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InSb薄膜制备工艺技术研究
被引量:
2
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作者
刘佩瑶
于成民
王晓雯
《仪表技术与传感器》
CSCD
北大核心
1996年第2期18-21,共4页
本文介绍了InSb薄膜制备工艺技术的研究成果,系统地阐述了InSb薄膜的工艺机理与制备技术,指出了制备InSb薄膜过程中所需解决的技术关键,并总结了制备InSb薄膜的工艺条件和实验结果.
关键词
薄膜
磁敏元件
制备工艺
下载PDF
职称材料
题名
InSb薄膜制备工艺技术研究
被引量:
2
1
作者
刘佩瑶
于成民
王晓雯
机构
沈阳仪器仪表工艺研究所
出处
《仪表技术与传感器》
CSCD
北大核心
1996年第2期18-21,共4页
文摘
本文介绍了InSb薄膜制备工艺技术的研究成果,系统地阐述了InSb薄膜的工艺机理与制备技术,指出了制备InSb薄膜过程中所需解决的技术关键,并总结了制备InSb薄膜的工艺条件和实验结果.
关键词
薄膜
磁敏元件
制备工艺
Keywords
insb
,
thin film
,
process
,
magnetie element
分类号
O484 [理学—固体物理]
TM215.3 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
InSb薄膜制备工艺技术研究
刘佩瑶
于成民
王晓雯
《仪表技术与传感器》
CSCD
北大核心
1996
2
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职称材料
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