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离子束辅助沉积制备TaN薄膜的X射线衍射分析
被引量:
6
1
作者
梅显秀
张庆瑜
+2 位作者
马腾才
王煜明
滕凤恩
《真空科学与技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998年第6期405-408,共4页
利用离子束辅助沉积技术制备TaN薄膜,并对其进行X射线衍射分析。掠入射的X射线衍射分析得出:离子束辅助沉积制备的TaN薄膜是面心立方结构,晶格常数a为0.4405nm。根据X射线衍射分析,用屈服强度表征的TaN薄膜的显微硬度为16~20GPa...
利用离子束辅助沉积技术制备TaN薄膜,并对其进行X射线衍射分析。掠入射的X射线衍射分析得出:离子束辅助沉积制备的TaN薄膜是面心立方结构,晶格常数a为0.4405nm。根据X射线衍射分析,用屈服强度表征的TaN薄膜的显微硬度为16~20GPa,与文献上报道的显微硬度值接近。离子束辅助沉积制备的TaN薄膜宏观内应力较小,且都为压应力。晶粒尺寸大约在10nm左右,随着注入离子能量的增加,薄膜晶粒尺寸有长大的趋势。
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关键词
离子束辅助沉积
氮化钽
薄膜
X射线衍射分析
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职称材料
题名
离子束辅助沉积制备TaN薄膜的X射线衍射分析
被引量:
6
1
作者
梅显秀
张庆瑜
马腾才
王煜明
滕凤恩
机构
大连理工大学三束材料改性国家重点实验室
吉林大学材料科学系
出处
《真空科学与技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998年第6期405-408,共4页
文摘
利用离子束辅助沉积技术制备TaN薄膜,并对其进行X射线衍射分析。掠入射的X射线衍射分析得出:离子束辅助沉积制备的TaN薄膜是面心立方结构,晶格常数a为0.4405nm。根据X射线衍射分析,用屈服强度表征的TaN薄膜的显微硬度为16~20GPa,与文献上报道的显微硬度值接近。离子束辅助沉积制备的TaN薄膜宏观内应力较小,且都为压应力。晶粒尺寸大约在10nm左右,随着注入离子能量的增加,薄膜晶粒尺寸有长大的趋势。
关键词
离子束辅助沉积
氮化钽
薄膜
X射线衍射分析
Keywords
ion beam assisted deposition
,
tan film
,
x-ray diffraction
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
O484.5 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
离子束辅助沉积制备TaN薄膜的X射线衍射分析
梅显秀
张庆瑜
马腾才
王煜明
滕凤恩
《真空科学与技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998
6
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职称材料
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