPIN section. The crosstalk detection at MW, LW, and VLW signals are achieved by selecting the bias voltages on the device. At 77K, the cutoff wavelengths of the three-color detection are 5.3μm (at OmV), 141μm (at 300mV) and 19μm (at -20mV) with the detectivities of 4.6xlO11 cm.Hzl/ZW-1, 2.3×10^10 cm.Hzl/2W-1, and 1.0×10^10cm.Hzl/2W-1 for MW, LW and VLW. The crosstalks of the MW channel, LW channel, and VLW channel are almost 0, 0.25, and 0.6, respectively. 展开更多
关键词 gasb on of Low Crosstalk Three-Color Infrared Detector by Controlling the Minority Carriers type of inas/gasb superlattices for Middle-Long and Very-Long Wavelength by inas for LONG
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InAs/GaSb Ⅱ类超晶格红外探测器背减薄技术研究
8
作者 王晓乾 胡雨农 +3 位作者 游聪娅 李景峰 李海燕 刘铭 《红外》 CAS 2023年第10期15-20,共6页
针对InAs/GaSb Ⅱ类超晶格红外探测器开发高质量背减薄工艺,获得了高质量衬底表面,改善了超晶格红外探测器组件的成像品质。采用机械抛光和机械化学抛光相结合的工艺减薄衬底,其中机械抛光削减衬底大部分厚度,然后通过机械化学抛光去除... 针对InAs/GaSb Ⅱ类超晶格红外探测器开发高质量背减薄工艺,获得了高质量衬底表面,改善了超晶格红外探测器组件的成像品质。采用机械抛光和机械化学抛光相结合的工艺减薄衬底,其中机械抛光削减衬底大部分厚度,然后通过机械化学抛光去除机械损伤。机械化学抛光过程中,在压力、转速等不变的情况下,主要研究机械化学抛光液的pH值对衬底表面质量的影响。实验结果表明,当机械化学抛光液的pH值为9.4时,获得了高质量、低损伤的芯片衬底表面,并实现了最佳的探测器组件成像效果。 展开更多
关键词 inas/gasb类超晶格 红外探测器 背减薄 PH值
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Very long wavelength infrared focal plane arrays with 50% cutoff wavelength based on type-Ⅱ In As/GaSb superlattice 被引量:2
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作者 韩玺 向伟 +5 位作者 郝宏玥 蒋洞微 孙姚耀 王国伟 徐应强 牛智川 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第1期563-567,共5页
A very long wavelength infrared(VLWIR) focal plane array based on In As/Ga Sb type-Ⅱ super-lattices is demonstrated on a Ga Sb substrate. A hetero-structure photodiode was grown with a 50% cut-off wavelength of 15... A very long wavelength infrared(VLWIR) focal plane array based on In As/Ga Sb type-Ⅱ super-lattices is demonstrated on a Ga Sb substrate. A hetero-structure photodiode was grown with a 50% cut-off wavelength of 15.2 μm, at 77 K.A 320×256 VLWIR focal plane array with this design was fabricated and characterized. The peak quantum efficiency without an antireflective coating was 25.74% at the reverse bias voltage of-20 mV, yielding a peak specific detectivity of 5.89×10^10cm·Hz^1/2·W^-1. The operability and the uniformity of response were 89% and 83.17%. The noise-equivalent temperature difference at 65 K exhibited a minimum at 21.4 mK, corresponding to an average value of 56.3 mK. 展开更多
关键词 very long wavelength infrared type- inas/gasb super-lattices(T2SLs) focal plane array
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InAs/GaSbⅡ类超晶格红外探测器光电特性理论计算 被引量:6
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作者 史衍丽 李凡 +1 位作者 赵鲁生 徐文 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2011年第6期981-985,共5页
InAs/GaSbⅡ类超晶格是目前国际上公认的制备第三代高性能红外探测器的理想材料之一,具有能带结构可调、波长响应范围宽、量子效率高、利于实现大面积焦平面阵列等独特优势。为了充分利用这一材料的优点,对材料进行优化设计,采用Kronig-... InAs/GaSbⅡ类超晶格是目前国际上公认的制备第三代高性能红外探测器的理想材料之一,具有能带结构可调、波长响应范围宽、量子效率高、利于实现大面积焦平面阵列等独特优势。为了充分利用这一材料的优点,对材料进行优化设计,采用Kronig-Penney模型对材料的能带结构进行了理论计算;同时,利用输运理论的质量和动量平衡方程对材料的光电导特性进行了计算分析,探讨了这类材料进行非制冷探测的优势。计算结果对深入认识该类材料的光电特性,从而对材料及器件进行优化设计具有重要的指导意义。 展开更多
关键词 inas/gasb类超晶格 第三代红外探测器 Kronig-Penney方法 质量和动量平衡方程
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GaSb基的InAs/GaSbⅡ类超晶格背景载流子浓度的测量 被引量:3
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作者 徐志成 陈建新 何力 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2012年第1期45-50,共6页
高质量的InAs/GaSbⅡ类超晶格(SLs)材料生长在晶格匹配的GaSb衬底上,由于GaSb衬底具有良好的导电性,传统的霍尔测量难以直接得到外延超晶格材料的载流子浓度等电学参数,所以,如何准确地获得InAs/GaSb超晶格外延材料中的载流子浓度成为... 高质量的InAs/GaSbⅡ类超晶格(SLs)材料生长在晶格匹配的GaSb衬底上,由于GaSb衬底具有良好的导电性,传统的霍尔测量难以直接得到外延超晶格材料的载流子浓度等电学参数,所以,如何准确地获得InAs/GaSb超晶格外延材料中的载流子浓度成为了研究人员关注的焦点之一。主要介绍了InAs/GaSbⅡ类超晶格背景载流子浓度测量的四种典型的方法:低温霍尔技术;变磁场霍尔技术以及迁移率谱拟合;衬底去除技术;电容-电压技术。并给出了各种方法的基本原理,评价了每种方法的优缺点。 展开更多
关键词 inas/gasb类超晶格 背景载流子浓度 gasb衬底 霍尔测量 迁移率谱 去衬底 电容-电压
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InAs/(In)GaSbⅡ类超晶格红外探测器研究现状 被引量:5
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作者 史衍丽 余连杰 田亚芳 《红外技术》 CSCD 北大核心 2007年第11期621-626,共6页
InAs/GaSbⅡ类超晶格具有优越的材料性能,量子效率高,暗电流小,能带结构可调,在国际上被认为是第三代红外焦平面探测器的优选材料。对目前Ⅱ类超晶格红外焦平面在国外的发展状况、现有的材料技术、探测器技术以及潜在的应用进行了介绍,... InAs/GaSbⅡ类超晶格具有优越的材料性能,量子效率高,暗电流小,能带结构可调,在国际上被认为是第三代红外焦平面探测器的优选材料。对目前Ⅱ类超晶格红外焦平面在国外的发展状况、现有的材料技术、探测器技术以及潜在的应用进行了介绍,旨在尽快发展属于我国的第三代InAs/(In)GaSbⅡ类超晶格红外探测器技术。 展开更多
关键词 inas/gasb:类超晶格 红外探测器 第三代焦平面
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InAs/GaSbⅡ型超晶格红外探测器的发展 被引量:1
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作者 殷景志 高福斌 +4 位作者 汤艳娜 张天舒 刘驰 王一丁 杜国同 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2007年第8期699-701,共3页
InAs/GaSbⅡ型超晶格具有特殊的能带结构,做成的探测器工作波长可覆盖3~30 μm,文中阐明了Ⅱ型超晶格探测器的工作机理,并综述了目前国外利用InAs/GaSbⅡ型超晶格能带结构的特殊性广泛开展对其材料和器件研究的新进展.
关键词 inas/gasb 型超晶格 红外探测器
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InAs/GaSbⅡ类超晶格与HgCdTe红外探测器的比较研究 被引量:2
14
作者 余连杰 邓功荣 苏玉辉 《红外技术》 CSCD 北大核心 2012年第12期683-689,共7页
HgCdTe、QWIP和InAs/GaSbⅡ类超晶格被公认是第三代红外焦平面探测器的首选。主要对比分析了HgCdTe和InAs/GaSbⅡ类超晶格红外探测器,InAs/GaSbⅡ类超晶格具有响应波段宽且精确可控、工作温度高、载流子寿命长、暗电流低和均匀性好等优... HgCdTe、QWIP和InAs/GaSbⅡ类超晶格被公认是第三代红外焦平面探测器的首选。主要对比分析了HgCdTe和InAs/GaSbⅡ类超晶格红外探测器,InAs/GaSbⅡ类超晶格具有响应波段宽且精确可控、工作温度高、载流子寿命长、暗电流低和均匀性好等优点,使其在甚长波、多色以及非制冷红外焦平面阵列等方面具有广阔的发展应用前景。 展开更多
关键词 inas gasb HgCdTe类超晶格 红外探测器
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分子束外延InAs/GaSb Ⅱ类超晶格材料 被引量:1
15
作者 邢伟荣 刘铭 +2 位作者 郭喜 周朋 周立庆 《红外》 CAS 2017年第12期17-20,共4页
InAs/GaSb Ⅱ类超晶格由于具有独特的能带结构和良好的材料性能被认为是第三代红外探测器的首选,近年来被广泛研究,并取得快速发展。分子束外延能够精确控制材料界面与周期厚度,是超晶格材料生长的主流手段。利用分子束外延技术在GaSb... InAs/GaSb Ⅱ类超晶格由于具有独特的能带结构和良好的材料性能被认为是第三代红外探测器的首选,近年来被广泛研究,并取得快速发展。分子束外延能够精确控制材料界面与周期厚度,是超晶格材料生长的主流手段。利用分子束外延技术在GaSb衬底上分别生长了中波、长波超晶格材料,并对所生长的超晶格材料的性能进行了全面表征,最后用制备的面阵器件验证了该材料的性能。 展开更多
关键词 inas/gasb 类超晶格 分子束外延 红外探测器
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InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波红外焦平面探测器研究
16
作者 温涛 邢伟荣 +7 位作者 李海燕 李春领 刘铭 李忠贺 郭喜 亢喆 张智超 陈彦冠 《红外》 CAS 2021年第5期1-6,共6页
InAs/GaSb Ⅱ类超晶格材料是第三代红外焦平面探测器的优选材料。报道了一种面阵规模为320×256、像元中心距为30 m的InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波红外焦平面器件。在77 K时,该器件的平均峰值探测率为7.6×1010 cm·Hz1/2·... InAs/GaSb Ⅱ类超晶格材料是第三代红外焦平面探测器的优选材料。报道了一种面阵规模为320×256、像元中心距为30 m的InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波红外焦平面器件。在77 K时,该器件的平均峰值探测率为7.6×1010 cm·Hz1/2·W^(-1),盲元率为1.46%,响应非均匀性为7.55%,噪声等效温差(Noise Equivalent Temperature Difference,NETD)为25.5 mK。经计算可知,这种器件的峰值量子效率为26.2%,50%截止波长为9.1 m。最后对该器件进行了成像演示。结果表明,该研究为后续的相关器件研制奠定了基础。 展开更多
关键词 inas/gasb类超晶格 长波红外 焦平面阵列
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AlAsSb的外延再生长对InAs/GaSb红外探测器暗电流抑制效果研究
17
作者 严定钰 沈祥 +3 位作者 王庶民 石张勇 张焱超 张凡 《宁波大学学报(理工版)》 CAS 2023年第3期87-93,共7页
采用分子束外延(MBE)技术外延再生长AlAsSb,对InAs/GaSb Ⅱ类超晶格(T2SLs)长波红外探测器的表面缺陷进行钝化,实现了暗电流的显著降低.首先,研究了湿法腐蚀浅台面的最佳腐蚀液配比,获得了低横向腐蚀、光滑的侧壁以及均匀的腐蚀界面.随... 采用分子束外延(MBE)技术外延再生长AlAsSb,对InAs/GaSb Ⅱ类超晶格(T2SLs)长波红外探测器的表面缺陷进行钝化,实现了暗电流的显著降低.首先,研究了湿法腐蚀浅台面的最佳腐蚀液配比,获得了低横向腐蚀、光滑的侧壁以及均匀的腐蚀界面.随后,使用AlAsSb/AlAs/GaAs、AlAsSb/GaSb两种不同的外延再生长组合和单一的SiO_(2)薄层分别对刻蚀后的台面进行钝化,同时保留一个没有钝化的样品作为对照,最后对4种不同钝化条件下探测器的暗电流特性进行了测量.结果发现,使用AlAsSb/GaSb外延再生长钝化层的器件暗电流得到了进一步降低,使用SiO_(2)钝化层的效果次之,而使用AlAsSb/AlAs/GaAs外延再生长钝化层的性能相对较差.上述结果表明,外延再生长钝化技术是降低长波红外探测器暗电流的一种有效方法. 展开更多
关键词 外延再生长 表面钝化 inas/gasb类超晶格 长波红外探测器 湿法刻蚀
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InAs/GaSbⅡ类超晶格红外探测器量子效率计算研究 被引量:2
18
作者 张磊 张亮 +2 位作者 张小雷 姚官生 彭震宇 《红外技术》 CSCD 北大核心 2016年第4期315-318,324,共5页
首先分析了量子效率计算的相关理论,然后分析利用红外中波In As/Ga SbⅡ类超晶格材料进行光伏探测器研制,在对器件进行电学性能测试及光谱响应测试基础上,利用理论分析和测试数据计算出研制器件的实际电流响应率,再将实际电流响应率与... 首先分析了量子效率计算的相关理论,然后分析利用红外中波In As/Ga SbⅡ类超晶格材料进行光伏探测器研制,在对器件进行电学性能测试及光谱响应测试基础上,利用理论分析和测试数据计算出研制器件的实际电流响应率,再将实际电流响应率与理论分析的电流响应率相比,同时消除芯片表面Si O2钝化层光学透过率的影响,计算出器件对红外波段2~6μm辐射响应的量子效率最高可达35%,达到了国外同类型器件响应的量子效率指标。本文的研究为评价In As/Ga SbⅡ类超晶格红外探测器的光电转换性能提供了一种有效的方法。 展开更多
关键词 inas/gasb类超晶格 电性能测试 光谱响应 电流响应率 量子效率
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MBE生长InAs/GaSb Ⅱ类超晶格材料的界面控制方法分析
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作者 任洋 李俊斌 +7 位作者 覃钢 杨晋 李艳辉 周旭昌 杨春章 常超 孔金丞 李东升 《红外技术》 CSCD 北大核心 2021年第4期301-311,共11页
本文系统地介绍了MBE外延生长In As/Ga SbⅡ类超晶格材料的界面控制方法,主要包括生长中断法、表面迁移增强法、V族元素浸润法和体材料生长法。短波(中波)In As/Ga Sb超晶格材料界面采用混合(mixed-like)界面,控制方法以生长中断法为主... 本文系统地介绍了MBE外延生长In As/Ga SbⅡ类超晶格材料的界面控制方法,主要包括生长中断法、表面迁移增强法、V族元素浸润法和体材料生长法。短波(中波)In As/Ga Sb超晶格材料界面采用混合(mixed-like)界面,控制方法以生长中断法为主;长波(甚长波)超晶格材料界面采用InSb-like界面,控制方法采用表面迁移增强法(migration-enhancedepitaxy,MEE)或Sbsoak法及体材料生长相结合。讨论分析了InAs/GaSb超晶格材料界面类型选择的依据,简述了界面控制具体实施理论,以及相关研究机构对于不同红外探测波段的超晶格材料界面类型及控制方法的选择。通过界面结构外延生长工艺设计即在界面控制方法的基础上进行快门顺序实验设计,有效地提高界面层的应力补偿效果,这对于长波、甚长波及双色(甚至多色)超晶格材料的晶体质量优化和器件性能提升具有重要意义。 展开更多
关键词 inas/gasb类超晶格 InSb-like界面 GaAs-like界面 生长中断法 MEE
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InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波焦平面阵列台面ICP刻蚀技术研究
20
作者 王海澎 木迎春 +8 位作者 彭秋思 黄佑文 李俊斌 龚晓丹 刘玥 敖雨 周旭昌 李东升 孔金丞 《红外技术》 CSCD 北大核心 2022年第10期1027-1032,共6页
本文采用SiO_(2)/SiN作为掩膜对InAs/GaSbⅡ类超晶格红外材料进行感应耦合等离子体(ICP)刻蚀条件研究,得到InAs/GaSbⅡ类超晶格较好的刻蚀条件以提升红外探测器性能。对ICP刻蚀过程中容易出现台面侧向钻蚀以及台面底部钻蚀两种现象进行... 本文采用SiO_(2)/SiN作为掩膜对InAs/GaSbⅡ类超晶格红外材料进行感应耦合等离子体(ICP)刻蚀条件研究,得到InAs/GaSbⅡ类超晶格较好的刻蚀条件以提升红外探测器性能。对ICP刻蚀过程中容易出现台面侧向钻蚀以及台面底部钻蚀两种现象进行了详细研究,通过增加SiO_(2)膜层厚度以及减小Ar气流量,可有效减少台面侧向钻蚀;通过减小下电极射频功率(RF),可有效消除台面底部钻蚀。采用适当厚度的SiO_(2)/SiN掩膜以及优化后的ICP刻蚀参数可获得光亮平整的刻蚀表面,表面粗糙度达到0.193 nm;刻蚀台面角度大于80°,刻蚀选择比大于8.5:1;采用优化后的ICP刻蚀条件制备的长波640×512焦平面器件暗电流密度降低约1个数量级,达到3×10^(-4)A/cm2,响应非均匀性、信噪比以及有效像元率等相关指标均有所提高,并获得了清晰的焦平面成像图。 展开更多
关键词 inas/gasb类超晶格 SiO2/SiN掩膜 ICP刻蚀
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