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InP基PHEMT欧姆接触低温合金化工艺的研究 被引量:1
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作者 李潇 张海英 +3 位作者 李海鸥 尹军舰 刘亮 陈立强 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第10期15-18,共4页
对InP基PHEMT的源漏欧姆接触低温合金化工艺进行了研究,与常规的合金工艺不同,通过在低温下进行合金化,并采用金属面倒置和快速热退火的办法,制成了比接触电阻为1.26×10-3Ω·cm2 形貌良好的欧姆接触。避免了PHEMT各层化合物... 对InP基PHEMT的源漏欧姆接触低温合金化工艺进行了研究,与常规的合金工艺不同,通过在低温下进行合金化,并采用金属面倒置和快速热退火的办法,制成了比接触电阻为1.26×10-3Ω·cm2 形貌良好的欧姆接触。避免了PHEMT各层化合物半导体之间的相互作用和分解,以及能带结构变化引起的二维电子气退化,也大大减弱了高温带来的肖特基势垒层中的杂质元素往沟道内扩散引起二维电子气迁移率下降的问题。 展开更多
关键词 磷化铟 赝配超晶格高电子辽移率晶体管 低温合金 欧姆接触
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太赫兹InP基InAlAs/InGaAs PHEMTs的研制(英文) 被引量:3
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作者 王志明 黄辉 +6 位作者 胡志富 赵卓彬 崔玉兴 孙希国 李亮 付兴昌 吕昕 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第2期135-139,共5页
研制了一种T型栅长为90 nm的InP基In_(0.52)Al_(0.48)As/In_(0.65)Ga_(0.35)As赝配高电子迁移率晶体管(PHEMTs).该器件的总栅宽为2×25μm,展现了极好的DC直流和RF射频特性,其最大饱和电流密度和最大有效跨导分别为894 m A/mm和1 64... 研制了一种T型栅长为90 nm的InP基In_(0.52)Al_(0.48)As/In_(0.65)Ga_(0.35)As赝配高电子迁移率晶体管(PHEMTs).该器件的总栅宽为2×25μm,展现了极好的DC直流和RF射频特性,其最大饱和电流密度和最大有效跨导分别为894 m A/mm和1 640 m S/mm.采用LRM+(Line-Reflect-Reflect-Match)校准方法实现系统在1~110 GHz全频段内一次性校准,减小了传统的分段测试多次校准带来的误差,且测试数据的连续性较好.在国内完成了器件的1~110 GHz全频段在片测试,基于1~110 GHz在片测试的S参数外推获得的截止频率ft和最大振荡频率f_(max)分别为252 GHz和394 GHz.与传统的测试到40 GHz外推相比,本文外推获得的f_(max)更加准确.这些结果的获得是由于栅长的缩短,寄生效应的减小以及1~110 GHz全频段在片测试的实现.器件的欧姆接触电阻率减小为0.035Ω·mm. 展开更多
关键词 磷化铟 赝配高电子迁移率晶体管 INALAS/INGAAS 在片测试 单片集成电路
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InAlAs/InGaAs/InP基PHEMTs小信号建模及低噪声应用(英文) 被引量:1
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作者 刘军 于伟华 +3 位作者 杨宋源 侯彦飞 崔大胜 吕昕 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第6期683-687,共5页
利用改进的小信号模型对采用100nmInAlAs/InGaAs/InP工艺设计实现的PHEMTs器件进行建模,并设计实现了一款W波段单片低噪声放大器进行信号模型的验证。为了进一步改善信号模型低频S参数拟合差的精度,该小信号模型考虑了栅源和栅漏二极管... 利用改进的小信号模型对采用100nmInAlAs/InGaAs/InP工艺设计实现的PHEMTs器件进行建模,并设计实现了一款W波段单片低噪声放大器进行信号模型的验证。为了进一步改善信号模型低频S参数拟合差的精度,该小信号模型考虑了栅源和栅漏二极管微分电阻,在等效电路拓扑中分别用Rfs和Rfd表示.为了验证模型的可行性,基于该信号模型研制了W波段低噪声放大器单片.在片测试结果表明:最大小信号增益为14.4dB@92.5GHz,3dB带宽为25GHz@85-110GHz.而且,该放大器也表现出了良好的噪声特性,在88GHz处噪声系数为4.1dB,相关增益为13.8dB.与同频段其他芯片相比,该放大器单片具有宽3dB带宽和高的单级增益. 展开更多
关键词 InAlAs/InGaAs/inp 赝高电子迁移率晶体管(phemts) 小信号模型 毫米波和亚毫米波 单片微波集成电路(MMIC) 低噪声放大器
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一种新的高成品率InP基T型纳米栅制作方法 被引量:7
4
作者 石华芬 张海英 +3 位作者 刘训春 陈宝钦 刘明 王云翔 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期411-415,共5页
提出了一种新的 PMMA/ PMGI/ PMMA三层胶复合结构 ,通过一次对准和电子束曝光、多次显影在 In PPHEMT材料上制作出高成品率的 T型纳米栅 .在曝光显影条件变化 2 0 %的情况下 ,In P HEMT成品率达到 80 %以上 ;跨导变化范围在 5 90~ 6 10... 提出了一种新的 PMMA/ PMGI/ PMMA三层胶复合结构 ,通过一次对准和电子束曝光、多次显影在 In PPHEMT材料上制作出高成品率的 T型纳米栅 .在曝光显影条件变化 2 0 %的情况下 ,In P HEMT成品率达到 80 %以上 ;跨导变化范围在 5 90~ 6 10 m S/ mm,夹断电压为 - 1.0~ - 1.2 V,器件的栅长分布均匀 .这种新的结构工艺步骤少 ,工艺宽容度大 ,重复性好 。 展开更多
关键词 inp 制作方法 三层胶复合结构 phemt 电子束曝光 T型纳米栅 磷化铟 电子迁移率晶体管
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D波段InP基高增益低噪声放大芯片的设计与实现(英文) 被引量:2
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作者 刘军 吕昕 +2 位作者 于伟华 杨宋源 侯彦飞 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期144-148,共5页
利用90nmInAlAs/InGaAs/InPHEMT工艺设计实现了两款D波段(110~170GHz)单片微波集成电路放大器.两款放大器均采用共源结构,布线选取微带线.基于器件A设计的三级放大器A在片测试结果表明:最大小信号增益为11.2dB@140GHz,3dB带宽为16GHz,... 利用90nmInAlAs/InGaAs/InPHEMT工艺设计实现了两款D波段(110~170GHz)单片微波集成电路放大器.两款放大器均采用共源结构,布线选取微带线.基于器件A设计的三级放大器A在片测试结果表明:最大小信号增益为11.2dB@140GHz,3dB带宽为16GHz,芯片面积2.6mm×1.2mm.基于器件B设计的两级放大器B在片测试结果表明:最大小信号增益为15.8dB@139GHz,3dB带宽12GHz,在130~150GHz频带范围内增益大于10dB,芯片面积1.7mm×0.8mm,带内最小噪声为4.4dB、相关增益15dB@141GHz,平均噪声系数约为5.2dB.放大器B具有高的单级增益、相对高的增益面积比以及较好的噪声系数.该放大器芯片的设计实现对于构建D波段接收前端具有借鉴意义. 展开更多
关键词 InAlAs/InGaAs/inp 赝高电子迁移率晶体管(phemts) 90nm 单片微波集成电路(MMIC) 放大器 D波段
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固态微波电子学的新进展 被引量:4
6
作者 赵正平 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第1期1-14,47,共15页
固态微波电子学是现代电子学的重要分支之一,其基础材料已由第一代半导体Si和Ge、第二代半导体GaAs和InP,发展到第三代半导体GaN和SiC,石墨烯和金刚石等C基新材料正在进行探索性的研究,其加工工艺的尺寸也已进入纳米尺度,其工作频率已达... 固态微波电子学是现代电子学的重要分支之一,其基础材料已由第一代半导体Si和Ge、第二代半导体GaAs和InP,发展到第三代半导体GaN和SiC,石墨烯和金刚石等C基新材料正在进行探索性的研究,其加工工艺的尺寸也已进入纳米尺度,其工作频率已达到1 THz,应用的频率可覆盖微波毫米波到太赫兹。目前固态微波电子学呈多代半导体材料和器件共同发展的格局。综述了具有代表性的11类固态器件(RF CMOS,SiGe BiCMOS,RF LDMOS,RF MEMS,GaAs PHEMT,GaAs MHEMT,InP HEMT,InP HBT,GaN/SiC HEMT,GFET和金刚石FET)近几年的最新研究进展,详细介绍了有关固态微波电子学的应用需求、技术特点、设计拓扑、关键技术突破和测试结果,分析了当前固态微波电子学总的发展趋势和11类固态微波器件的发展特点和定位。最后介绍了采用3D异构集成技术的射频微系统的最新进展,指出射频微系统是发展下一代射频系统的关键技术。 展开更多
关键词 固态微波电子学 RF CMOS SiGe BIMOS RF LDMOS RF MEMS GAAS phemt GAAS MHEMT inp HEMT inp HBT GaN/SiC HEMT GFET 金刚石FET 射频微系统 3D异构集成
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Design and implementation of 83-nm low noise InP-based InAlAs/InGaAs PHEMTs
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作者 王志明 赵卓彬 +7 位作者 胡志富 黄辉 崔玉兴 孙希国 默江辉 李亮 付兴昌 吕昕 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2015年第8期83-87,共5页
83-nm T-shaped gate InP-based In0.52Al0.48As/In0.65Ga0.35As pseudomorphic high electron mobility transistors (PHEMTs) with excellent DC and RF performance as well as low noise characteristics are reported, including... 83-nm T-shaped gate InP-based In0.52Al0.48As/In0.65Ga0.35As pseudomorphic high electron mobility transistors (PHEMTs) with excellent DC and RF performance as well as low noise characteristics are reported, including a maximum saturation current density/ass of 894 mA/mm, a maximum extrinsic transconductance gm, max of 1640 mS/mm, an extrapolated cutoff frequency ft of 247 GHz and a maximum oscillation frequency fmax of 392 GHz which were based on the measured S-parameters from 1 to 110 GHz. The minimum noise figure (NFmin) measured by the cold-source method is 1 dB at 30 GHz associated with a gain of 14.5 dB at Vds of 0.8 V and Ids of 17 mA. These results were obtained by the combination of increased InAs mole fraction in the channel, gate size scaling, parasitic reduction and the quantization channel. These excellent results make it one of the most suitable devices for millimeter wave (MMW) low noise applications. 展开更多
关键词 inp phemt millimeter wave low noise on-wafer measurement
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Design of InAlAs/InGaAs PHEMTs and small-signal modeling from 0.5 to 110 GHz 被引量:1
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作者 王志明 吕昕 +6 位作者 罗晓斌 崔玉兴 孙希国 默江辉 付兴昌 李亮 何大伟 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2015年第2期72-76,共5页
90-nm T-shaped gate InP-based In_(0.52)Al_(0.48)As/In_(0.6)Ga_(0.4)As pseudomorphic high electron mobility transistors were designed and fabricated with a gate-width of 2×30 μm,a source-drain space of 2... 90-nm T-shaped gate InP-based In_(0.52)Al_(0.48)As/In_(0.6)Ga_(0.4)As pseudomorphic high electron mobility transistors were designed and fabricated with a gate-width of 2×30 μm,a source-drain space of 2.5 μm,and a source-gate space of 0.75 μm.DC,RF and small-signal model characterizations were demonstrated.The maximum saturation current density was measured to be 755 mA/mm biased at V_(gs)=0.6 V and V_(ds)=1.5 V.The maximum extrinsic transconductance was measured to be 1006 mS/mm biased at V_(ds)=—0.1V and V_(ds)=1.5 V.The extrapolated current gain cutoff frequency and maximum oscillation frequency based on S-parameters measured from 0.5 to 110 GHz were 180 and 264 GHz,respectively.The inflection point(the stability factor k=1)where the slope from-10 dB/decade(MSG) to-20 dB/decade(MAG) was measured to be 83 GHz.The smallsignal model of this device was also established,and the S-parameters of the model are consistent with those measured from 0.5-110 GHz. 展开更多
关键词 inp phemts INALAS/INGAAS MMICS small-signal modeling
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