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质子和4He离子激发金和铋产生的LX射线的相对强度
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作者 徐君权 许浔江 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 1992年第2期92-97,共6页
利用ECPSSR电离理论和新获得的L次亮层荧光产额等,计算了质子和~4He离子激发Au和Bi所产生的LX射线相对强度。质子能量为0.18—10MeV,~4He离子能量为1.0—4.0MeV。计算结果和报道的实验测量符合得很好。没有发现L次壳层偶合效应。
关键词 PWBA理论 电离截面 lX射线 l次壳层
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钕、镝、镱原子L_1和L_2次壳层的荧光产额
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作者 徐君权 《核技术》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第4期193-195,共3页
分析2MeV质子电高钕、镝和镱产生的LX射线强度谱,求得了L1和L2次亮层的荧光产额.它们的值与理论值、汇编值以及报道的实验值在误差范围内相符.
关键词 电离 荧光产额 镧系元素 l次壳层
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