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Growth and Characterization of InSb Thin Films on GaAs(001) without Any Buffer Layers by MBE
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作者 赵晓蒙 张杨 +4 位作者 崔利杰 关敏 王保强 朱战平 曾一平 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2017年第7期177-181,共5页
We report the growth of InSb layers directly on GaAs (001) substrates without any buffer layers by molecular beam epitaxy (MBE). Influences of growth temperature and V/Ⅲ flux ratios on the crystal quality, the su... We report the growth of InSb layers directly on GaAs (001) substrates without any buffer layers by molecular beam epitaxy (MBE). Influences of growth temperature and V/Ⅲ flux ratios on the crystal quality, the surface morphology and the electrical properties of InSb thin films are investigated. The InSb samples with room- temperature mobility of 44600cm2/Vs are grown under optimized growth conditions. The effect of defects in InSb epitaxial on the electrical properties is researched, and we infer that the formation of In vacancy (VIn) and Sb anti-site (SbIn) defects is the main reason for concentrations changing with growth temperature and Sb2/In flux ratios. The mobility of the InSb sample as a function of temperature ranging from 90 K to 360K is demonstrated and the dislocation scattering mechanism and phonon scattering mechanism are discussed. 展开更多
关键词 Growth and Characterization of insb Thin films on GaAs MBE
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InSb-In共晶体磁阻薄膜的制备及特性分析
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作者 李锋 《黑龙江科学》 2024年第12期90-93,共4页
利用纯度为99.99%的铟和锑单质为原料,采用真空蒸发法,制备了InSb-In共晶体磁阻薄膜,对薄膜进行热处理。通过实验对锑化铟薄膜的物相构成、表面形貌进行分析,探讨成膜条件、退火条件等因素对薄膜结构及性能的影响。结果表明,InSb薄膜是I... 利用纯度为99.99%的铟和锑单质为原料,采用真空蒸发法,制备了InSb-In共晶体磁阻薄膜,对薄膜进行热处理。通过实验对锑化铟薄膜的物相构成、表面形貌进行分析,探讨成膜条件、退火条件等因素对薄膜结构及性能的影响。结果表明,InSb薄膜是InSb和In的共晶体。 展开更多
关键词 insb薄膜 真空蒸发 热处理 灵敏度
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Si(111)邻位面衬底上InSb薄膜的外延生长及其可见光电导特性
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作者 杜绍增 方晨旭 +1 位作者 刘婷 李含冬 《半导体光电》 CAS 北大核心 2024年第5期811-816,共6页
锑化铟(InSb)因其在红外探测、高速电子学和量子计算等领域的卓越性能备受关注。文章探索了Si(111)邻位面衬底上InSb薄膜的异质外延生长,并研究了其光电导特性。尝试采用Bi缓冲层结合InSb两步法生长策略解决Si与InSb晶格失配和热膨胀系... 锑化铟(InSb)因其在红外探测、高速电子学和量子计算等领域的卓越性能备受关注。文章探索了Si(111)邻位面衬底上InSb薄膜的异质外延生长,并研究了其光电导特性。尝试采用Bi缓冲层结合InSb两步法生长策略解决Si与InSb晶格失配和热膨胀系数差异大的问题,在平坦Si(111)衬底上获得了高质量InSb(111)单晶薄膜。然而,在具有高密度台阶结构特征的Si(111)斜切衬底表面上生长得到的Bi(001)缓冲层存在大量倒反畴缺陷,在该表面上进一步生长得到的InSb薄膜均为多晶结构。所制备的InSb/Bi/Si异质结构在模拟日光辐照条件下显示出负光电导效应,应与异质结构界面态对InSb层光生载流子的捕获效应有关。 展开更多
关键词 insb薄膜 SI衬底 临位面外延 Bi缓冲层
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溅射法制备InSb薄膜工艺探索——In与Sb的原子比问题 被引量:4
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作者 温作晓 孙承松 +2 位作者 魏永广 关艳霞 周立军 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2001年第7期35-36,共2页
介绍一种基于原子比为 1:1的InSb靶制备原子比为 1:1的InSb薄膜的方法 ,实验结果表明 。
关键词 溅射 insb薄膜 原子比 磁敏元件 磁敏传感器
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InSb红外探测器衬底应力的模拟与分析 被引量:1
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作者 刘家璐 李煜 +3 位作者 刘传洋 刘泽 宋李梅 张廷庆 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期301-305,共5页
根据线性弹性理论集中力的假定 ,计算了矩形膜淀积在InSb衬底上的三维应力分布 ;讨论了钝化膜对InSb衬底应力的影响 ;提出了提高InSb平面二极管可靠性的措施 .
关键词 钝化膜 锑化铟 可靠性 红外探测器 衬底应力
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不同钝化膜对InSb光伏探测器性能影响研究 被引量:2
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作者 龚晓霞 肖婷婷 +6 位作者 杨瑞宇 黎秉哲 尚发兰 孙祥乐 赵宇鹏 陈冬琼 杨文运 《红外技术》 CSCD 北大核心 2020年第10期953-957,共5页
采用3种不同钝化膜制备InSb探测器,测试不同周长/面积比二极管芯片的I-V特性曲线,通过对偏置电压为-0.1 V时的暗电流密度进行比较,分析了表面漏电流对InSb探测器性能的影响。实验结果表明SiO2+SiNx复合膜能大幅度降低器件表面暗电流,C-... 采用3种不同钝化膜制备InSb探测器,测试不同周长/面积比二极管芯片的I-V特性曲线,通过对偏置电压为-0.1 V时的暗电流密度进行比较,分析了表面漏电流对InSb探测器性能的影响。实验结果表明SiO2+SiNx复合膜能大幅度降低器件表面暗电流,C-V测试结果也表明复合钝化膜能大幅度降低了界面固定电荷。将复合钝化膜应用到128×12815μm InSb焦平面探测器上,探测器芯片优值因子R0A≥5×10^4Ω·cm^2,较之前(R0A≈5×10^3Ω·cm^2)得到了极大改善。 展开更多
关键词 钝化膜 insb探测器 暗电流 固定电荷
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真空液相重结晶法改善InSb薄膜的组织和性能 被引量:2
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作者 王元玮 田跃 +1 位作者 汪亮明 和文国 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第6期585-589,共5页
利用真空下氩气保护液相重结晶的方法,对热蒸镀和磁控贱射制得的Insb薄膜进行热处理.X射线衍射和组织分析的结果表明:热处理前薄膜为Insb,In,Sb各相的混合物;重结晶后,基本为InSb单相,InSb晶粒呈规则状外形长大.热处理后室温... 利用真空下氩气保护液相重结晶的方法,对热蒸镀和磁控贱射制得的Insb薄膜进行热处理.X射线衍射和组织分析的结果表明:热处理前薄膜为Insb,In,Sb各相的混合物;重结晶后,基本为InSb单相,InSb晶粒呈规则状外形长大.热处理后室温下的电子迁移率大大提高,由原来的1.31×104cm2/(V·s)提高到4.47×104cm2/(V·s)(热蒸镀)和2.15×103cm2/(V·s)提高到2.04×104cm2/(V·s)(磁控溅射). 展开更多
关键词 真空重结晶 薄膜 制备 锑化铟 组织 半导体
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分子束外延InSb薄膜缺陷分析 被引量:1
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作者 周朋 刘铭 +2 位作者 邢伟荣 尚林涛 巩锋 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2014年第9期1007-1010,共4页
实现高温工作已经成为了第三代红外探测器的重要发展方向。为了达到这个目标,首先要降低探测器材料的各种缺陷。本文主要研究了不同生长条件对InSb分子束外延薄膜的晶体质量的影响,并采用金相显微镜、X射线双晶衍射仪、扫描电子显微镜及... 实现高温工作已经成为了第三代红外探测器的重要发展方向。为了达到这个目标,首先要降低探测器材料的各种缺陷。本文主要研究了不同生长条件对InSb分子束外延薄膜的晶体质量的影响,并采用金相显微镜、X射线双晶衍射仪、扫描电子显微镜及X射线能谱仪等检测手段对外延膜缺陷进行了研究,综合分析了各缺陷的特征、起因、消除方法等。通过优化外延条件,外延膜宏观生长缺陷最低值达到483 cm-2。 展开更多
关键词 insb 缺陷 MBE 薄膜材料
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溅射法制备InSb薄膜工艺探索——In的氧化及热处理保护 被引量:1
9
作者 孙承松 魏永广 +2 位作者 关艳霞 周立军 温作晓 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2001年第8期33-34,共2页
介绍了用RF溅射法制备InSb薄膜时 ,如何克服In的氧化问题的措施及防止InSb薄膜在热处理过程中继续氧化和挥发的方法。对实验结果进行了电镜和俄歇电子能谱测试分析。结果表明 ,只要控制好工艺条件 ,可以获得较好的效果。
关键词 溅射insb薄膜 氧化 热处理
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高Al组分In_(1-x)Al_x Sb/InSb的MBE生长研究 被引量:1
10
作者 尚林涛 刘铭 +2 位作者 周朋 邢伟荣 沈宝玉 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2016年第8期976-979,共4页
高Al(10%~15%)组分的In_(1-x)Al_xSb层可作为势垒层以抑制隧穿暗电流、提高器件工作温度而显得很重要。采用分子束外延的方法对InSb(100)衬底高Al组分的In_(1-x)Al_xSb/InSb外延生长进行了实验探索,确定出了Al组分(约12.5%)... 高Al(10%~15%)组分的In_(1-x)Al_xSb层可作为势垒层以抑制隧穿暗电流、提高器件工作温度而显得很重要。采用分子束外延的方法对InSb(100)衬底高Al组分的In_(1-x)Al_xSb/InSb外延生长进行了实验探索,确定出了Al组分(约12.5%)并讨论了Al组分梯度递变的In_(1-x)Al_xSb缓冲层和生长温度对外延薄膜质量的影响。 展开更多
关键词 insb(100) 高铝 InAlSb 薄膜生长
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热处理条件对溅射法制得的InSb薄膜特性的影响 被引量:2
11
作者 关艳霞 孙承松 温作晓 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2000年第9期15-16,共2页
文中从理论和实验分析了热处理条件对溅射法制得的InSb薄膜特性的影响。热处理温度、时间和升降温速率都对薄膜特性有影响 ,通过实验得出了最佳的热处理温度、恒温时间和升降温速率。最后讨论了热处理过程中所采用的
关键词 insb薄膜 热处理 溅射制膜 霍尔输出特性
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InSb薄膜的真空蒸发及磁敏霍尔元件的制作 被引量:1
12
作者 胡明 刘志刚 +1 位作者 张之圣 王文生 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第5期498-501,共4页
利用单源真空蒸发方法制备InSb薄膜。研究了基片温度控制和膜层厚度对薄膜电子迁移率的影响。室温下测得InSb薄膜的电子迁移率为4×104cm2/V.s,晶粒尺寸达微米数量级。制作的磁敏霍尔元件输入与输出电阻范围为200~500Ω,乘积灵... 利用单源真空蒸发方法制备InSb薄膜。研究了基片温度控制和膜层厚度对薄膜电子迁移率的影响。室温下测得InSb薄膜的电子迁移率为4×104cm2/V.s,晶粒尺寸达微米数量级。制作的磁敏霍尔元件输入与输出电阻范围为200~500Ω,乘积灵敏度达90~150V/A·T。 展开更多
关键词 insb薄膜 真空蒸发 霍尔元件 电子迁移率
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InSb纳米颗粒膜的拉曼光谱研究 被引量:1
13
作者 何焰蓝 孙全 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2005年第9期668-669,共2页
用气体蒸发的方法在蓝宝石和ZnS基片上制备了InSb纳米颗粒膜样品。激光拉曼光谱的测量结果表明,在两种基片上InSb纳米晶样品的拉曼谱变化不大,说明InSb纳米颗粒的形成过程不因基片的不同而改变;同时还可以看到,InSb纳米颗粒膜的拉曼光... 用气体蒸发的方法在蓝宝石和ZnS基片上制备了InSb纳米颗粒膜样品。激光拉曼光谱的测量结果表明,在两种基片上InSb纳米晶样品的拉曼谱变化不大,说明InSb纳米颗粒的形成过程不因基片的不同而改变;同时还可以看到,InSb纳米颗粒膜的拉曼光谱特征峰与其体材料有显著不同,并且随着其颗粒尺寸的减小发生显著的蓝移。 展开更多
关键词 insb纳米颗粒膜 拉曼光谱 蓝移
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真空分层蒸镀InSb薄膜的研究 被引量:1
14
作者 于映 陈抗生 《真空电子技术》 北大核心 1995年第4期33-35,20,共4页
采用双源分层蒸镀的方法制作InSb薄膜,将区域熔融技术用于InSb薄膜的热处理,提高了薄膜的纯度和择优定向程度,室温下电子迁移率达到30000cm2/(V·s)。在此基础上,分析了影响InSb薄膜性能的几个主要因素。
关键词 薄膜 分层蒸镀 电子迁 锑化铟
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分子束外延InSb薄膜材料的表面微观形貌研究
15
作者 周朋 刘铭 《红外》 CAS 2017年第2期7-10,共4页
用原子力显微镜等方法研究了在InSb(001)衬底和(001)偏(111)B面2°衬底上分子束外延生长的同质外延薄膜和掺Al薄膜样品表面的微观形貌。对比了不同衬底同质外延时生长模式的差异,并观察了加入Al后引入的交叉影线,分析了其产生的原... 用原子力显微镜等方法研究了在InSb(001)衬底和(001)偏(111)B面2°衬底上分子束外延生长的同质外延薄膜和掺Al薄膜样品表面的微观形貌。对比了不同衬底同质外延时生长模式的差异,并观察了加入Al后引入的交叉影线,分析了其产生的原因。研究表明,使用有偏角的衬底更有利于减少分子束外延薄膜的表面缺陷。 展开更多
关键词 insb薄膜材料 原子力显微镜 微观形貌 衬底偏角
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InSb光导探测器量子效率研究 被引量:4
16
作者 贾宝军 张新宇 王新宇 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2009年第7期746-748,共3页
在对InSb光导探测器量子效率理论分析的基础上,提出两种可有效提高量子效率的方法及其实现方法,并给出相关的应用结果。
关键词 锑化铟 量子效率 抗反射膜 湿法腐蚀
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一种检测薄膜型InSb-In磁阻元件灵敏度的便捷方法
17
作者 颜健毅 黄钊洪 《传感器世界》 2006年第2期25-28,共4页
本文设计了一种检测方法,它提拱精确可控制、且在一定的条件下磁感应强度的大小是稳定的磁场,同时设计了一种低噪声的放大电路对磁阻元件的输出进行测量。利用这个装置,可以精确地测量薄膜式InSb-In磁阻元件的灵敏度。本文检测并讨论了... 本文设计了一种检测方法,它提拱精确可控制、且在一定的条件下磁感应强度的大小是稳定的磁场,同时设计了一种低噪声的放大电路对磁阻元件的输出进行测量。利用这个装置,可以精确地测量薄膜式InSb-In磁阻元件的灵敏度。本文检测并讨论了磁阻式Insb-In磁阻元件在一定的磁偏置的条件下,外加磁感应强度B与磁阻元件的电阻值的变化率间的关系,从而提出了一种精确、便捷的薄膜型InSb-In磁阻元件的测量方法。 展开更多
关键词 薄膜磁阻元件 insb-IN 灵敏度 检测 均匀磁场 磁感应强度
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InSb薄膜制备工艺技术研究 被引量:2
18
作者 刘佩瑶 于成民 王晓雯 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 1996年第2期18-21,共4页
本文介绍了InSb薄膜制备工艺技术的研究成果,系统地阐述了InSb薄膜的工艺机理与制备技术,指出了制备InSb薄膜过程中所需解决的技术关键,并总结了制备InSb薄膜的工艺条件和实验结果.
关键词 薄膜 磁敏元件 制备工艺
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CCl_2F_2等离子体干法刻蚀InSb-In薄膜的研究 被引量:1
19
作者 赵智昊 陈俊芳 +2 位作者 黄钊洪 吴先球 熊予莹 《传感器技术》 CSCD 北大核心 2003年第4期8-10,共3页
用朗缪尔探针诊断了反应室内的等离子体密度,研究了CCl2F2等离子体对InSb In薄膜的刻蚀,结果表明该实验装置能够产生高密度等离子体,在刻蚀样品表面等离子体密度达到6.7170×1010cm-3,CCl2F2等离子体能有效地对InSb In薄膜进行刻蚀。
关键词 等离子体 干法刻蚀 锑化铟-铟薄膜 CCl2F2 insb-In薄膜 磁传感器
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InSb 薄膜磨抛工艺技术的研究 被引量:1
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作者 孔海霞 于成民 +1 位作者 孙仁涛 刘佩瑶 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 1998年第10期13-15,共3页
】在InSb薄膜制备过程中,用机械磨抛的方法,探索了In2O3氧化膜的去除和InSb敏感膜层的减薄、抛光等技术问题,从而提出一种新型磨抛工艺。文章介绍了该工艺的基本原理及不同工艺规范的磨抛结果。
关键词 insb薄膜 磨抛工艺 补偿技术 传感器
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